TH50360A - - Google Patents
Info
- Publication number
- TH50360A TH50360A TH1004061A TH0001004061A TH50360A TH 50360 A TH50360 A TH 50360A TH 1004061 A TH1004061 A TH 1004061A TH 0001004061 A TH0001004061 A TH 0001004061A TH 50360 A TH50360 A TH 50360A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- tin
- layer
- oxide
- main component
- oxides
- Prior art date
Links
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 6
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims abstract 5
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 5
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 abstract 1
Abstract
DC60 (10/01/44) แผ่นกระจกที่มีฟิล์มอ๊อกไซด์ของโลหะจะถูกจัดให้มีโดยที่ความหยาบที่ผิวฟิล์มจะถูกลด ลงในขณะที่ชั้นที่อ๊อกไซด์ของ ดีบุกเป็นองค์ประกอบหลักและมีความหนาที่ถูกต้องการสำหรับการ ทำ ให้ได้คุณสมบัติที่ต้องการตามคุณสมบัติควบคุมแสงอาทิตย์, การปล่อยออกต่ำ, การนำไฟฟ้า หรืออื่น ๆ จะถูกสร้าง บนแผ่น กระจก 5, ชั้นที่หนึ่ง 1 ที่มีอ๊อกไซด์ของดีบุกเป็นองค์ ประกอบหลัก, ชั้น 2 ที่มีอ๊อกไซด์ของซิลิกอนเป็นองค์ประกอบ หลัก, ชั้นที่สอง 3 ที่มีอ๊อกไซด์ของดีบุกเป็นองค์ ประกอบ หลัก, ชั้นด้านนอกสุด 4 (ชั้นที่มีอ๊อกไซด์ของดีบุกเป็น องค์ประกอบหลัก) จะถูกทำเป็นชั้น ตามลำดับ ความหนารวมของชั้น ที่มีอ๊อกไซด์ของดีบุกเป็นองค์ประกอบหลักจะถูกกำหนด เป็นอย่าง น้อย 150 nm ในชั้นด้านนอกสุด ความเข้มข้นของ ฟลูออรีนจะถูกปรับเป็น 0.5 ถึ 2 wt% หรือความ เข้มข้นของ พลวงจะถูกปรับให้อยู่ในช่วง 0.05 และ 0.2 เมื่อถูกแสดงเป็น อัตราส่วนโมลของพลวง ต่อดีบุก ความหยาบเฉลี่ยทางคณิตศาตร์ Ra ของผิวของฟิล์มอ๊อกไซด์ของโลหะจะถูกกำหนดเป็น 10 nm หรือน้อยกว่า แผ่นกระจกที่มีฟิล์มอ๊อกไซด์ของโลหะจะถูกจัดให้มีโดยที่ความหยาบที่ผิวฟิล์มจะถูกลด ลงในขณะที่ชั้นที่อ๊อกไซด์ของ ดีบุกเป็นองค์ประกอบหลักและมีความหนาที่ถูกต้องการสำหรับการ ทำ ให้ได้คุณสมบัติที่ต้องการตามคุณสมบัติควบคุมแสงอาทิตย์, การปล่อยออกต่ำ, การนำไฟฟ้า หรืออื่น ๆ จะถูกสร้าง บนแผ่น กระจก 5, ชั้นที่หนึ่ง 1 ที่มีอ๊อกไซด์ของดีบุกเป็นองค์ ประกอบหลัก, ชั้น 2 ที่มีอ๊อกไซด์ของซิลิกอนเป็นองค์ประกอบ หลัก, ชั้นที่สอง 3 ที่มีอ๊อกไซด์ของดีบุกเป็นองค์ ประกอบ หลัก, ชั้นด้านนอกสุด 4 (ชั้นที่มีอ๊อกไซด์ของดีบุกเป็น องค์ประกอบหลัก) จะถูกทำเป็นชั้น ตามลำดับ ความหนารวมของชั้น ที่มีอ๊อกไซด์ของดีบุกเป็นองค์ประกอบหลักจะถูกกำหนด เป็นอย่าง น้อย 150 nm ในชั้นด้านนอกสุด ความเข้มข้นของ ฟลูออรีนจะถูกปรับเป็น 0.5 ถึ 2 wt% หรือความ เข้มข้นของ พลวงจะถูกปรับให้อยู่ในช่วง 0.05 และ 0.2 เมื่อถูกแสดงเป็น อัตราส่วนโมลของพลวง ต่อดีบุก ความหยาบเฉลี่ยทางคณิตศาตร์ Ra ของผิวของฟิล์มอ๊อกไซด์ของโลหะจะถูกกำหนดเป็น 10 nm หรือน้อยกว่า
Claims (1)
1. แผ่นกระจกที่มีฟิล์มอ๊อกไซด์ของโลหะประกอบด้วย : แผ่นกระจก ; และ ฟิล์มอ๊อกไซด์ของโลหะที่ประกอบด้วยอย่างน้อยหนึ่งชั้นที่ มีอ๊อกไซด์ของดีบุก เป็นองค์ประกอบหลักซึ่งจะถูกสร้างบนผิว ของแผ่นกระจก, โดยที่ความหนารวมของอย่างน้อยหนึ่งชั้นที่มีอ๊อกไซด์ของ ดีบุกเป็นองค์ประกอบ หลักเป็นอย่างน้อย 150 nm, ชั้นของ อย่างน้อยหนึ่งชั้นที่มีอ๊อกไซด์ของดีบุกเป็นองค์ประกอบ หลักที่ ถูกวางต่อจากแผ่นกระจกมีอย่างน้อยกนึ่งที่ถูกเลือก จากฟลูออรีนและพลวง และความหยาบเฉลี่ย ทางคแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH50360A true TH50360A (th) | 2002-04-01 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4730300B2 (ja) | 透明導電膜及びそれを用いた透明導電性基材 | |
| EP1329307A4 (en) | TRANSPARENT LAMINATE WITH LOW EMISSION | |
| EP1886799A3 (en) | Transparent electroconductive laminate and transparent touch panel using the same | |
| JP6090322B2 (ja) | 積層体 | |
| WO2006067102A3 (fr) | Feuille de verre portant un empilage multi-couches | |
| TW200614279A (en) | Transparent conductive multilayer body and transparent touch panel | |
| PT1451634E (pt) | Eléctrodo de dispositivos electro químicos e/ou electro comandáveis | |
| JP2005515955A5 (th) | ||
| EP1722271A3 (en) | Phase-shift photomask-blank, phase-shift photomask and fabrication method thereof | |
| EP1300889A3 (en) | Photovoltaic Element and Photovoltaic Device | |
| TW200918804A (en) | Light output device | |
| WO2009122090A3 (fr) | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques | |
| WO2007040039A8 (ja) | 太陽電池モジュール用封止フィルムおよび太陽電池モジュール | |
| WO2005090255A3 (en) | Glazing panel | |
| EP1484800A4 (en) | QUANTUM DEVICE | |
| EP0801150A3 (de) | Elektronisches Bauelement | |
| KR20120083547A (ko) | 전자 장치용 배선 기판, 그 제조 방법 및 터치패널 | |
| JP5953592B2 (ja) | 透明熱線反射積層体 | |
| EE04775B1 (et) | Laseriga märgistatav, läbipaistev, orienteeritud polüolefiinkile, selle valmistamine ja kasutamine | |
| WO2008011295A3 (en) | Biaxially oriented laminated polyester film for transfer applications | |
| WO2007008643A3 (en) | Insulating glass (ig) window unit including heat treatable coating with specific color characteristics and low sheet resistance | |
| JP2009516926A (ja) | ガラス製品 | |
| WO2009078682A3 (en) | Transparent conductive film and method for preparing the same | |
| EP1777588A3 (en) | Fabrication method of photomask-blank | |
| TH50360A (th) |