TH48175B

TH48175B - Exfoliation method Polishing device, glass base layer for magnetic recording media. and magnetic recording media

Info

Publication number: TH48175B
Application number: TH1001001118A
Authority: TH
Inventors: มิยาโมโตะ นายทาเคมิ; ทานาเบ นายชิโนบุ นากาเซ นายซาโตชิ ชิบูอิชิ นายเคนจิ อาราอิ นายฮิซาเทรุ
Original assignee: คาโอ คอร์ปอเรชั่น; นายวินยาธกร ใจเอก นายปรารถนา อุบลสุวรรณ; โฮยา คอร์ปอเรชั่น
Filing date: 1998-09-29
Publication date: 2016-02-23

Abstract

DC60 (02/10/58) จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิวและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับที่สูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการจุ่มลงในของเหลวขัดถู 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบนอกด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบนอกด้านใน แก้ไขบทสรุปการประดิษฐ์ 2/10/2558 จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิวและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับที่สูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการขัดถูกในของเหลวขัดถูก 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูกอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบด้านใน ----------------------------------------------------- วันที่แก้ไข 02/10/58 จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิดและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับสูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1 ) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการขัดถูในของเหลวขัดถู 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบนอกด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบนอกด้านใน ........................................................................................................................ จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิวและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับที่สูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการจุ่มลงในของเหลวขัดถู 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบนอกด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบนอกด้านในDC60 (02/10/58) discloses a polishing method and a polishing apparatus, wherein it is possible to achieve a high degree of cleaning of the surface of a glass substrate. The glass substrate (MD 1 glass substrate), having the shape of a circular disk with circular holes in the center, is immersed in a polishing fluid 50 containing free abrasive grains, and the inner peripheral surface of the glass substrate is polished by using the abrasive fluid containing free abrasive grains by rotating four rotating brushes or polishing pads in contact with the inner peripheral surfaces. Edit Brief of Invention 2/10/2015 discloses a polishing method and a polishing apparatus, wherein it is possible to achieve a high degree of cleaning of the surface of a glass substrate. The glass substrate (MD 1 glass substrate), having the shape of a circular disk with circular holes in the center, is polished in a polishing fluid 50 containing free abrasive grains, and the inner peripheral surface of the glass substrate is polished by using The free abrasive grains are packed in a polishing fluid by rotating four rotating brushes or polishing pads in contact with the inner peripheral surfaces. ----------------------------------------------------- Date revised 02/10/58 Disclosed will reveal the polishing methods and polishing apparatus, wherein it is possible to achieve a high level of cleaning of the surface of the glass substrate. The glass substrate (MD1 glass substrate), which is in the form of a circular disk with a circular hole in the center, is rubbed in the polishing fluid 50 containing free abrasive grains, and the inner peripheral surface of the glass substrate is polished by using the free abrasive grains packed in a polishing fluid by rotating four rotating brushes or polishing pads in contact with the inner peripheral surfaces. ................................................................................................................................ Disclosed will reveal the polishing methods and polishing apparatus, wherein it is possible to achieve a high level of cleaning of the surface of the glass substrate. The glass substrate (MD1 glass substrate), which is in the form of a circular disk with a circular hole in the center, is immersed in the polishing fluid 50 containing free abrasive grains. And the inner outer surface of the glass base layer will be polished by using a polishing liquid containing free abrasive particles by rotating four rotating brushes or polishing pads in contact with the inner outer surface.

Claims

1. Cosmetic composition for hair Which contains (A) glycine or alanin, (B) X-hydroxy acid, B-hydroxy acid, 1.2-dicarboxylic acid, 1.3-dicarboxy acid. Silicic or aromatic carboxylic acids and (C) cat-ionic surfactants.

2. Cosmetic composition for hair According to claim 1, where the ionic catalytic surfactant (C) is the ammonium quaternary salt represented by the following formula (1) (chemical formula), where R1, R2, At least one R3 and R4 represent