TH42372ATH9601001840ATH9601001840ATH42372ATH 42372 ATH42372 ATH 42372ATH 9601001840 ATH9601001840 ATH 9601001840ATH 9601001840 ATH9601001840 ATH 9601001840ATH 42372 ATH42372 ATH 42372A
เตรียม HCI ที่ทำให้มีความบริสุทธิ์สูง เพื่อใช้ในการผลิตขึ้น ณ. ที่ใช้ โดยการ ดึงไอ HCI จากที่เก็บ HCI เหลว และการล้างไอที่กรองแล้วในเครื่องล้างด้วย น้ำที่มีพีเอชต่ำ Prepared high purity HCI For use in production at the time of use by extracting the HCI vapor from the liquid HCI container and cleaning the filtered vapor in the washing machine. Water with low pH
Claims (1)
1. ระบบย่อย ณ. ที่ใช้ ในโรงงานผลิตอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำ เพื่อการรีเอ เจนต์ที่มีความบริสุทธิ์สูงระดับอัลตรา ที่ประกอบ ด้วย HCI ต่อการดำเนินการการผลิตสาร กึ่งตัวนำ ที่ประกอบ ด้วย : แหล่งการระเหยแรกที่ต่ออยู่เพื่อรองรับแหล่งของเหลว HCI และเพื่อให้ กระแสไอ HCI จากที่นั้น ; กระแสไอ HCI ที่กล่าวแล้วต่ออยู่เพื่อผ่านไปยังหน่วยเครื่อง ทำให้บริสุทธิ์ จากไอออนซึ่งให้ปริมาตรการหมุนเวียนกลับของ น้ำที่มีความบริสุทธิ์สูง ที่มีความเข้มข้นสูง ของกรดไฮโดร คลอริก ที่สัมผัแท็ก :1. Subsystem at the semiconductor equipment factory for ultra-high purity reagent with HCI per semiconductor production operation consisting of: the first evaporation source at Connected to accommodate the HCI fluid source and to provide the HCI vapor flow from there; The said HCI flow is connected to the unit. Purify From ions which provide the reverse circulation volume of High purity water With high concentrations of hydrochloric acid exposed to: