TH37838A3 - สารผสมสำหรับขัดเงา และวิธีการสำหรับขัดเงา - Google Patents
สารผสมสำหรับขัดเงา และวิธีการสำหรับขัดเงาInfo
- Publication number
- TH37838A3 TH37838A3 TH9901002296A TH9901002296A TH37838A3 TH 37838 A3 TH37838 A3 TH 37838A3 TH 9901002296 A TH9901002296 A TH 9901002296A TH 9901002296 A TH9901002296 A TH 9901002296A TH 37838 A3 TH37838 A3 TH 37838A3
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- polishing
- buffer
- alkali
- percent
- weak acid
- Prior art date
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title abstract 3
- 238000000034 method Methods 0.000 title 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract 3
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims abstract 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N Heavy water Chemical compound [2H]O[2H] XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N 0.000 abstract 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 abstract 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- -1 ammonia metals Chemical class 0.000 abstract 2
- 239000007853 buffer solution Substances 0.000 abstract 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract 2
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 abstract 2
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 abstract 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 abstract 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 abstract 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract 1
Abstract
DC60 (20/08/42) การประดิษฐ์นี้ คือสารผสมสำหรับขัดเงาที่ประกอบด้วยสารละลาย คอลลอยดัลที่มี องค์ประกอบ เป็นอนุภาคซิลิคอนออกไซด์ที่มีเส้นผ่าศูนย์กลางโดย เฉลี่ย 8 ถึง 500 นาโนเมตร 1 ถึง 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำ หนัก สารละลายคอลลอยดังดังกล่าวได้รับการเตรียม ขึ้นเป็นสารละลายบัฟเฟอร์ที่มีการ ออกฤทธิ์เป็นบัฟ เฟอร์ระหว่าง pH 8.7 ถึง 10.6 โดยการเติมสารผสม ร่วมที่เป็นกรดอ่อน และไฮดรอกไซด์ ของ โลหะ อัลคาไล หรือแอมโมเนีย ซึ่งลอกการิธึมของตัวเลข ส่วนกลับของค่าที่ของการแตกตัวของกรดที่ อุณหภูมิ 25 องศาเซลเซียสของกรดอ่อนดังกล่าว เท่ากับ 8.0 ถึง 12.0 นอกจากนี้ การประดิษฐ์นี้ ยังได้แก่วิธีการขัดเงา ของแว่นผลึกซิลิคอนโดยสาร ผสมสำหรับขัดเงาดังกล่าว การประดิษฐ์นี้ คือสารผสมสำหรับขัดเงาที่ประกอบด้วยสารละ ลาย คอลลอยดัลที่มี องค์ประกอบ เป็นอนุภาคซิลิคอนออกไซด์ที่มีเส้นผ่าศูนย์กลางโดย เฉลี่ย 8 ถึง 500 นาโนเมตร 1 ถึง 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำ หนัก สารละลายคอลลอยดังดังกล่าวได้รับการเตรียม ขึ้นเป็นสารละลายบัฟเฟอร์ที่มีการ ออกฤทธิ์เป็นบัฟ เฟอร์ระหว่าง pH 8.7 ถึง 10.6 โดยการเติมสารผสม ร่วมที่เป็นกรดอ่อน และไฮดรอกไซด์ ของ โลหะ อัลคาไล หรือแอมโมเนีย ซึ่งลอกการิธึมของตัวเลข ส่วนกลับของค่าที่ของการแตกตัวของกรดที่ อุณหภูมิ 25 องศาเซลเซียสของกรดอ่อนดังกล่าว เท่ากับ 8.0 ถึง 12.0 นอกจากนี้ การประดิษฐ์นี้ ยังได้แก่วิธีการขัดเงา ของแว่นผลึกซิลิคอนโดยสาร ผสมสำหรับขัดเงาดังกล่าว
Claims (1)
1. สารผสมสำหรับขัดเงาที่ประกอบด้วยสารละลายคอลลอยดัลที่มีองค์ประกอบเป็น อนุภาคซิลิ คอนออกไซด์ ที่มีเส้นผ่าศูนย์กลางโดยเฉลี่ย 8 ถึง 500 นาโนเมตร 1 ถึง 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สาร ละลายคอลลอยดัลดังกล่าวได้รับการเตรียมขึ้น เป็น สาร ละลายบัฟเฟอร์ที่มีการออกฤทธิ์เป็นบัฟเฟอร์ ระหว่าง pH 8.7 ถึง 10.6 โดยการเติมสารผสมร่วมที่ เป็นกรดอ่อน และไฮดรอกไซด์ของโลหะอัลคาไล หรือ แอมโมเนีย ซึ่งลอกการิธึมของตัวเลขส่วนกลับ ของค่าคงที่ของการแตกตัวของกรดที่อุณหภูมิ 25 องศาเซลเซียสของกรดอ่อนดังกลแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH37838A3 true TH37838A3 (th) | 2000-03-27 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100404469C (zh) | 促凝剂混合物 | |
| DE60210833D1 (de) | Schleifmittelzusammensetzung und dieses gebrauchendes Polierverfahren | |
| EP1211024A3 (en) | Polishing method | |
| EP0959116A3 (en) | A polishing compound and a method for polishing | |
| TWI815035B (zh) | 用於多晶矽化學機械拋光(cmp)之組合物及方法 | |
| EP0982765A3 (en) | Cleaning method of semiconductor substrate | |
| CN102618249A (zh) | 一种海水基压裂液及其制备方法 | |
| TW201111488A (en) | Polishing liquid composition for silicon wafers | |
| DE50114784D1 (de) | Wässrige Dispersion, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung | |
| CN103131405A (zh) | 一种适用于160℃地层温度的高温海水基压裂液及其制备方法 | |
| IL165462A0 (en) | Aqueous solution of non-colloidal silicic acid an d boric acid | |
| GB1564670A (en) | Process and self-acidifying liquid system for dissolving a siliceous material in a remote | |
| CA2545332A1 (en) | Exhaust gas catalyst | |
| TW201724236A (zh) | 研磨方法及雜質去除用組成物以及基板及其製造方法 | |
| EP1050532A3 (en) | Preparation of s,s and r,s amino acid isosteres | |
| CA2388771A1 (en) | Surfactant compositions for well cleaning | |
| TH37838A3 (th) | สารผสมสำหรับขัดเงา และวิธีการสำหรับขัดเงา | |
| TW428022B (en) | A polishing compound and a method for polishing | |
| DE50103606D1 (de) | Mittel zur färbung von fasern | |
| CN110527603A (zh) | 重油垢清洗剂 | |
| JP2017128499A5 (th) | ||
| JP2009138041A (ja) | 地盤改良材及び地盤改良材の製造方法 | |
| WO2007142804A3 (en) | Preparation of complexing agents and metal ion complexes in aqueous media | |
| JP2001115151A (ja) | １液式水系撥水処理剤及び２液式水系撥水処理剤並びに無機材表面の撥水処理方法 | |
| BR0015685A (pt) | Dispersão coloidal de um composto de cério, processo de preparação da mesma e utilização da mesma |