TH37412A - สารต้นกำเนิดที่มีอัลกอฮอล์เป็นองค์ประกอบสำหรับผลิตฟิล์มบางที่เป็นซิลิคานาโนพอรัส - Google Patents
สารต้นกำเนิดที่มีอัลกอฮอล์เป็นองค์ประกอบสำหรับผลิตฟิล์มบางที่เป็นซิลิคานาโนพอรัสInfo
- Publication number
- TH37412A TH37412A TH9801004205A TH9801004205A TH37412A TH 37412 A TH37412 A TH 37412A TH 9801004205 A TH9801004205 A TH 9801004205A TH 9801004205 A TH9801004205 A TH 9801004205A TH 37412 A TH37412 A TH 37412A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- films
- relatively low
- water
- boiling point
- solvent mixtures
- Prior art date
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 title 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title 1
- -1 alkoxy silane Chemical compound 0.000 claims abstract 7
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- 125000005011 alkyl ether group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 abstract 5
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 abstract 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 abstract 2
- JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N trioxidane Chemical compound OOO JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
Abstract
DC60 (15/12/41) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับฟิล์มไดอีเลคตริคนาโนพอรัสและเกี่ยวข้องกับกระบวน การสำหรับการผลิตฟิล์ม ฟิล์มเช่นนี้มี ประโยชน์ในการผลิตวงจรรวม ฟิล์มเช่นนี้ถูกผลิตขึ้นจาก สาร ต้นกำเนิดที่เป็นอัลคอกซีไซเลน สารผสมของตัวทำละลายที่มีระเหย ได้ค่อนข้างต่ำที่ประกอบ ด้วย C1 ถึง C4 อัลคิลอีเธอร์ของ C1 ถึง C4 อัลคิลลีนไกลคอลซึ่งรวมตัวได้ในน้ำ และอัลคอกซี ไซเลนที่มีความเข้มข้นของไฮดรอกซิล 0.0084 โมล/ลูกบาศก์เซน ติเมตรหรือต่ำกว่า มีจุดเดือด ประมาณ 175 องศาเซลเซียส หรือมากกว่าที่ความดันบรรยากาศ และมีน้ำหนักโมเลกุลโดย เฉลี่ยแบบถ่วงน้ำหนักประมาณ 120 หรือมากกว่า สารผสมของตัว ทำละลายที่มีการระเหย ได้ ค่อนข้างสูงอย่างน้อยหนึ่งชนิดที่มีจุดเดือดต่ำกว่าจุด เดือดของสารผสมของตัวทำละลายที่มีการ ระเหยได้ค่อนข้างต่ำ โดยที่อาจเลือกให้มีน้ำอยู่ด้วย และองค์ประกอบเลือกใช้ที่ เป็นกรดใน ปริมาณที่เร่งปฏิกิริยาได้ การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับฟิล์มไดอีเลคคริคนาดนพอรัสและเกี่ยวข้องกับกระบวนการสำหรับการผลิตฟิล์ม ฟิล์มเช่นนี้มี ประโยชน์ในการผลิตวงจรรวม ฟิล์มเช่นนี้ถูกผลิตขึ้นจากสาร ต้นกำเนิดที่เป็นอัลคอกซีไซเลน สารผมของตัวทำละลายที่ระเหย ได้ค่อนข้างต่ำที่ประกอบด้วย C1 ถึง C4 อัลคิลอีเธอร์ของ C1 ถึง C4 อัลคิลลีนไกลคอลซึ่งรวมตัวได้ในน้ำ และอัลคอกซี ไซเลนที่มีความเข้มข้นของไฮดรอกซิล .0084 โมล/ลูกบาศก์เซ็น ติเมตรหรือต่ำกว่า มีจุดเดือดประมาณ 175 องศา เซลเซียส หรือมากกว่าที่ความดันบรรยากาศ และมีน้ำหนักโมเลกุลโดย เฉลี่ยแบบถ่วงน้ำหนักประมาณ 120 หรือมากกว่า สารผสมของตัว ทำละลายที่มีการระเหย ได้ค่อนข้างสูงอย่างน้อยหนึ่งชนิดที่มีจุดเดือดต่ำกว่าจุด เดือดของสารผสมของตัวทำละลายที่มีการระเหยได้ค่อนข้างต่ำ โดยทีอาจเลือกให้มีน้ำอยู่ด้วย และองค์ประกอบเลือกใช้ที่ เป็นกรดในปริมาณที่เร่งปฏิกิริยาได้
Claims (1)
1. สารผสมของสารต้นกำเนิดของซิลิคานาโนพอรัส ซึ่งประกอบด้ยอัลคอกซีไซเลนอย่างน้อยหนึ่งชนิด สารผสมของตัวทำ ละลายที่มีการระเหยได้ค่อนข้างต่ำอย่างน้อยหนึ่งชนิดที่ ประกอบด้วย C1 ถึง C4 อัลคิลอีเธอร์โซ่ตรง หรือโซ่แตกแขนง ของ C1 ถึง C4 อัลคิลลีนไกลคอลซึ่งรวมตัวได้กับน้ำ และอัล คอกซีไซเลนที่มีความเข้มข้นของไฮดรอกซิล 0.0084 โ มล/ลูกบาศก์เซ็นติเมตรหรือต่ำกว่า มีจุดเดือดประมาณ 175 องศาเซลเซียสหรือมากกว่าที่ความดันบรรยากาศและมีน้ำหนัก โมเลกุลโดยเฉลี่ยแบบถ่วงน้ำหนักประมาณ 120 หรือมากกว่าสาร ผสมของตัวทำละลาย ทีแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH37412A true TH37412A (th) | 2000-02-28 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Hutchinson | Mixed monolayers. I. Adsorbed films at air-water surfaces | |
| Gao et al. | Nanofiltration membranes with modified active layer using aromatic polyamide dendrimers | |
| MY132922A (en) | Alcohol based precursors for producing nanoporous silica thin films | |
| US20230064344A1 (en) | Fluorosilicone surfactant, preparation method therefor and application thereof | |
| TW201323412A (zh) | 六氫三□、其合成及用途 | |
| US20180036689A1 (en) | Functional polymer membrane, method for manufacturing same, composition for forming functional polymer membrane, separation membrane module, and ion-exchange device | |
| KR870006141A (ko) | 반도체용 절연막의 형성방법 | |
| Yamamoto et al. | Preparation of bridged polysilsesquioxane membranes from bis [3-(triethoxysilyl) propyl] amine for water desalination | |
| Muccitelli et al. | Solubilities of hydrogen and deuterium gases in water and their isotope fractionation factor | |
| WO2011007630A1 (ja) | 防汚塗料及びガラス層をもつ製品 | |
| TH37412A (th) | สารต้นกำเนิดที่มีอัลกอฮอล์เป็นองค์ประกอบสำหรับผลิตฟิล์มบางที่เป็นซิลิคานาโนพอรัส | |
| Ferguson | The system methyl alcohol-n-hexane at 45 degrees | |
| CN102585232B (zh) | 一种含氟有机硅石材防污剂 | |
| EP3125321A1 (en) | Organic-semiconductor-film-forming composition | |
| Xu et al. | PM2. 5-bound silicon-containing secondary organic aerosols (Si-SOA) in Beijing ambient air | |
| Schulte et al. | Alkyl‐modified siloxanes as pseudostationary phases for electrokinetic chromatography | |
| Chojnowski et al. | Transformation of oligodimethylsiloxanols in the presence of a strong base. Reactivity enhancement of the siloxane bond by the adjacent hydroxyl group | |
| Kemeakegha et al. | Volumetric behavior of binary mixtures of alkoxyethanols and some selected amines at 298.15 K | |
| Ohshima et al. | Organic‐Inorganic Hybrid Membranes for Removal of Benzene from an Aqueous Solution by Pervaporation | |
| Shakeel et al. | Study of volumetric, viscometric, and aggregation properties of losartan potassium and its interaction with amino acids and cetyltrimethylammonium bromide in aqueous solution | |
| Devi et al. | Synthesis and characterization of moisture‐cured polyurethane membranes and their applications in pervaporation separation of ethyl acetate/water azeotrope at 30° C | |
| Kulichenko et al. | Phase separation in non-ionic surfactant Triton X-100 solutions in the presence of phenol | |
| Albert et al. | Characterization of chemically modified glass surfaces by 13C and 29Si CP/MAS NMR spectroscopy | |
| TWI542612B (zh) | 具有改良阻隔性質之矽氧樹脂 | |
| Sekhar et al. | Experimental and computational study of the molecular interactions between 2-chloroaniline and substituted ethanols |