Claims (43)
1.คอลัมน์สำหรับขบวนการประกอบด้วยหอที่มีอย่างน้อยหนึ่งถาดรองรับในนั้นส่วนสำหรับสารไหลลงล่างที่มีทางออกสำหรับ การไหลของของเหลวจากที่นั้นและถูกตั้งไว้ภายในหอดังกล่าว และเหนือส่วนรองรับในนั้น ถาดถูกรองรับไว้บนส่วนรองรับถอดภายในหอดังกล่าวและอยู่ใต้ ส่วนสำหรับสารไหลลงล่างดังกล่าวถาดดังกล่าวที่มีบริเวณรอง รับถาดรับถาดบนด้านบนของถาดดังกล่าวโดยตรงเหนือแหล่งที่ ส่วนรองรับถาดยึดเกี่ยวถาดดังกล่าวและพื้นที่ทาง เข้าของถาดบนด้านบนของถาดกำหนดเป็นพื้นที่สัมผัสสำหรับรั บรองของเหลวจากทางออกของส่วสำหรับสารไหลลงล่างและพื้นที่ ทางเข้าของถาดดังกล่าวจะถูกวางไว้ภายในบริเวณรองรับของถา ดของถาดดังกล่าวอย่างแท้จริง1. The process column consists of a tower containing at least one supporting tray, a downward flow channel with an outlet for fluid flow from it, and is positioned within the tower and above the supports within it. The trays are supported on removable supports within the tower and below the downward flow channel. The tray support area directly above the tray source, where the tray supports are attached, and the tray inlet area on top of the tray defines the contact area for receiving fluid from the downward flow channel outlet. The tray inlet area is literally located within the tray support area of the tray.
2.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ1ในที่นี้ส่วนสำหรับสารไหลลงล่างดังกล่าวรวมถึงผนัง รูปครึ่งทรงกรวยที่ลาดเอียงสู่ทางออกดังกล่าว2. The column for the downward flow as described in Claim 1 herein includes the hemispherical wall sloping toward the outlet.
3.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ1ในที่นี้ถาดดังกล่าวรวมถึงขอบฝายสำหรับทางเข้าถูกวาง ไว้บนผิวหน้าผิวบนของถาดดังกล่าวรอบๆพื้นที่ทางเข้าของ ถาดดั กล่าว3. Columns for the process as described in Claim 1 herein, the tray including the rim of the entrance is placed on the surface of the tray around the entrance area of the tray.
4.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ3ในที่นี้ขอบฝายสำหรับทางเข้าดังกล่าวของถาดดังกล่าว รวมถึงขอบบนและในที่นี้ทางออกดังกล่าวของส่วนสำหรับสารไหล ลงดังกล่าวถูกตั้งอยู่ใต้ขอบบนขอบของฝายสำหรับทางเข้าดัง กล่าวถาดดังกล่าว4. The column for the process as described in Reputation 3 herein, the weir edge for the said inlet of the said tray, including the upper edge and herein, the outlet of the section for the flowing substance, is located below the upper edge of the weir for the said inlet of the said tray.
5.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ3ในที่นี้ถาดดังกล่าวรวมถึงพื้นที่ทำปฏิกิริยาและ อย่างน้อยหนึ่งห้องแบบรูสำหรับการผ่านของไอดังกล่าวโดยที่ ไอดังกล่าวออกแรงต้านของเหลวจากขอบฝายสำหรับทางเข้าดัง กล่าวตัดผ่านพื้นที่ทำปฏิกิริยาดังกล่าว5. The column for the process as described in Reputation 3 herein includes the reaction area and at least one perforated chamber for the passage of such vapor, where the vapor exerts fluid resistance from the edge of the weir for such inlet, cutting through the reaction area.
6.คอลัมน์สำหรบขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ1ใน ที่นี้ส่วนรองรับถาดดังกล่าวของหอดังกล่าวประกอบด้วยวงแหวน รองรับ6. The column for the process as described in Claim 1 herein, the support for the tray of the said tower consists of a supporting ring.
7.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ6ในที่นี้ส่วนสำหรับสารไหลลดังกล่าวรวมถึงผนังรูป ครึ่งทรงกรวยที่ลาดเอียงสู่ทางออกดังกล่าว7. The column for the process as described in claim 6 herein, for the fluid, includes the hemispherical walls sloping toward the outlet.
8.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ6ในที่นี้ถาดดังกล่าวรวมถึงขอบฝายสำหรับทางเข้าถูกวาง ไว้บนผิวหน้าผิวบนของถาดดังกล่าวรอบๆบริเวณทางเข้าของส่วน สำหรับสารไหลลงล่างดังกล่าว8. The column for the process as described in claim 6 herein, the tray including the weir rim for the inlet is placed on the upper surface of the tray around the inlet of the downward flow section.
9.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ8ในที่นี้ขอบฝายสำหรับทางเข้าดังกล่าวของถาดดังกล่าว รวมถึงขอบบนและในที่นี้ทางออกดังกล่าวของส่วนสำหรับสารไหล ลงล่างดังกล่าว9. The column for the process as described in claim 8 herein, the boundary for the said inlet of the said tray, including the upper boundary and herein, the said outlet of the section for the downward flow of the substance.
10.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ8ในที่นี้ถาดดังกล่าวรวมถึงพื้นที่ทำปฏิกิริยาและ อย่างน้อยหนึ่งห้องแบบรูการผ่านของไอดังกล่าวโดยที่ไอดัง กล่าวออกแรงต้านของเหลวจากขอบฝายสำหรับทางเข้าดังกล่าวตัด ขวางพื้นที่ทำปฏิกิริยาดังกล่าว10. The column for the process as described in claim 8 herein includes the reaction area and at least one such vapor passage chamber where the vapor exerts fluid resistance from the edge of the weir for such inlet crossing the reaction area.
11.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ1ยังรวมต่อไปถึงถาดบนที่มีขอบฝายสำหรับทางออกถาดบนดัง กล่าวจะถูกตั้งไว้โดยที่ของไหลผ่านทั่วขอบฝายสำหรับทางออก ไหลเข้าสู่ส่วนสำหรับสารไหลลงล่าง11. The column for the process as described in Reputation 1 also includes an upper tray with a weir rim for the outlet. Such upper tray is positioned so that the fluid flows across the weir rim for the outlet into the section for the downward flow of the substance.
12.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ11ในที่นี้ขอบฝายสำหรับทางออกของถาดบนดังกล่าวเป็นขอบ ฝายสำหรับทาออกแบบคอร์เดล12. The column for the process as described in claim 11 herein, the border for the outlet of the upper tray is the border for the Cordel design.
13.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ11ในที่นี้ขอบฝายสำหรับทางออกของถาดบนดังกล่าวเป็นขอบ ฝายที่แบ่งออกเป็นหลายส่วน13. The column for the process as explained in claim 11 herein, the border for the outlet of the above tray is a border divided into several sections.
14.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ11ในที่นี้ขอบฝายสำหรับทางออกของถาดบนดังกล่าวเป็นขอบ ฝายสำหรับทางออกแบบซุ้มโค้ง14. The column for the process as described in claim 11 herein, the border for the outlet of the upper tray is the border for the archway design.
15.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ14ในที่นี้ขอบฝายสำหรับทางออกแบบซุ้มโค้งเป็นขอบฝาย สำหรับทางออกรูปครึ่งวงกลม15. Columns for the process as explained in claim 14 herein, the weir border for the arch-shaped exit is the weir border for the semicircular exit.
16.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ11ในที่นี้ส่วนสำหรับสารไหลลงล่างดังกล่าวรวมถึงผนัง รูปครึ่งทรงกรวยเอียงสู่ทางออกดังกล่าว16. The column for the process as described in Claim 11 herein, for the downward flow of the substance, includes the inclined hemispherical wall toward the outlet.
17.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ11ในที่นี้ถาดดังกล่าวรวมถึงขอบฝายสำหรับทางเข้าถูก วางไว้บนผิวหน้าผิวบนของถาดดังกล่าวรอบๆพื้นที่ทางเข้าของ ถาดดังกล่าว17. The column for the process as described in claim 11 herein, the tray including the rim of the entrance, is placed on the surface of the tray around the entrance area of the tray.
18.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ17ในที่นี้ขอบฝายสำหรับทางเข้าดังกล่าวของถาดดังกล่าว รวมถึงขอบบนและในที่นี้ทางออกดังกล่าวของส่วนสำหรับสารไหล ลงล่างดังกล่าวถูกตั้งไว้ข้างใต้ขอบบนของขอบฝายสำหรับทาง เข้าดังกล่าวของถาดดังกล่าว18. The column for the process as described in Reputation 17 herein, the weir edge for the said inlet of the said tray, including the upper edge and herein the said outlet of the section for the downward flow of fluid, is set below the upper edge of the weir edge for the said inlet of the said tray.
19.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ17ในที่นี้ถาดดังกล่าวรวมถึงพื้นที่ทำปฏิกิริยาและ อย่างน้อยหนึ่งแบบรูสำหรับการผ่านของไอดังกล่าวโดยที่ไอดัง กล่าวออกแรงต้านของเหลวจากขอบฝายสำหรับทางเข้าดังกล่าวตัด ผ่านพื้นที่ทำปฏิกิริยาดังกล่าว19. The column for the process as described in claim 17 herein includes the reaction area and at least one type of hole for the passage of such vapor, where such vapor exerts fluid resistance from the edge of the weir for such inlet cutting through the reaction area.
20.คอลัมน์สำหรับขบวนการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือ สิทธิ11ในที่นี้ส่วนรองรับถาดดังกล่าวของหอดังกล่าวประกอบ ด้วยวงแหวนรองรับ20. The column for the process as described in claim 11 herein, the support for the tray of the said tower consists of a support ring.
21.วิธีการของการผสมก๊าซพร้อมด้วยของเหลวที่ถูกปล่อยจ่าย จากส่วนสำหรับสารไหลลงล่างลงบนถาดในหอทำขบวนการเคมีวิธีการ นี้ประกอบด้วยขั้นตอนของการรองรับถาดนี้ในคอลัมน์สำหรับ ขบวนการพร้อมด้วยส่วนรองรับถาดข้างใต้บริเวณรองรับถาดของ ถาด นี้การขึ้นรูปส่วนสำหรับสารไหลลงล่างพร้อมด้วยทางออกของส ่วนสำหรับสารไหลลงล่างที่มีความกว้างเท่ากันอย่างแท้จริง กับความกว้างของส่วนรองรับถาดดังกล่าวและการวางตั้งทางออ กของส่วนสำหรับสารไหลลงล่างทั่วตลอดบริเวณรองรับถาดดังกล ่าวอย่างแท้จริงเพื่อกำหนดพื้นที่ทางเข้าของถาดของถาดนี้21. Method of mixing gas with liquid discharged from the downflow section onto a tray in a chemical process column. This method consists of the following steps: supporting this tray in the process column with an underlying support structure; forming the downflow section with an outlet that is exactly the same width as the width of the tray support; and orienting the outlet of the downflow section precisely across the tray support to define the tray inlet area.
22.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ21รวมถึงขั้น ตอนของการขึ้นรูปส่วนสำหรับสารไหลลงล่างพร้อมด้วยผนังรูป ครึ่งทรงกรวยที่ลาดเอียงสู่ทางออกของส่วนสำหรับสารไหลลง ล่าง22. The method as described in Claim 21 includes the process of forming the downward flow section with a hemispherical wall that slopes toward the outlet of the downward flow section.
23.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ21รวมถึงขั้น ตอนของการขึ้นรูปขอบฝายสำหรับทางเข้าบนถาดที่ทำการล้อมรอบ พื้นที่ทางเข้าของถาดนี้23. The methods described in Claim 21 include the procedure for forming the weir rim for the entrance on the tray that encloses the entrance area of this tray.
24.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ23ในที่นี้ขั้น ตอนของการวางตำแหน่งส่วนสำหรับสารไหลลงล่างรวมถึงการวาง ตำแหน่งทางออกของส่วนสำหรับสารไหลลงล่างข้างใต้ขอบบนของขอบ ฝายสำหรับทางเข้าของถาดนี้24. As described in claim 23 herein, the procedure for positioning the downward flow section includes positioning the outlet of the downward flow section below the upper edge of the weir for the inlet of this tray.
25.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ23ในที่นี้ขั้น ตอนของการขึ้นรูปขอบฝายสำหรับทางเข้าที่รวมถึงการขึ้นรูป ขอบฝายสำหรับทางเข้าพร้อมด้วยขอบบนเหนือทางออกของส่วน สำหรับสารไหลลงล่าง25. The method described in Claim 23 herein, the process of forming the weir edge for the inlet includes forming the weir edge for the inlet along with the upper edge above the outlet section for downward flow.
26.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ23รวมถึงขั้น ตอนของการขึ้นรูปอย่างน้อยหนึ่งห้องแบบรูบนถาดนี้สำหรับการ ผ่านของไอโดยที่ไอออกแรงต้านของเหลวจากขอบฝายสำหรับทางเข้า ตัดผ่านพื้นที่ทำปฏิกิริยาของถาดนี้26. The method described in claim 23 includes the procedure of forming at least one perforated chamber on this tray for the passage of vapor, where the vapor exerts fluid resistance from the weir edge for an inlet cutting through the reaction area of this tray.
27.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ21ในที่นี้ส่วน รองรับถาดประกอบด้วยวงแหวนรองรับ27. The method as described in claim 21 herein, the tray support consists of a support ring.
28.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ27รวมถึงขั้น ตอนของการขึ้นรูปส่วนสำหรับสารไหลลงล่างพร้อมด้วยผนังรูป ครึ่งทรงกรวยที่ลาดเอียงสู่ทางออกนี้28. The method as described in claim 27 includes the process of forming the downward flow section with a hemispherical wall that slopes toward this outlet.
29.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ27รวมถึงขั้น ตอนของการขึ้นรูปขอบฝายสำหรับทางเข้าบนถาดนี้ทำการล้อมปิด พื้นที่ทางเข้าของถาดนี้29. The method described in Claim 27, including the procedure for forming the weir rim for the entrance on this tray, encloses the entrance area of this tray.
30.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ29ในที่นี้ขั้น ตอนของการวางตั้งส่วนสำหรับสารไหลลงล่างที่รวมถึงการวาง ตั้งทางออกของส่วนสำหรับสารไหลลงล่างอยู่ใต้ขอบบนของขอบฝาย สำหรับทางเข้าของถาดนี้30. As described in Claim 29 herein, the procedure for installing the downward flow section includes placing the outlet of the downward flow section below the upper edge of the weir for the inlet of this tray.
31.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ29ในที่นี้ขั้น ตอนของการขึ้นรูปขอบฝายสำหรับทางเข้ารวมถึงการขึ้นรุปขอบ ฝายสำหรับทางเข้าพร้อมด้วยขอบบนเหนือทางออกของส่วนสำหรับ สารไหลลงล่าง31. As described in Claim 29 herein, the process of forming the weir edge for the inlet includes forming the weir edge for the inlet along with the upper edge above the outlet section for downward flow.
32.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ29รวมถึงขั้น ตอนของการขึ้นรูปอย่างน้อยหนึ่งห้องแบบรูบนถาดสำหรับการ ผ่านของไอโดยที่ไอนี้ออกแรงต้านของเหลวจากขอบฝายสำหรับทาง เข้าตัดผ่านพื้นที่ทำปฏิกิริยาของถาดนี้32. The method described in claim 29 includes the procedure of forming at least one perforated chamber on the tray for the passage of vapor, whereby the vapor exerts fluid resistance from the weir edge for an inlet cutting through the reaction area of this tray.
33.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ21ยังรวมต่อไป ถึงขั้นตอนของการขึ้นรูปถาดบนพร้อมด้วยขอบฝายสำหรับทางออก และการวางตั้งถาดบนโดยที่ของไหลไหลผ่านทั่วขอบฝายสำหรับทาง ออกไหลเข้าสู่ส่วนสำหรับสารไหลลงล่าง33. The procedure as described in Claim 21 also includes the steps of forming the upper tray with the outlet weir rim and setting the upper tray so that the fluid flows over the outlet weir rim into the downward flow section.
34.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ33ในที่นี้ขั้น ตอนของการขึ้นรูปถาดบนรวมถึงการขึ้นรูปถาดบนพร้อมด้วยขอบ ฝายสำหรับทางออกที่มีรูปทรงแบบคอร์เดล34. The method described in Claim 33 herein, the forming process of the top tray including the forming of the top tray with the rim and lid for a cordel-shaped outlet.
35.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ33ในที่นี้ขั้น ตอนของการาขึ้นรูปถาดบนนี้รวมถึงการขึ้นรูปถาดบนพร้อมด้วย ขอบฝายสำหรับทางออกที่มีรูปทรงแบบหลายคอร์เดล35. The method described in Claim 33 herein, the process of forming the top tray, includes forming the top tray with the rim for a multi-cordel shaped outlet.
36.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ33ในที่นี้ขั้น ตอนของการขึ้นรูปถาดบนที่รวมถึงการขึ้นรูปฉากบนพร้อมด้วย ขอบฝายสำหรับทางออกที่มีรูปทรงแบบซุ้มโค้ง36. The method described in Claim 33 herein, the forming process of the top tray including the forming of the top frame along with the edge of the flange for an arch-shaped exit.
37.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ36ในที่นี้รูป ทรงแบบซุ้มโค้งของขอบฝายสำหรับทางออกเป็นรูปครึ่งวงกลม37. As described in claim 36, the arch-shaped form of the weir edge for the outlet is semicircular.
38.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ33รวมถึงขั้น ตอนของการขึ้นรูปส่วนสำหรับสารไหลลงล่างพร้อมด้วยผนังรูป ครึ่งทรงกรวยที่ลาดเอียงสู่ทางออกของส่วนสำหรับสารไหลลง ล่าง38. The method as described in claim 33 includes the process of forming the downward flow section with hemispherical walls that slope toward the outlet of the downward flow section.
39.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ33รวมถึงขั้น ตอนของการขึ้นรูปขอบฝายสำหรับทางเข้าบนถาดนี้ที่ทำการล้อม พื้นที่ทางเข้าของถาดนี้39. The methods described in Claim 33 include the steps for forming the weir rim for the entrance on this tray that encloses the entrance area of this tray.
40.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ39ในที่นี้ขั้น ตอนของการวางตั้งส่วนสำหรับสารไหลลงล่างรวมถึงการวางตั้ง ทางออกของส่วนสำหรับสารไหลลงล่างข้างใต้ขอบบนของขอบฝาย สำหรับทางเข้าของถาดนี้40. The method described in Claim 39 herein, the procedure for installing the downward flow section, including the installation of the downward flow section outlet below the upper rim of the weir for the inlet of this tray.
41.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ39ในที่นี้ขั้น ตอนของการขึ้นรูปขอบฝายสำหรับทางเข้ารวมถึงทางขึ้นรูปขอบ ฝายสำหรับทางเข้าด้วยขอบบนอยู่เหนือทางออกของส่วนสำหรับสาร ไหลลงล่าง41. The method described in Claim 39 herein, the process of forming the weir edge for the inlet includes forming the weir edge for the inlet with the upper edge above the outlet of the section for the flowing substance.
42.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ39รวมถึงขั้น ตอนของการขึ้นรูปอย่างน้อยหนึ่งห้องแบบรูบนถาดนี้สำหรับการ ผ่านของไอโดยที่โอออกแรงต้านของเหลวจากขอบฝายสำหรับทางเข้า ตัดผ่านพื้นที่ทำปฏิกิริยาของถาดนี้42. The method described in claim 39 includes the procedure of forming at least one perforated chamber on this tray for the passage of vapor, whereby the fluid resistance is exerted by the weir edge for the inlet, cutting through the reaction area of this tray.
43.วิธีการดังที่ได้ชี้แจงไว้ในข้อถือสิทธิ33ในที่นี้ส่วน รองรับถาดนี้ประกอบด้วยวงแหวนรองรับ (ข้อถือสิทธิ 43 ข้อ, 7 หน้า, 5 รูป)43. As described in claim 33 herein, the tray support consists of a support ring (Clause 43, page 7, figure 5).