TH33466B - Methods for producing glass substrate material for recording medium and method for producing recording medium. - Google Patents
Methods for producing glass substrate material for recording medium and method for producing recording medium.Info
- Publication number
- TH33466B TH33466B TH1001060A TH0001001060A TH33466B TH 33466 B TH33466 B TH 33466B TH 1001060 A TH1001060 A TH 1001060A TH 0001001060 A TH0001001060 A TH 0001001060A TH 33466 B TH33466 B TH 33466B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- glass substrate
- polishing
- recording medium
- cleaning
- main surface
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract 22
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract 6
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 32
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 16
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract 12
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims abstract 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 8
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 claims 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims 1
- 239000002585 base Substances 0.000 claims 1
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 claims 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 1
Abstract
DC60 (26/06/43) ในการผลิตวัสดุฐานรองที่เป็นแก้วสำหรับทำตัวกลางในการบันทึกข่าวสาร หลังจากผิวหลัก ของวัสดุฐานรองที่เป็นแก้วถูกขัดเงาแล้ว มีการดำเนินการทำความสะอาดผิวหลักด้วยกรดกำมะถันจนวัสดุ ฐานรองที่เป็นแก้วมีความหยาบของผิว Ra และ Rmax ที่เป็นไปตาม Ra = 0.1-0.7 นาโนเมตร และ Rmax/Ra < 20 ตามที่วัดได้โดยกล้องจุลทรรศน์ที่วัดแรงระหว่างอะตอม (AFM) ซึ่ง Ra เป็นตัวแทนของ ความหยาบโดยเฉลี่ยตามแนวกลาง และซึ่ง Rmax ได้รับการกำหนดความหมายให้เป็นความสูงสูงสุดที่เป็น ตัวแทนของความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุด และจุดต่ำสุด ในการผลิตวัสดุฐานรองที่เป็นแก้วสำหรับทำตัวกลางในการบันทึกข่าวสาร หลังจากผิวหลัก ของวัสดุฐานรองที่เป็นแก้วถูกขัดเงาแล้ว มีการดำเนินการทำความสะอาดผิวหลักด้วยกรดกำมะถันจนวัสดุ ฐานรองที่เป็นแก้วมีความหยาบของผิว Ra และ Rmax ที่เป็นไปตาม Ra=0.1-0.7 นาโนเมตร และ Rmax/Ra < 20 ตามที่วัดได้โดยกล้องจุลทรรศน์ที่วัดแรงระหว่างอะตอม (AFM) ซึ่ง Ra เป็นตัวแทนของ ความหยาบโดยเฉลี่ยตามแนวกลาง และซึ่ง Rmax ได้รับการกำหนดความหมายให้เป็นความสูงสุดที่เป็น ตัวแทนของความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุด และจุดต่ำสุด DC60 (26/06/43) in the manufacture of glass substrates for recording media. after main skin of the glass base material has been polished The main surface cleaning with sulfuric acid is carried out until the material The glass substrate has a surface roughness Ra and Rmax corresponding to Ra = 0.1-0.7 nm and Rmax/Ra < 20 as measured by the atomic force (AFM) microscope in which Ra represents. average roughness along the center line, and where Rmax is defined as the maximum height of Representative of the difference between the highest and lowest points in the manufacture of glass substrates for recording media. after main skin of the glass base material has been polished The main surface cleaning with sulfuric acid is carried out until the material The glass substrate has a surface roughness Ra and Rmax conforming to Ra=0.1-0.7 nm and Rmax/Ra < 20 as measured by the atomic force (AFM) microscope in which Ra represents. average roughness along the center line, and where Rmax is defined as the maximum that is Representing the difference between the highest point and the lowest point.
Claims (8)
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH44396A TH44396A (en) | 2001-04-11 |
| TH33466B true TH33466B (en) | 2012-08-09 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI386984B (en) | Desmutting the surface of tantalum electrode assembly by acidic solution | |
| US5704987A (en) | Process for removing residue from a semiconductor wafer after chemical-mechanical polishing | |
| CN103151051B (en) | Glass substrate for magnetic disk and magnetic disk | |
| JP4034056B2 (en) | Method for processing amorphous material | |
| JP4336524B2 (en) | Method for producing glass substrate for information recording medium | |
| JP2003036528A (en) | Base for information recording medium, its manufacturing method, and information recording medium | |
| JP2004145958A (en) | Glass substrate for information recording medium, and its manufacturing method | |
| WO2012093516A1 (en) | Glass substrate for information recording medium, manufacturing method for same and magnetic recording medium | |
| WO1996030901A1 (en) | Method of manufacturing glass substrate for magnetic disk | |
| JP4115722B2 (en) | Manufacturing method of glass substrate for information recording medium | |
| US7415841B2 (en) | Method for producing chemically strengthened glass substrate for information recording medium | |
| JP2007119290A (en) | Manufacturing method of glass strip | |
| JP2006089363A (en) | Process for manufacturing glass substrate for magnetic recording medium, glass substrate for magnetic recording medium obtained by the process, and magnetic recording medium obtained using the substrate | |
| JP2000311336A (en) | Manufacture of substrate for magnetic disk, substrate for magnetic disk resulted by this method and magnetic recording medium | |
| US20050161427A1 (en) | Method of working a workpiece containing magnetic material and method of manufacturing a magnetic recording medium | |
| TH33466B (en) | Methods for producing glass substrate material for recording medium and method for producing recording medium. | |
| JP4326825B2 (en) | Method for producing chemically strengthened glass substrate and method for producing glass substrate for information recording medium | |
| TH44396A (en) | Methods for producing glass substrate material for recording medium and method for producing recording medium. | |
| KR20010107669A (en) | Method for the production of glass substrates for magnetic recording mediums | |
| WO2002027771A1 (en) | Semiconductor industry-use silica glass jig and production method therefor | |
| JP6152340B2 (en) | Manufacturing method of disk-shaped substrate and carrier for grinding or polishing | |
| JP2008090898A (en) | Manufacturing method for glass substrate of information recording medium, and manufacturing method for information recording medium | |
| JP4723341B2 (en) | Glass substrate for magnetic recording medium and method for manufacturing magnetic disk | |
| JP2007102843A (en) | Glass substrate for magnetic recording medium and magnetic disk | |
| JP2006092718A (en) | Process for manufacturing glass substrate for magnetic recording medium and glass substrate for magnetic recording medium obtained by the process |