TH33115A - ผลิตภัณฑ์ขจัดการเจริญเติบโตของจุลินทรีย์ซึ่งบรรจุด้วยแอลกฮอล์ c3-c6 - Google Patents

ผลิตภัณฑ์ขจัดการเจริญเติบโตของจุลินทรีย์ซึ่งบรรจุด้วยแอลกฮอล์ c3-c6

Info

Publication number
TH33115A
TH33115A TH9601003410A TH9601003410A TH33115A TH 33115 A TH33115 A TH 33115A TH 9601003410 A TH9601003410 A TH 9601003410A TH 9601003410 A TH9601003410 A TH 9601003410A TH 33115 A TH33115 A TH 33115A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
volume
mouthwash
weight
amounts
carbon atoms
Prior art date
Application number
TH9601003410A
Other languages
English (en)
Other versions
TH11437B (th
Inventor
แพน นายพอลิน
คาร์ลิน นายเอ็ดเวิร์ด
ไมเคิล บัค นายอาร์.
โวล์พ นายแฟรงค์
มาร์ติน นายแเลน
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายวิรัช ศรีเอนกราธา, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH33115A publication Critical patent/TH33115A/th
Publication of TH11437B publication Critical patent/TH11437B/th

Links

Abstract

ผลิตภัณฑ์ขจัดการคเจริญเติบโตของจุลินทรีย์ ซึ่งบรรจุด้วยแอลกอฮอล์ที่มีคาร์บอน 3 ถึง 6 อะตอม ชนิดหนึ่งซึ่งเพิ่มการออกฤทธิ์ขจัดการเจริญเติบโตของจุลินทรีย์อย่างได้อย่างได้ผล และโดยจำเพาะ เจาะจงกับผลิตภัณฑ์น้ำยาบ้วนชนิดหนึ่งที่ใช้ประโยชน์ในการป้องกันและการลดลมหายใจที่ไม่ สะอาด, ฟลัค และโรคเหงือกซึ่งสัมพันธ์กัน ซึ่งมีปริมาณของหัวน้ำมันที่แสดงฤทธิ์ชนิดหนึ่งหรือ มากกว่าในการขจัดการเจริญเติบโตของของจุลินทร์อย่างได้ผล, แอลกอฮอซึ่งมีคาร์บอน 3 ถึง 6 อะตอม ตั้งแต่ประมาณ 0.01% ถึงประมาณ 30.0% v/v; ที่เลือกได้คือ เอธานอล, สารลดแรง ตึงผิวอย่างน้อยที่สุดชนิดหนึ่ง และน้ำสารออกฤทธิ์ไม่เพียงแต่ให้ประสิทธิผลที่เพิ่มขึ้นแต่ได้ละลาย อย่างสมบูรณ์ ด้วยเหตุผลนี้ทำให้ได้ผลผลิตภัณฑ์ที่ดึงดูดความสนใจทางด้านความสวยงาม

Claims (3)

1. สารผสมน้ำยาบ้วนปาก (mouthwash composition) ที่ประกอบด้วย ไทมอลในปริมาณตั้งแต่ 0.001% ถึง 0.35% น้ำหนัก/ปริมาตร ยูคาลิปทอล ในปริมาณตั้งแต่ 0.001 % ถึง 0.02 % น้ำหนัก/ปริมาตร เมนธอลในปริมาณตั้งแต่ 0.001% ถึง 0.3% น้ำหนัก/ปริมาตร เมธิลซาลิซิเลตในปริมาณตั้งแต่ 0.001% ถึง 0.3% น้ำหนัก/ปริมาตร เอธานอลในปริมาณตั้งแต่ 20% ปริมาตร/ปริมาตร ถึง 25% ปริมาตร/ปริมาตร ระบบบัฟเฟอร์ที่ประกอบด้วยโซเดียมเบนซอเอต และกรดเบนซออิคในปริมาณตั้ง แต่ 0.01% ถึง 4.0% น้ำหนัก/ปริมาตร เพื่อทำให้ได้พีเอช 3.5 ถึง 9.0 พอลิ(ออกซีเอทิลีน)-พอลิ(ออกซีพรอไพลีน)บล็อคโคพอลิเมอร์ในปริมาณตั้งแต่ 0.01% ถึง 0.8% น้ำหนัก/ปริมาตร และ แอลกอฮอล์ที่มีคาร์บอน 3 ถึง 6 อะตอม ในปริมาณตั้งแต่ 0.01% ถึง 10% น้ำหนัก/ปริมาตร, โดยที่สารผสมมีแฟกเตอร์ R 1 ถึง 1.26
2. สารผสมน้ำยาบ้วนปากตามข้อถือสิทธิ 1 โดยที่แอลกอฮอล์ที่มีคาร์บอน 3 ถึง 6 อะตอมมี อยู่ในปริมาณในปริมาณตั้งแต่ 0.2% ถึง 8.0% น้ำหนัก/ปริมาตร 3. สารผสมน้ำยาบ้วนปากตามข้อถือสิทธิ 2 โดยที่แอลกอฮอล์ที่มีคาร์บอน 3 ถึง 6 อะตอมมี อยู่ในปริมาณตั้งแต่ 0.25% ถึง 1.0% น้ำหนัก/ปริมาตร 4. สารผสมน้ำยาบ้วนปากตามข้อถือสิทธิ 1 โดยที่แอลกอฮอล์ที่มีคาร์บอน 3 - 6 อะตอม คือ 1-โพรพานอล 5. สารผสมน้ำยาบ้วนปากตามข้อถือสิทธิ 2 โดยที่แอลกอฮอล์ที่มีคาร์บอน 3 - 6 อะตอม คือ 1-โพรพานอล 6. สารผสมน้ำยาบ้วนปากตามข้อถือสิทธิ 3 โดยที่แอลกอฮอล์ที่มีคาร์บอน 3 - 6 อะตอม คือ 1-โพรพานอล 7. สารผสมน้ำยาบ้วนปากตามข้อถือสิทธิ 1 โดยที่พอลิ(ออกซีเอทิลีน)-พอลิ(ออกซีพรอไพ ลีน)บล็อคโคพอลิเมอร์ในปริมาณตั้งแต่ 0.01% ถึง 1.0% น้ำหนัก/ปริมาตร 8. สารผสมน้ำยาบ้วนปากตามข้อถือสิทธิ 1 โดยที่ไทมอลมีอยู่ในในปริมาณตั้งแต่ 0.04% ถึง 0.07% น้ำหนัก/ปริมาตร ยูคาลิปทอลมีอยู่ในปริมาณตั้งแต่ 0.085% ถึง 0.10 % น้ำหนัก/ปริมาตร เมนธอลในปริมาณตั้งแต่ 0.0355% ถึง 0.05% น้ำหนัก/ปริมาตร; และ เมธิลซาลิซิเลตในปริมาณตั้งแต่ 0.04% ถึง 0.07% น้ำหนัก/ปริมาตร 9. สารผสมน้ำยาบ้วนปากตามข้อถือสิทธิ 1 โดยที่เอทานอลมีอยู่ในในปริมาณตั้งแต่ 20% ปริมาตร/ปริมาตร ถึง 22.7% ปริมาตร/ปริมาตร 1 0. สารผสมน้ำยาบ้วนปากตามข้อถือสิทธิ 8 โดยที่แอลกอฮอล์ที่มีคาร์บอน 3 ถึง 6 อะตอม มีอยู่ในปริมาณตั้งแต่ 0.2% ถึง 8.0% น้ำหนัก/ปริมาตร 1 1. สารผสมน้ำยาบ้วนปากตามข้อถือสิทธิ 10 โดยที่แอลกอฮอล์ที่มีคาร์บอน 3 ถึง 6 อะตอมมี อยู่ในในปริมาณตั้งแต่ 0.25% ถึง 1.0% น้ำหนัก/ปริมาตร 1 2.สารผสมน้ำยาบ้วนปากตามข้อถือสิทธิ 11 โดยที่แอลกอฮอล์ที่มีคาร์บอน 3-6 อะตอมคือ 1-โพรพานอล 1
3. สารผสมน้ำยาบ้วนปาก ที่ประกอบด้วย: ไทมอลในปริมาณตั้งแต่ 0.04% ถึง 0.07% น้ำหนัก/ปริมาตร ยูคาลิปทอลในปริมาณตั้งแต่ 0.085% ถึง 0.1% น้ำหนัก/ปริมาตร เมนธอลในปริมาณตั้งแต่ 0.035% ถึง 0.05% น้ำหนัก/ปริมาตร เมธิลซาลิซิเลตในปริมาณตั้งแต่ 0.04% ถึง 0.07% น้ำหนัก/ปริมาตร เอธานอลในปริมาณตั้งแต่ 20% ปริมาตร/ปริมาตร ถึง 22.7% ปริมาตร/ปริมาตร ระบบบัฟเฟอร์ที่ประกอบด้วยโซเดียมเบนซอเอต และกรดเบนซออิคในปริมาณ ตั้งแต่ 0.01% ถึง 4.0% น้ำหนัก/ปริมาตรเพื่อทำให้ได้พีเอช 3.5 ถึง 9.0 พอลิ(ออกซีเอทิลีน)-พอลิ(ออกซีพรอไพลีน)บล็อคโคพอลิเมอร์ในปริมาณตั้งแต่ 0.01% ถึง 0.8% น้ำหนัก/ปริมาตร และ แอลกอฮอล์ที่มีคาร์บอน 3 ถึง 6 อะตอม ในปริมาณในปริมาณตั้งแต่ 0.01% ถึง 10 % น้ำหนัก/ปริมาตร; โดยที่สารผสมมีแฟกเตอร์ R 1 ถึง 1.26
TH9601003410A 1996-10-09 ผลิตภัณฑ์ขจัดการเจริญเติบโตของจุลินทรีย์ซึ่งบรรจุด้วยแอลกฮอล์ c3-c6 TH11437B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH33115A true TH33115A (th) 1999-06-10
TH11437B TH11437B (th) 2001-12-14

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0987321B1 (en) Ultramild antibacterial cleaning composition for frequent use
US6333039B1 (en) Opaque skin sanitizing composition
AU691241B2 (en) Oral composition
US4675178A (en) Use of cationic polymers (polydimethyldialkyl ammonium chloride-acrylamide copolymers and dimethyldialkyl ammonium chloride) to increase deposition and/or retention of active agent (S) of deodorant formulations on surfaces
JPH0455162B2 (th)
US4301145A (en) Antiseptic skin cream
JPH0853329A (ja) 脱毛低減用の組成物
EP0759749A1 (en) Anti-acne compositions
HU198123B (en) Deodorant and antibacterial cosmetic
EP1411886B1 (en) Non-aerosol shaving gel
JP2003502353A (ja) 抗菌性組成物
JP3419124B2 (ja) 口腔用組成物
US4279891A (en) Low alcohol content after-shave lotion
JPH0327532B2 (th)
US9149490B2 (en) Acne treatment composition and methods for using
WO2011103440A1 (en) Skin disinfectant composition and methods for manufacturing and using
US4390442A (en) Non-stinging eye make-up remover composition
TH33115A (th) ผลิตภัณฑ์ขจัดการเจริญเติบโตของจุลินทรีย์ซึ่งบรรจุด้วยแอลกฮอล์ c3-c6
TH11437B (th) ผลิตภัณฑ์ขจัดการเจริญเติบโตของจุลินทรีย์ซึ่งบรรจุด้วยแอลกฮอล์ c3-c6
MXPA03002869A (es) Composiciones para limpieza de la piel y tratamiento del acne.
JP2002531474A (ja) デオドラント化粧品組成物
EP0344708B1 (en) Composition for external application to skin
JP2586895B2 (ja) 口腔用組成物
JP3558138B2 (ja) 液体口腔用組成物
EP1971319B1 (en) Shaving preparation and method for shaving