Claims (9)
1. วิธีสำหรับการทำให้คืนสภาพสารละลายการกัดด้วยกรดที่มีเหล็กเพื่อการใช้ในการกัดด้วยกรดหรือการทำความสะอาดด้วยกรดของทองแดง หรืออัลลอยด์ของทองแดง ที่มีลักษณะเฉพาะโดยขั้นตอนต่อไปนี้ : (i) การป้อนสารละลายการกัดด้วยกรดที่ทำให้คืนสภาพ จากระบบการกัดด้วยกรดเข้าไปในอิเลคโทรลิ ซิสเซลล์ที่ปิดให้แน่นสนิท หรือที่มีฝาครอบแอโหนด (8) , อิเลคโทรลิซิสเซลล์ซึ่งประกอบรวมด้วย แคโทด (1) , แอโหนดเฉื่อย (2) , อุปกรณ์ (3) เพื่อการขจัดทองแดงที่สะสมด้วยอิเลโทรไลท์ออกจาก แคโทด และอุปกรณ์ (4) สำหรับการเก็บทองแดงที่ขจัดออก และการให้ศักย์แก่ทองแดงที่ขจัดออก, ซึ่งอิเลคโทรลิซิลเซลล์ไม่มีเมมเบรนแลกเปลี่ยนไอออนหรือไดอะแฟรม , (ii) การสะสมทองแดงด้วยอิเลคโทรไลท์ประกอบรวมอยู่ในสารละลายการกัดด้วยกรดที่แคโทด (1) , (iii) การออกซิไดซ์ Fe(II) ที่ประกอบรวมอยู่ในสารละลายการกัดด้วยกรดไปเป็น Fe(III) ที่แอโหนด 2), (iv) การขจัดทองแดงที่สะสมอยู่ที่แคโทด (1) , (v) การให้ศักย์แก่ทองแดงที่ขจัดออกเพื่อป้องกันการละลายกลับไปอีกของทองแดง, และ (vi) การนำสารละลายการกัดด้วยกรดที่ถูกบำบัดแล้วกลับไปยังระบบการกัดด้วยกรด1.Method for reconstitution of ferrous etching solution for use in acid etching or for copper acid cleaning. Or alloys of copper This is characterized by the following procedure: (i) Feeding of the corrosive acid etching solution. From the etching system into the electrolyte Cyssell, tightly closed Or with anode cover (8), electrolysis cell consisting of cathode (1), inert anode (2), apparatus (3) for electrolyte deposition of copper. Cathode and device (4) for removing copper. And imparting the eliminated copper potential, where the electrolysis cell does not have an ion exchange membrane or diaphragm, (ii) the electrolyte copper deposition is included in the solution. Cathode etching (1), (iii) oxidizing Fe (II) incorporated in acid etching solution to Fe (III) at anode 2), (iv) copper removal. The deposition of the cathode (1), (v) impregnation to the eliminated copper to prevent recurrent dissolution of the copper, and (vi) the introduction of the treated acid etching solution back to the milling system. With acid
2. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่มีลักษณะเฉพาะที่ว่า ควบคุมการไหลของสารละลายการกัดด้วยกรดผ่านอิเลค โทรลิซิลเซลล์และ / หรือกระแสที่ไหลผ่านอิเลคโทรลิซิลเซลล์โดยการวัดออนไลน์ของความเข้มข้นของ Fe (II)Fe(III) หรือความเข้มข้นของCu2. Method according to Clause 1 with the specific characteristics that Control the flow of the acid etching solution through the electrode. Trolicyl cell and / or current flowing through the electrolysis cell by online measurement of Fe (II) Fe (III) concentration or Cu concentration.
3. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 2 ที่มีลักษณะเฉพาะที่ว่า การวัดออน - ไลน์ของความเข้มข้นของ Cu ทำขึ้นโดยวิธี โฟโทเมท ริค หรือ โดยการวัดโพเทนซิโอเมทริค3. The characteristic method according to claim 2, that the on-line measurement of Cu concentrations was performed either by photometric method or by potentiometric measurement.
4. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1-3 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่มีลักษณะเฉพาะที่ว่า อิเลคโทรลิซิสทำขึ้นในอิเลคโทรลิซิส เซลล์โดยการ ใช้กระแสตรง4. Method according to Clause 1-3, any one With the characteristics that Electrolysis is made in cell electrolysis using direct current.
5. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1-3 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่มีลักษณะเฉพาะที่ว่า อิเลคโทรลิซิสทำขึ้นในอิเลคโทรลิซิส เซลล์โดยการใช้กระแสพัลส์5. Any one of the Clause 1-3 With the characteristics that Electrolysis is made in electrolysis. Cells by the use of pulse currents
6. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1-5 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่มีลักษณะเฉพาะที่ว่า ปล่อยให้สารละลายการกัดด้วยกรดไหล ไปที่แคโทดเป็นอันดับแรก และต่อจากนั้นไปที่แอโหนด6. Any one of Clause 1-5 With the characteristics that Let the acid etching solution flow. Go to the cathode first And then go to Anode
7. อุปกรณ์สำหรับการทำวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1-6 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งประกอบรวมด้วยอิเลคโทรลิซิสเซลล์ ที่แยกกันที่ถูกปิดแน่นสนิท หรือที่มีฝาครอบแอโหนด (8), อิเลคโทรลิซิลเซลล์ที่มีแคโทด (1) และแอโหนด เฉื่อย (2),อุปกรณ์ (3)เพื่อการขจัดทองแดงที่สะสมด้วยอิเลคโทรไลท์ออกจากแคโทด ,อุปกรณ์ (4) สำหรับ การเก็บทองแดงที่ขจัดออก และสำหรับการให้ศักย์แก่ทองแดงที่ขจัดออก ,ทางเข้า (5) ในบริเวณส่วน ล่าง ของอิเลคโทรลิซิสเซลล์ระหว่างแคโทด (1) และอุปกรณ์ (4)สำหรับการเก็บทองแดงที่ขจัดออก และการให้ ศักย์แก่ทองแดงที่ขจัดออก และทางออก (6) , ซึ่งอิเลคโทรลิซิสเซลล์ที่ไม่มีเมมเบรนแลกเปลี่ยนไอออนหรือไดอะแฟรม7. Equipment for performing the method according to Clause 1-6. Which includes electrolysis cells The separate separates were sealed. Or with cover anode (8), electrolysis cell with cathode (1) and inert anode (2), apparatus (3) for electrolyte deposition of copper. Discharge from the cathode, device (4) for collecting the eliminated copper And for impregnation to eliminated copper, entrance (5) in the lower part of the electrolysis cell between the cathode (1) and the apparatus (4) for the retention of the removed copper and the impulse To the removed copper and the outlet (6), where the electrolysis cells without an ion exchange membrane or diaphragm
8. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 7 ที่มีลักษณะเฉพาะโดยการที่มีเพิ่มเติมด้วยวาล์ว (7) สำหรับการเอาทองแดงที่ ทำซ้ำขึ้นใหม่ออก8. The device according to claim 7 is characterized by the presence of an additional valve (7) for removing the copper at Repeat it over again
9. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิ 7 หรือ 8 ที่มีลักษณะเฉพาะที่ว่า แคโทด (1) อยู่ในรูปแบบของแคโทดที่กำลัง หมุน และอุปกรณ์ (3) อยู่ในรูปแบบของสทริปปิงเพลท (stripping plate) 19. The device according to claim 7 or 8 is characterized by that the cathode (1) is in the form of a rotating cathode and the device (3) is in the form of a stripping plate. 1
0. ระบบสำหรับการกัดด้วยกรดหรือการทำความสะอาดด้วยกรดของชิ้นงาน ซึ่งประกอบรวมด้วยอุปกรณ์ ตามข้อถือสิทธิ 7 ถึงข้อ 9 ข้อใดข้อหนึ่ง0.Systems for acid etching or acid cleaning of workpieces Which includes equipment According to Clause 7 to Clause 9, any one