TH28326A - - Google Patents

Info

Publication number
TH28326A
TH28326A TH9701002417A TH9701002417A TH28326A TH 28326 A TH28326 A TH 28326A TH 9701002417 A TH9701002417 A TH 9701002417A TH 9701002417 A TH9701002417 A TH 9701002417A TH 28326 A TH28326 A TH 28326A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
target
medium
ultra
reaction chamber
fine particles
Prior art date
Application number
TH9701002417A
Other languages
Thai (th)
Original Assignee
นายชาญชัย ศุภดิลกลักษณ์ นายอนันต์ ธรรมรัตนพร
Filing date
Publication date
Application filed by นายชาญชัย ศุภดิลกลักษณ์ นายอนันต์ ธรรมรัตนพร filed Critical นายชาญชัย ศุภดิลกลักษณ์ นายอนันต์ ธรรมรัตนพร
Publication of TH28326A publication Critical patent/TH28326A/th

Links

Abstract

DC60 (16/09/40) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวัสดุอิเลกทรอนิกส์แสง ที่ประกอบด้วยตัวกลางรูปแบบเดียวที่มี คุณสมบัติทางไฟฟ้าที่ควบคุมได้ ; และอนุภาคที่ละเอียดเป็นพิเศษของสารกึ่งตัวนำในตัวกลางและ มีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 100nm หรือน้อยกว่า, และอุปกรณ์การใช้งานที่ใช้วัสดุดังกล่าว นอกจากนี้การ ประดิษฐ์ยังเกี่ยวข้องกับวิธีของการผลิตวัสดุอิเลกทรอนิกส์แสงโดยการฉายลำแสงเลเซอร์ไปบนเป้า หมายที่หนึ่งของวัสดุสารกึ่งตัวนำที่ถูกวางในห้องปฏิกิริยาในสภาพแวดล้อม ก๊าซเฉื่อยความดันต่ำ, และเป้าหมายที่สองของวัสดุตัวกลางที่มีคุณสมบัติทางไฟฟ้าที่ควบคุมได้ที่ถูกวางในห้องปฏิกิริยา, การควบแน่น/การสร้างวัสดุสารกึ่งตัวนำที่ถูกขจัดจากเป้าหมายที่หนึ่งเพื่อถูกสะสมเป็นอนุภาคที่ ละเอียดเป็นพิเศษที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 100nm หรือน้อยกว่าบนฐานรองที่ถูกวางในห้องปฏิกิริยา, และการควบแน่น/การสร้าง วัสดุตัวกลางที่ถูกขจัดจากเป้าหมายที่สองเพื่อถูกสะสมบนฐานรองที่ ถูกวางในห้องปฏิกิริยา เพื่อให้มีการสร้างชั้นที่มีอนุภาคที่ละเอียดเป็นพิเศษกระจายอยู่ที่มีอนุภาคที่ ละเอียดเป็นพิเศษของสารกึ่งตัวนำถูกกระจายในตัวกลางบนฐานรอง บทสรุปการประดิษฐ์การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวัสดุอิเลกทรอนิกส์แสงที่ ประกอบด้วยตัวกลางรูปแบบเดียวที่มีคุณสมบัติทางไฟฟ้าที่ควบ คุมได้ ; และอนุภาคที่ละเอียดเป็นพิเศษของสารกึ่งตัวนำใน ตัวกลางและมีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 100 nm หรือน้อยกว่า,และ อุปกรณ์การใช้งานที่ใช้วัสดุดังกล่าว นอกจากนี้การประดิษฐ์ ยังเกี่ยวข้องกับวิธีการผลิตวัสดุอิเลกทรอนิกส์แสงโดยการ ฉายลำแสงเลเซอร์ไปบนเป้าหมายที่หนึ่งของวัสดุสารกึ่งตัวนำ ที่ถูกวางในห้องปฏิกิริยาในสภาพแวดล้อม ก๊สซเฉื่อยความดัน ต่ำ,และเป้าหมายที่สองของวัสดุตัวกลางที่มีคุณสมบัติไฟฟ้า ที่ควบคุมได้ที่ถูกวางในห้องปฏิกิริยา,การควบแน่น/การสร้าง วัสดุสารกึ่งตัวนำที่ถูกขจัดจากเป้าหมายที่หนึ่ง เพื่อถูกสะสมเป็นอนุภาคที่ละเอียดเป็นพิเศษที่มีขนาดอนุภาค เฉลี่ย 100 nm หรือน้อยกว่าบนฐานรองที่ถูกวางในห้อง ปฏิกิริยา,และการควบแน่น/การสร้างวัสดุตัวกลางที่ถูกขจัด จากเป้าหมายที่สองเพื่อถูกสะสมบนฐานรองที่ถูกวางในห้อง ปฏิกิริยา เพื่อให้มีการสร้างชั้นที่มีอนุภาคที่ละเอียด เป็นพิเศษกระจายอยู่ที่มีอนุภาคที่ละเอียดเป็นพิเศษของสาร กึ่งตัวนำถูกกระจายในตัวกลางบนฐานรอง DC60 (16/09/40) This invention relates to light electronic materials. Containing a single medium that has Controllable electrical properties; And ultra-fine particles of the semiconductor in the medium and It has an average particle size of 100nm or less, and applications using such materials are also involved in a method of producing light electronic materials by projecting a laser beam onto a target. The first mark of the semiconductor material was placed in the reaction chamber in the environment. Low pressure inert gas, and the second target of the medium with controlled electrical properties was placed in the reaction chamber, condensation / generation of semiconductor material that was removed from the first target to be deposited into the Ultra fine with an average particle size of 100nm or less on a substrate placed in the reaction chamber, and condensation / formation. Media material removed from the second target to be deposited on the substrate that Was placed in the reaction chamber. So that a layer of ultra-fine particles scattered with particles that Super fine semiconductor is distributed in the medium on the substrate. Invention Conclusion This invention relates to light electronic materials that Consists of a single medium with controlled electrical properties; And ultra-fine particles of semiconductors in Medium and has an average particle size of 100 nm or less, and Applications that use such materials Invention Is also related to the production method of light electronic materials by Project a laser beam on the first target of the semiconductor material. That was placed in the reaction chamber in the environment Inert gas pressure Low, and the second target of the medium with electrical properties A controlled place in the reaction chamber, condensation / generation Semiconductor material removed from the first target To be deposited into ultra-fine particles with an average particle size of 100 nm or less on a substrate placed in the chamber. Reaction, and condensation / formation of the eliminated media material From the second target to be deposited on a substrate placed in the reaction chamber to form a layer with fine particles. Specially dispersed containing ultra-fine particles of substance The semiconductor is distributed in the medium on the secondary base.

Claims (3)

: DC60 (16/09/40) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวัสดุอิเลกทรอนิกส์แสง ที่ประกอบด้วยตัวกลางรูปแบบเดียวที่มี คุณสมบัติทางไฟฟ้าที่ควบคุมได้ ; และอนุภาคที่ละเอียดเป็นพิเศษของสารกึ่งตัวนำในตัวกลางและ มีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 100nm หรือน้อยกว่า, และอุปกรณ์การใช้งานที่ใช้วัสดุดังกล่าว นอกจากนี้การ ประดิษฐ์ยังเกี่ยวข้องกับวิธีของการผลิตวัสดุอิเลกทรอนิกส์แสงโดยการฉายลำแสงเลเซอร์ไปบนเป้า หมายที่หนึ่งของวัสดุสารกึ่งตัวนำที่ถูกวางในห้องปฏิกิริยาในสภาพแวดล้อม ก๊าซเฉื่อยความดันต่ำ, และเป้าหมายที่สองของวัสดุตัวกลางที่มีคุณสมบัติทางไฟฟ้าที่ควบคุมได้ที่ถูกวางในห้องปฏิกิริยา, การควบแน่น/การสร้างวัสดุสารกึ่งตัวนำที่ถูกขจัดจากเป้าหมายที่หนึ่งเพื่อถูกสะสมเป็นอนุภาคที่ ละเอียดเป็นพิเศษที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 100nm หรือน้อยกว่าบนฐานรองที่ถูกวางในห้องปฏิกิริยา, และการควบแน่น/การสร้าง วัสดุตัวกลางที่ถูกขจัดจากเป้าหมายที่สองเพื่อถูกสะสมบนฐานรองที่ ถูกวางในห้องปฏิกิริยา เพื่อให้มีการสร้างชั้นที่มีอนุภาคที่ละเอียดเป็นพิเศษกระจายอยู่ที่มีอนุภาคที่ ละเอียดเป็นพิเศษของสารกึ่งตัวนำถูกกระจายในตัวกลางบนฐานรอง บทสรุปการประดิษฐ์การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวัสดุอิเลกทรอนิกส์แสงที่ ประกอบด้วยตัวกลางรูปแบบเดียวที่มีคุณสมบัติทางไฟฟ้าที่ควบ คุมได้ ; และอนุภาคที่ละเอียดเป็นพิเศษของสารกึ่งตัวนำใน ตัวกลางและมีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 100 nm หรือน้อยกว่า,และ อุปกรณ์การใช้งานที่ใช้วัสดุดังกล่าว นอกจากนี้การประดิษฐ์ ยังเกี่ยวข้องกับวิธีการผลิตวัสดุอิเลกทรอนิกส์แสงโดยการ ฉายลำแสงเลเซอร์ไปบนเป้าหมายที่หนึ่งของวัสดุสารกึ่งตัวนำ ที่ถูกวางในห้องปฏิกิริยาในสภาพแวดล้อม ก๊สซเฉื่อยความดัน ต่ำ,และเป้าหมายที่สองของวัสดุตัวกลางที่มีคุณสมบัติไฟฟ้า ที่ควบคุมได้ที่ถูกวางในห้องปฏิกิริยา,การควบแน่น/การสร้าง วัสดุสารกึ่งตัวนำที่ถูกขจัดจากเป้าหมายที่หนึ่ง เพื่อถูกสะสมเป็นอนุภาคที่ละเอียดเป็นพิเศษที่มีขนาดอนุภาค เฉลี่ย 100 nm หรือน้อยกว่าบนฐานรองที่ถูกวางในห้อง ปฏิกิริยา,และการควบแน่น/การสร้างวัสดุตัวกลางที่ถูกขจัด จากเป้าหมายที่สองเพื่อถูกสะสมบนฐานรองที่ถูกวางในห้อง ปฏิกิริยา เพื่อให้มีการสร้างชั้นที่มีอนุภาคที่ละเอียด เป็นพิเศษกระจายอยู่ที่มีอนุภาคที่ละเอียดเป็นพิเศษของสาร กึ่งตัวนำถูกกระจายในตัวกลางบนฐานรอง ข้อถือสิทธิ์ (ข้อที่หนึ่ง) ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา : ข้อถือสิทธิ์: DC60 (16/09/40) This invention relates to light electronic materials. Containing a single medium that has Controllable electrical properties; And ultra-fine particles of the semiconductor in the medium and It has an average particle size of 100nm or less, and applications using such materials are also involved in a method of producing light electronic materials by projecting a laser beam onto a target. The first mark of the semiconductor material was placed in the reaction chamber in the environment. Low pressure inert gas, and the second target of the medium with controlled electrical properties was placed in the reaction chamber, condensation / generation of semiconductor material that was removed from the first target to be deposited into the Ultra fine with an average particle size of 100nm or less on a substrate placed in the reaction chamber, and condensation / formation Media material removed from the second target to be deposited on the substrate that Was placed in the reaction chamber. So that a layer of ultra-fine particles scattered with particles that Super fine semiconductor is distributed in the medium on the substrate. Invention Conclusion This invention relates to light electronic materials that Consists of a single medium with controlled electrical properties; And ultra-fine particles of semiconductors in Medium and has an average particle size of 100 nm or less, and Applications that use such materials Invention It is also related to the production method of light electronic materials by Project a laser beam on the first target of the semiconductor material. That was placed in the reaction chamber in the environment Inert gas pressure Low, and the second target of the medium with electrical properties A controlled place in the reaction chamber, condensation / generation Semiconductor material removed from the first target. To be deposited into ultra-fine particles with an average particle size of 100 nm or less on a substrate placed in the chamber. Reaction, and condensation / formation of the eliminated media material From the second target to be deposited on a substrate placed in the reaction chamber to form a layer with fine particles. Specially dispersed containing ultra-fine particles of substance The semiconductor is distributed in the medium on the Proposition Base (Section One) which appears on the Notice: Claims. 1. วัสดุอิเลกทรอนิกส์แสงประกอบด้วย: ตัวกลางรูปแบบเดียวที่มีคุณสมบัติทางไฟฟ้าที่ควบคุม ได้;และอนุภาคที่ละเอียดเป็นพิเศษของสรกึ่งตัวนำที่ถูก กระจายในตัวกลางดังกล่าว และมีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 100 nm หรือมากกว่า1.Optical electronic material consists of: a single medium with controlled electrical properties. Yes; and the ultra-fine particles of the Distributed in the said medium And have an average particle size of 100 nm or more 2. วัสดุอิเลกทรอนิกส์แสง ตามข้อถือสิทธิ์ที่ 1 เส้นผ่าน ศูนย์กลางของอนุภาคที่ละเอียดเป็นพิเศษของสารกึ่งตัวนำจะ เท่ากับ หรือเล็กว่าสองเท่าของความยาวคลื่นเดอร์โปรโดย ประมาณของวัสดุกึ่งสารตัวนำสำหรับอนุภาคที่ละเอียดเป็น พิเศษ2.Electronic material, light According to claim 1, the diameter of the semiconductor's ultra-fine particle center is equal or smaller than twice the derpro wavelength, where Estimation of semiconductor materials for ultra fine particles 3. วัสดุอิเลกทรอนิกส์แสง ตามข้อถือสิทธิ์ที่ 1 ตัวกลาแท็ก :3.Electronic materials, lighting According to the first claim, Glatag:
TH9701002417A 1997-06-19 TH28326A (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH28326A true TH28326A (en) 1998-03-25

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ID17055A (en) AN OPTOELECTRONIC MATERIAL, THE APPLICATION TOOLS AND THE METHOD OF MAKING THE OPTOELECTRONIC MATERIAL
Malshe et al. A review of techniques for polishing and planarizing chemically vapor-deposited (CVD) diamond films and substrates
CN109075073A (en) Nano particle manufacture
Kanemitsu et al. Visible photoluminescence of silicon‐based nanostructures: Porous silicon and small silicon‐based clusters
JP2020522452A (en) Method for obtaining encapsulated nanoparticles
JPH09510828A (en) Thin film electronic device and manufacturing method thereof
JP2019535860A (en) Glass composite particles and their use
Yang et al. Synthesis and characterization of germanium/Si− alkyl and germanium/silica core− shell quantum dots
EP1606103A2 (en) Rapid generation of nanoparticles from bulk solids at room temperature
PL1675971T3 (en) Method for coating a substrate surface using a plasma beam
Wu et al. Microcontact printing of CdS/dendrimer nanocomposite patterns on silicon wafers
US20080003458A2 (en) Method of altering crystal structure of group 13 element nitride, group 13 element nitride and structure material containing cubic nitride
WO1999060597A9 (en) Cold-emission film-type cathode and method for producing the same
US8003551B2 (en) Surface-activation of semiconductor nanostructures for biological applications
TH28326A (en)
Aleksenskii et al. Ultradisperse diamond cluster aggregation studied by atomic force microscopy
KR100466251B1 (en) Manufacturing Method for Spherical Colloidal Crystals with Variable Size and Multi-Pore Structure and Electrohyddrodynamic Spraying Device thereused
EP0841703B1 (en) Ultrafine particle structure and production method thereof
KR100397396B1 (en) Method for producing tungsten super fine particle and nano-crystal membrane
Moher et al. Photonic Properties of Thin Films Composed of Gallium Nitride Quantum Dots Synthesized by Nonequilibrium Plasma Aerotaxy
JP2004344854A (en) Method of forming fine particles accumulated body
Goodfriend et al. Emission and Absorption Spectra of the OF2–NO Diffusion Flame
Schröder et al. Analysis of UV Laser-Induced Heterogeneous Deposition: Platinum
JP2006142393A (en) Micro nano-pattern structure and its manufacturing method
RU2363068C1 (en) Method of composition structure forming