TH25329A -
Polishing cloth and method for fixing / detaching Of that polishing cloth to / from Polisher base plate
- Google Patents
Polishing cloth and method for fixing / detaching Of that polishing cloth to / from Polisher base plate
Info
Publication number
TH25329A
TH25329ATH9601001284ATH9601001284ATH25329ATH 25329 ATH25329 ATH 25329ATH 9601001284 ATH9601001284 ATH 9601001284ATH 9601001284 ATH9601001284 ATH 9601001284ATH 25329 ATH25329 ATH 25329A
ผ้าขัดเงาชนิดหนึ่งตามการประดิษฐ์นี้ ประกอบด้วย หนึ่งชั้นรองผ้าขัดเงา 1; หนึ่งชั้นสารกาวที่ไวต่อแรงกดดัน 2 ที่ถูกซ้อนแผ่นอยู่บนหน้าหนึ่งของชั้นรองผ้าขัดเงา 1; และ หนึ่งแผ่นปลดปล่อย 3 ที่ยึดติดอยู่กับชั้นสารกาวที่ไวต่อแรงกดดัน 2 นั้น ในลักษณะ ที่สามารถปลดปล่อยได้, ซึ่ง ชั้นสารกาวที่ไวต่อแรงกดดัน 2 นั้นประกอบด้วยสูตรผสมสาร กาวชนิดหนึ่ง ที่ประกอบด้วย พอลิเมอร์ ชนิดหนึ่ง, พอลิเมอร์นั้นจะมี การเปลี่ยนลักษณะ หลอมลำดับที่หนึ่ง ที่เกิดขึ้นในห้วงอุณหภูมิที่แคบกว่าประมาณ 15 ํซ ดังนั้น, การ ประดิษฐ์นี้ทำให้ได้มาซึ่ง ผ้าขัดเงาชนิดหนึ่ง และ วิธีหนึ่งสำหรับ ยึดติด/แยกออก ผ้าขัดเงา นั้น เข้ากับ/ออกจาก จานฐานหนึ่งของ เครื่องขัดเงา ในลักษณะที่ ผ้าขัดเงานั้นสามารถถูก ลอกออกจากจานฐานนั้นโดยเพียงแต่ทำให้จานฐานและชั้นสารกาวของผ้าขัดเงานั้น เย็นลง.: A kind of polishing cloth according to this invention consists of one backing, 1 polishing cloth; One layer of pressure-sensitive adhesive 2 that is stacked on one side of the buffing layer 1; And one release plate 3 that is attached to the pressure-sensitive adhesive layer 2 in a releaseable manner, the pressure-sensitive adhesive layer 2 is composed of a polymer-based adhesive formulation. A type of polymer, that polymer has Change in appearance Forged first Occurring in temperatures that are narrower about 15 ํ Therefore, this invention has One kind of polishing cloth and one way for Attach / detach that polishing cloth to / from One of the base plates The polisher in such a way that the polishing cloth can be Peel off the base plate by simply cooling the base plate and the adhesive layer of the polishing cloth:
Claims (1)
1. ผ้าขัดเงาชนิดหนึ่งที่ประกอบด้วย : หนึ่งชั้นรองผ้าขัดเงา; หนึ่งชั้นสารกาวที่ไวต่อแรงกดดัน ที่ถูกซ้อนแผ่นอยู่บนหนึ่งหน้าของชั้นรองผ้า ขัดเงานั้น; และ หนึ่งแผ่นผืนปลดปล่อยที่ยึดติดอยู่กับ ชั้นสารกาวที่ไวต่อแรงกดดันนั้น ใน ลักษณะที่สามารถปลดปล่อยได้ , ซึ่ง ชั้นสารกาวที่ไวต่อแรงกดดันนั้นประกอบด้วย สูตรผสมสารกาวหนึ่ง ที่ ประกอบด้วย พอลิเมอร์หนึ่ง, พอลิเมอร์นั้นมีการเปลี่ยนลักษณะหลอมลำดับที่หนึ่ง ในห้วง อุณภูมิทแท็ก :1. A kind of polishing cloth containing: One layer of polishing cloth backing; One layer of pressure-sensitive adhesive That was piled on one side of the cloth backing; And one release sheet attached to The pressure-sensitive adhesive layer is in a releaseable manner, the pressure-sensitive adhesive layer consists of One adhesive formulation containing one polymer, the polymer has a first-order melt change in the temperature range.
TH9601001284A1996-04-25
Polishing cloth and method for fixing / detaching Of that polishing cloth to / from Polisher base plate
TH25329A
(en)
A wafer retainer for retaining a wafer to be polished and a method for attaching/detaching the wafer retainer to/from a base plate of a polishing machine
Thin plate holder (Wafer) for fixing the thin plate to be polished and a method for attaching / removing the thin plate holder to / from the base plate ...