TH22735A - ปฏิมากรรมและระเบียบวิธีของการทำรูปปฏิมากรรม - Google Patents

Abstract

ปฏิมากรรมที่จัดให้มีผิวหน้าที่เว้าเข้าด้านในซึ่งมีรอยประทับแบบลบที่เป็นลวดลายนูนองการก่อรูปซึ่งแทนวัตถุจริง การก่อรูปมีลักษณะที่คัดเลือกไว้ของสัดส่วนอัตราส่วนที่ เลือกได้ของความสูง:ความกว้าง,ของความยาว:ความกว้างและของ ความลึก:ความกว้าง ที่แตกต่างกัน(1.3:1) เปรียบเทียบกับสัด ส่วน : อัตราส่วน ซึ่งสอดคล้องกันของวัตถุจริงที่เป็น 1:1 การสังเกตปฏิมากรรมภายใต้การส่องสว่างโดยผู้สังเกตุการณ์ ซึ่งเคลื่อนที่ทำให้ผู้สังเกตการณ์มองเห็นภาพลวงตาเสมือน แบบสามมิติของการเคลื่อนไหวโดยที่ดูเสมือนว่าภาพปฏิมากรรม เคลื่อนที่ในทิศทางการเคลื่อนที่ของผู้สังเกตการณ์ กระบวน การของการก่อรูปปฏิมากรรมประกอบด้วยขั้นตอนง่าย ๆ ของการ ก่อรูปสำเนาที่แกะสลักขึ้นของการก่อรูป การก่อขึ้นรูปแบบ หล่อของเกลือแอลจิเนท/ปูนปลาสเตอร์ที่หนึ่งซึ่มีรอยประทับ ที่เป็นลวดลายนูนแบบลบของการก่อรูปติดอยู่ การก่อขึ้นรูป แบบหล่อของเกลือแอลจิเนท/ปูนปลาสเตอร์ที่สองโดยใช้แบบหล่อ ที่หนึ่ง แบบหล่อที่สองจะมีรอยประทับที่เป็นลวดลายนูน แบบบวดของรอยประทับที่เป็นลวดลายนูนแบบลบของแบหล่อที่หนึ่ง หลังจากนั้นทำการหล่อโดยใช้แบบหล่อที่สอง โดยวิธีการนี้ เป็นการก่อรูปปฏิมากรรม :

Claims (1)

1.ปฏิมากรรมซึ่งแสดงให้เห็นวัตถุที่แท้จริงที่ทำให้มีลักษณะเฉพาะด้วย: ลำตัว 10 ที่มีผิวหน้าที่เว้าเข้า 16ซึ่งเปิดออกสู่ส่วน ภายนอกของมัน ที่เรียกว่าผิวหน้าที่เว้าเข้า16มีพื้นผิวด้านในซึ่งมีรอย ประทับแบบลบ18 ซึ่งแทนวัตถุดังกล่าว ที่เรียกว่ารอยประทับแบบลบจะให้ผ่านการดัดแปรแก้ไขเชิงสัด ส่วนแบบเลือกได้ซึ่งแทนวัตถุที่แท้จริงดังกล่าวในโครงแบบ ที่เป็นลวดลายนูนแบบลบ ที่เรียกว่าโครงแบบที่เป็นลวดลายนูนแบบลบสำหรับกำหนดรูป ลักษณะที่ผ่านการคัดเลือกซึ่งมีสัดส่วน อัตราส่นแตกต่างจาก ส่วน : อัตราส่วนของรูปลักษณะทีแท็ก :