TH2108A - กระบวนการเคลือบ - Google Patents

กระบวนการเคลือบ

Info

Publication number
TH2108A
TH2108A TH8301000469A TH8301000469A TH2108A TH 2108 A TH2108 A TH 2108A TH 8301000469 A TH8301000469 A TH 8301000469A TH 8301000469 A TH8301000469 A TH 8301000469A TH 2108 A TH2108 A TH 2108A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
coating
film
coating material
base
medium
Prior art date
Application number
TH8301000469A
Other languages
English (en)
Inventor
โรเบิร์ต แคมพ์เบลล์ บาร์โลว์ นายอลัน
โดรอสซ์โคว์สกี นายแอนดรูว์
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH2108A publication Critical patent/TH2108A/th

Links

Abstract

ฐานที่มีสภาพนำเป็นขั้วลบถูกเคลือบโดยการจับเกาะกระแสไฟฟ้าโดยใช้วัสดุสำหรับเคลือบซึ่งประกอบด้วยสรกระจาย ซึ่ง ถูกทำให้เสถียรเชิงสเทอริกของอนุภาคโพลีเมอร์ที่ทำให้เกิด ฟิล์มในตัวกลางของน้ำ โพลีเมอร์ประกอบด้วยหรือเกี่ยวโยงกัน กับมอยเอทีโลพีเมอร์ที่ชอบน้ำและไม่เป็นไอออน ซึ่งถูกบอล เวทโดยตัวกลางของกน้ำ และปราศจากประจุทางไอออนสำหรับทำให้ เสถียร การกระจายตัวของอนุภาคของโพลเมอร์ที่ทำให้เกิดฟิล์ม มีค่าการรวมตัววิกฤตซึ่งเป็นลบมากกว่า - 0.3 หน่วย

Claims (1)

1. กระบวนการสำหรับการเคลือบฐานที่มีสภาพนำที่ซึ่งฐานถูกจุ่มลงในส่วนประกอบสำหรับเคลือบซึงประกอบด้วยตัวกลางของน้ำ และวัสดุสำหรับเคลือบที่กระจายยอยู่,านทำเป็นขั้วลบในวงจร ไฟฟ้า แล้วกระแสไฟฟ้าผ่านระหว่างขั้วลบและขั้วอิเล้กโทรก ตรงข้ามจนกระทั่งปริมาณที่ต้องการของวัสดุสำหรับเคลือบได้ จับเกาะลงบนฐาน อันมีคุณลักษณะเฉพาะในส่วนที่ว่า (ก) วัสดุสำหรับเคลือบประกอบด้วยโพลีเมอร์ที่ทำให้เกิด ฟิล์มซึ่งถูกทำให้เสถียรเชิงทรอลิกในรูปของสารกระจายของ อนุภาคในตัวกลางของน้ำและปราศจากประจุทางไอออนสำหรับทำให้ เสถียร (ข) โแท็ก :
TH8301000469A 1983-11-18 กระบวนการเคลือบ TH2108A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH2108A true TH2108A (th) 1985-01-02

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5041199A (en) Process for producing electrodeposited electrodes for use in electrochemical cells
US4711814A (en) Nickel particle plating system
FR2108369A5 (th)
CA2124082A1 (en) Device for the Electrolytic Coating of Small Parts
JPS63213694A (ja) 電気的用途の金属ワイヤ上に移動モードでニツケルの連続薄膜を電着するための方法及び装置
Shibata Conductance measurement of thin oxide films on a platinum anode
TH2108A (th) กระบวนการเคลือบ
ES527390A0 (es) Procedimiento para revestir un sustrato conductor
US4408257A (en) Cathode electrode for an electrical device
EP0193978A1 (en) Process for incorporating powders into a polymer layer
US4466841A (en) Cathode electrode for an electrical device and method of making same
SE8303726L (sv) Katod for elektrolys av syralosning och forfarande for framstellning derav
JPWO2019240030A1 (ja) 銀−塩化銀電極の製造方法
US3752751A (en) Process for forming an electrically conductive coating on a nonmetallic filament
JPS60149673A (ja) 導電性皮膜の形成方法
GB2158463A (en) Forming ceramic films
US3752750A (en) Method for electrodeposition
EP0010800A1 (en) Apparatus for and method of electrophoretic coating of cathode shafts with an emissive layer
GB2117796A (en) Forming ceramic layers; dielectric structures
JPH03120395A (ja) 酸化ビスマスのコーティング法
AU2129588A (en) Light-modulation devices
SU603353A3 (ru) Материал дл изготовлени контактного покрыти конденсаторов
RU2054729C1 (ru) Высоковольтный вакуумный прибор.
US3038953A (en) Solid-state cell and battery
Nakamura et al. Polyimide films prepared by electrophoretic deposition and their dielectric breakdown