TH20348B - Inorganic fillers, epoxy resin mixtures, and semiconductor tools - Google Patents

Inorganic fillers, epoxy resin mixtures, and semiconductor tools

Info

Publication number
TH20348B
TH20348B TH9701003432A TH9701003432A TH20348B TH 20348 B TH20348 B TH 20348B TH 9701003432 A TH9701003432 A TH 9701003432A TH 9701003432 A TH9701003432 A TH 9701003432A TH 20348 B TH20348 B TH 20348B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
particle size
average particle
particles
epoxy resin
inorganic filler
Prior art date
Application number
TH9701003432A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH27839A (en
Inventor
โตมิโยชิ คาซูโตชิ
ชิโอบาระ โตชิโอะ
ฟูกุโมโตะ ทากาอากิ
ไฮกุชิ โนริอากิ
อาซาโนะ เออิอิชิ
Original Assignee
นายธีรพล สุวรรณประทีป
นายธีรพล สุวรรณประทีป นายมนูญ ช่างชำนิ
นายมนูญ ช่างชำนิ
มิตซูบิชิ เดนกิ คาบูชิกิ ไกชา
Filing date
Publication date
Application filed by นายธีรพล สุวรรณประทีป, นายธีรพล สุวรรณประทีป นายมนูญ ช่างชำนิ, นายมนูญ ช่างชำนิ, มิตซูบิชิ เดนกิ คาบูชิกิ ไกชา filed Critical นายธีรพล สุวรรณประทีป
Publication of TH27839A publication Critical patent/TH27839A/en
Publication of TH20348B publication Critical patent/TH20348B/en

Links

Abstract

DC60 โดยการขจัดเศษส่วนของอนุภาคละเอียดที่มีขนาดอนุภาคน้อยกว่า 2 ไมโครเมตรจากอนุภาคเติมเต็ม อนินทรีย์ตั้งต้นที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 0.1 ถึง 2 ไมโครเมตรจากอนุภาคสารเติมเต็มอนินทรีย์ตั้งต้นที่มีขนาดอนุ ภาพเฉลี่ย 10 ถึง 50 ไมโครเมตร และการเติมไปยังอนุภาคที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 0.1 ถึง 2 ไมโครเมตรและ พื้นผิวจำเพาะ 3-10 เมตร2/กรัม (BET), สิ่งเหล่านั้นได้รับอนุภาคสารเติมเต็มอนินทรีย์ที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 5- 40 ไมโครเมตร เมื่อปริมาณมากของสารเติมเต็มอนินทรีย์ถูกโหลดในสารผสมอีพอกซีเรซิน สารผสมคงรักษา ความหนืดหลอมเหลวต่ำเพียงพอต่อการหล่อแบบและบังเกิดผลสำหรับผนึกหุ้มเครื่องมือวัสดุกึ่งตัวนำ ปราศจากเป็นเหตุให้แผ่นดายผิดรูปและสายไฟผิดรูป เครื่องมือวัสดุกึ่งตัวนำที่ผนึกหุ้มถูกทำให้วางใจได้อย่าง สูง โดยการขจัดเศษส่วนของอนุภาคละเอียดที่มีขนาดอนุภาคน้อยกว่า 2 ไมโครเมตรจากอนุภาคเติมเต็ม อนินทรีย์ตั้งต้นที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 0.1 ถึง 2ไมโครเมตรจากอนุภาคสารเติมเต็มอนินทรีย์ตั้งต้นที่มีขนาดอนุ ภาพเฉลี่ย 10 ถึง 50 ไมโครเมตร และการเติมไปยังอนุภาคที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 0.1 ถึง 2 ไมโครเมตรและ พื้นผิวจำเพาะ 3-10 เมตร2/กรัม (BET), สิ่งเหล่านั้นได้รับอนุภาคสารเติมเต็มอนินทรีย์ที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 5- 40 ไมโครเมตร เมื่อปริมาณมากของสารเติมเต็มอนินทรีย์ถูกโหลดในสารผสมอีพอกซีเรซิน สารผสมคงรักษา ความหนืดหลอมเหลวต่ำเพียงพอต่อการหล่อแบบและบังเกิดผลสำหรับผนึกหุ้มเครื่องมือวัสดุกึ่งตัวนำ ปราศจากเป็นเหตุให้แผ่นดายผิดรูปและสายไฟผิดรูป เครื่องมือวัสดุกึ่งตัวนำที่ผนึกหุ้มถูกทำให้วางใจได้อย่าง สูง DC60 by removing fine particle fractions with particle size less than 2 μm from fill particles. Precursor inorganic filler particles with an average particle size of 0.1 to 2 μm from the substrate inorganic filler particle with an average particle size of 10 to 50 μm and addition to a particle with an average particle size of 0.1 to 2. Micrometer and a specific surface 3-10 m 2 / g (BET), they were obtained inorganic filler particles with an average particle size of 5- 40 μm when large quantities of inorganic fillers were obtained. The jersey is loaded in an epoxy resin mixture. Preservative mixtures Low melting viscosity sufficient for tooling and semiconductor materials. Free from deforming dies and wires The encapsulated semiconductor device is highly reliable by removing the fractions of fine particles less than 2 μm from the filled particles. Precursor inorganic filler particles with an average particle size of 0.1 to 2 μm from the substrate inorganic filler particle with an average particle size of 10 to 50 μm and addition to a particle with an average particle size of 0.1 to 2. Micrometer and a specific surface 3-10 m 2 / g (BET), they were obtained inorganic filler particles with an average particle size of 5- 40 μm when large quantities of inorganic fillers were obtained. The jersey is loaded in an epoxy resin mixture. Preservative mixtures Low melting viscosity sufficient for tooling and semiconductor materials. Free from deforming dies and wires The sealed semiconductor tool is highly reliable.

Claims (3)

1. สารเติมเต็มอนินทรีย์ที่เป็นพาร์ติคูเลทที่เป็นชนิดหนึ่งจากกลุ่มที่ประกอบด้วยซิลิกาชนิด หลอมรวม, ซิลิกาผลึก, อะลูมินา, บอรอนไนไตรด์, อะลูมินัมไนไตรด์, ซิลิคอนไนไทรด์, แมกนีเซีย, และแมนี เซียมซิลิเคต, และมีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 5 ถึง 40 ไมโครเมตร และพื้นผิวจำเพาะ 0.5 ถึง 3 เมตร2/กรัม, และจัดว่า เป็นอิสระจากส่วนของอนุภาคที่ละอียดที่มีขนาดอนุภาคน้อยกว่า 0.1 ไมโครเมตร, ที่ได้รับโดยการขจัดส่วน ของอนุภาคที่มีขนาดอนุภาคน้อยกว่า 2 ไมโครเมตร ซึ่งมีพวกที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ยน้อยกว่า 0.1 ไมโครเมตร และพื้นผิวจำเพาะมากกว่า 50เมตร2/กรัม จากอนุภาคสารเติมเต็มเริ่มต้นที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 10 ถึง 50 ไมโครเมตร และมีอนุภาคที่ละเอียดดังกล่าว และการเติม 1 ถึง 30 ส่วน โดยน้ำหนักของอนุภาคอนินทรีย์ที่มี ขนาดอนุภาคเฉลี่ย 0.3 ถึง 2 ไมโครเมตร และพื้นผิวจำเพาะ 3 ถึง 10 เมตร 2/กรัม เมื่อวัดโดยวิธี BET ดูดซับ ไนโตรเจน และไม่มีอนุภาคที่มีขนาดอนุภาคน้อยกว่า 0.1 ไมโครเมตร ต่อ 100 ส่วน โดยน้ำหนักของอนุภาค เติมเต็มอนินทรีย์ ซึ่งส่วนของอนุภาคที่ละเอียดนั้นได้ถูกขจัดออกจากมันแล้ว1. Inorganic particleate fillers of a type from the group consisting of fused silica, crystalline silica, alumina, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, magnesia, and magnesium silicate, with an average particle size of 5 to 40 µm and a specific surface area of 0.5 to 3 m²/g, and considered free from the fraction of fine particles with a particle size less than 0.1 µm, obtained by removing the fraction of particles with a particle size less than 2 µm, which have an average particle size less than 0.1 µm and a specific surface area greater than 50 m²/g from an initial filler particle with an average particle size of 10 to 50 µm and such fine particles, and adding 1 to 30 parts by weight of inorganic particles. The average particle size is 0.3 to 2 micrometers and the specific surface area is 3 to 10 m²/g when measured by the BET method. Nitrogen is adsorbed, and no particles smaller than 0.1 micrometers per 100 parts by weight of particles are present in the inorganic fill, from which the finer particles have been removed. 2. สารผสมอีกพอกซีเรซินประกอบด้วยอีพอกซีเรซิน,สารบ่ม, และสารเติมเต็มอนินทรีย์ ซึ่ง สารเติมเต็มอนินทรีย์ดังกล่าวเป็นดังระบุไว้ในข้อถือสิทธิ 1 และปริมาณของสารเติมเต็มอนินทรีย์ดังกล่าวเป็น 70% ถึง 90% โดยน้ำหนักของสารผสมทั้งหมด2. The epoxy resin mixture consists of epoxy resin, a curing agent, and inorganic fillers, which are as described in Reputation 1 and constitute 70% to 90% by weight of the total mixture. 3. เครื่องมือวัสดุกึ่งตัวนำที่ผนึกหุ้มด้วยผลิตภัณฑ์ที่ผ่านการบ่มแล้วของสารผสมอีพอกซีเรซินดัง ระบุไว้ในข้อถือสิทธิ 23. A semiconductor device encapsulated in a cured product of an epoxy resin mixture as specified in Claim 2.
TH9701003432A 1997-08-26 Inorganic fillers, epoxy resin mixtures, and semiconductor tools TH20348B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH27839A TH27839A (en) 1998-01-30
TH20348B true TH20348B (en) 2006-08-10

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0829455A3 (en) Inorganic filler, epoxy resin composition, and semiconductor device
KR100362961B1 (en) A high thermal conductivity molding compound based on an improved boron nitride composition and a polymer
Bae et al. The properties of AlN-filled epoxy molding compounds by the effects of filler size distribution
KR0140992B1 (en) Plastic composition
US5298328A (en) Packing material and method of making same
US6054222A (en) Epoxy resin composition, resin-encapsulated semiconductor device using the same, epoxy resin molding material and epoxy resin composite tablet
EP2025644B1 (en) Ceramic powder and method of using the same
MY113659A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device encapsulated therewith
JPS644540B2 (en)
MY131999A (en) Process for production of epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, and semiconductor device
US5141050A (en) Controlled highly densified diamond packing of thermally conductive electrically resistive conduit
KR20190084332A (en) A filler for a resin composition, a slurry composition containing a filler, and a filler-containing resin composition
KR20140128938A (en) Method for packing encapsulating resin composition, package, and transportation method
TH27839A (en) Inorganic fillers, epoxy resin mixtures, and semiconductor tools
MY121060A (en) Butadiene rubber particles with secondary particle sizes for epoxy resin encapsulant, composition of epoxy resin, phenolic resin, butadiene particles and amino silicone oil.
JP2023067951A5 (en)
JPH0680863A (en) Epoxy resin composition
KR20230079847A (en) Composition for semiconductor encapsulation and semiconductor parts molded therefrom
EP0114000B1 (en) Thermally conducting filler for enclosing electrical components
RU2260213C1 (en) Polymer composition for biological protection from neutron radiation
JPH0260944A (en) Molding resin composition
EP1595919A1 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device using the same
JP2601255B2 (en) Filler for semiconductor resin sealing
Chien et al. Simulation of the Filler Stuck Mechanism in Molding Process and Verification
JP2000178413A (en) Spherical silica for semiconductor encapsulant