Claims (23)
1. กรรมวิธีของการบำบัดแก๊ส และ/หรือ ของเหลวที่มีมลพิษ ในเครื่องปฏิกรณ์ (11,11',11'', 53) ที่ซึ่งกรรมวิธีนี้ทำให้ของเหลวไหลลงตามผนังของเครื่องปฏิกรณ์ ในรูปของฟิล์มที่เคลื่อนที่ลง (33) และถูกเปิดให้ฉายรังสีอิเลคโตรแมคเนติคโดยพร้อมๆ กัน ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ว่าฟิล์มยึดติดผิว (31) ถูกทำให้เกิดในเครื่องปฏิกรณ์โดยวิถีทางของหัวฉีด (15) และที่ซึ่งแก๊สไหลผ่านฟิล์มผิว (31) เพื่อ ให้เกิดการถ่ายเทมวลสาร จากวัฏภาคแก๊สไปยังวัฏภาคของเหลว1. A process for treating contaminated gases and/or liquids in a reactor (11,11',11'', 53) in which the liquid is forced down the reactor wall in the form of a moving film (33) and simultaneously exposed to electromagnetic radiation. It is characterized by the formation of a surface film (31) in the reactor via a nozzle (15) and by which gas flows through the surface film (31) to facilitate mass transfer from the gaseous to the liquid phase.
2. กรรมวิธีในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่แก๊ส และของเหลวถูกฉายรังสี โดย พร้อม ๆ กัน2. The process described in claim 1 is characterized by the simultaneous irradiation of the gas and liquid.
3. กรรมวิธีในข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือข้อที่ 2 ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่แก๊สถูกป้อนเข้าในลักษณะ สวนทางกับฟิล์ม (33) ที่เคลื่อนที่ลง3. A procedure under claim 1 or 2 which is characterized by the gas being fed in a manner opposite to the downward movement of the film (33).
4. กรรมวิธีในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อที่ 3 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ แผ่นผิวบางที่ หมุนได้ ถูกสร้างขึ้นในเครื่องปฏิกรณ์ (11,11',11'',53)4. Any of the processes described in claims 1 through 3, which are characterized by the construction of a rotating thin-walled reactor (11,11',11'',53).
5. กรรมวิธีในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อที่ 4 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ สารเคมี 1 ชนิด เป็นอย่างน้อย หรือสารประกอบที่สามารถกระตุ้นด้วยการฉายรังสี และสามารถทำปฏิกิริยากับมลพิษ บางชนิดอย่างน้อย ในวัฏภาคแก๊ส และ/หรือ ของเหลวถูกเติมเข้าไปในแก๊ส และ/หรือ ในของเหลว5. Any of the processes described in claims 1 through 4, which are characterized by the addition of at least one chemical substance or a compound that is irradiateable and reactive with at least one of certain pollutants in the gaseous and/or liquid phase to the gas and/or liquid.
6. กรรมวิธีในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อที่ 5 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ของเหลวไหล หมุนเวียน6. Any of the processes described in claims 1 through 5, which are characterized by the flow and circulation of fluids.
7. กรรมวิธีในข้อถือสิทธิข้อที่ 6 ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ แก๊สไหลหมุนเวียนเพียงบางส่วน7. The process described in claim number 6 is characterized by a partial gas circulation.
8. กรรมวิธีในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อที่ 7 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ ความเข้มข้น ของมลพิษบางชนิด เป็นอย่างน้อย ถูกวัดไว้ และบนพื้นฐานของการวัดนี้ - การป้อน และการปล่อยแก๊สที่มีมลพิษ และ/หรือ ของเหลวที่มีมลพิษ และ/หรือ - จำนวนรอบการผ่านของของเหลว และ/หรือ ของแก๊ส และ/หรือ - ความเข้มของการฉายรังสี ถูกควบคุมไว้ และถูกปรับ เมื่อเหมาะสม8. Any of the processes described in claims 1 through 7, which are characterized by the measurement of at least certain pollutant concentrations, and on the basis of this measurement - the feeding and discharge of polluted gases and/or polluted liquids and/or - the number of passes of liquids and/or gases and/or - the intensity of irradiation, are controlled and adjusted as appropriate.
9. กรรมวิธีในข้อถือสิทธิข้อที่ 8 ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ การดูดซึมของของเหลว และ/หรือ ของ แก๊ส ถูกวัดอย่างเลือกสรร ที่ตำแหน่งมากกว่า 1 ตำแหน่ง มักจะเป็น 3 ตำแหน่ง กล่าวคือ ทางเข้า, ทาง ออก และระหว่างตำแหน่งทั้งสอง9. The process described in claim 8 is characterized by the selective measurement of liquid and/or gas absorption at more than one location, typically three locations: the inlet, the outlet, and between the two.
10. กรรมวิธีในข้อถือสิทธิข้อที่ 8 หรือข้อที่ 9 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ พารามิเตอร์อื่นๆ ของกระบวนการ เช่น ความเป็นกรด-ด่าง ศักยภาพของการรีดอกซ์, การนำไฟฟ้า และอุณหภูมิ ถูกวัดได้ และถูกนำไปใช้เพื่อควบคุม และปรับกระบวนการทำให้สะอาด10. A process under either claim 8 or 9 that is characterized by the measurement and application of other process parameters such as pH, redox potential, conductivity, and temperature to control and optimize the purification process.
11. อุปกรณ์สำหรับการบำบัดแก๊ส และ/หรือ ของเหลวที่มีมลพิษ ที่ประกอบรวมด้วย เครื่องปฏิกรณ์ (11,11',11'',53) แหล่งฉายรังสี (17) 1 แหล่งเป็นอย่างน้อย ซึ่งจัดวางในหรือรอบๆ เครื่องปฏิกรณ์ (11,11',11'',53) เพื่อฉายรังสีภายในเครื่องปฏิกรณ์ด้วยรังสีแม่เหล็กไฟฟ้า ทางเข้า ด้านบน (23) สำหรับของเหลว และทางออกด้านล่าง (34) ตัวกลางลำเลียง (69) เพื่อสูบของเหลว ไปยัง ทางเข้า (23) ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่หัวฉีด (15) ที่เชื่อมต่อกับตัวกลางลำเลียงของเหลว ถูกจัดวางใน เครื่องปฏิกรณ์ (11,11',11'',53) เพื่อสร้างขึ้นเป็น ฟิล์มผิวยึดเกาะ (31) ระหว่างผนังด้านใน (35) ของ เครื่องปฏิกรณ์กับหัวฉีด และที่ซึ่งเครื่องปฏิกรณ์ (11,11',11'',53) มีทางเข้า และทางออก (47,49) เพื่อให้แก๊สสามารถไหลผ่านฟิล์มผิว (31) ได้11. Equipment for the treatment of contaminated gases and/or liquids, comprising at least one reactor (11,11',11'',53), at least one irradiation source (17) positioned in or around the reactor (11,11',11'',53) to irradiate the inside of the reactor with electromagnetic radiation, an upper inlet (23) for liquids and a lower outlet (34), a conveying medium (69) to pump liquids to the inlet (23) which is characterized by a nozzle (15) connected to the liquid conveying medium, positioned in the reactor (11,11',11'',53) to create an adhesive surface film (31) between the inner wall (35) of the reactor and the nozzle, and where the reactor (11,11',11'',53) has inlets and outlets (47,49) to allow gases to flow through the surface film (31).
12. อุปกรณ์ในข้อถือสิทธิข้อที่ 11 ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่หัวฉีด (15) มีลักษณะสมมาตรที่หมุน ได้ เช่น ช่องว่างภายในทรงชมภู่ (19) พร้อมด้วยทางออกโค้งออกด้านนอก (21) และที่ซึ่ง ท่อป้อนของ เหลว (23) นำไปสู่ช่องว่างภายในหัวฉีด (19) ในแนวสัมผัส12. The device in claim 11, which is characterized by a nozzle (15) having a rotatable symmetrical shape, such as a rosette-shaped internal cavity (19) with an outward-curving outlet (21) and where the fluid feed pipe (23) leads to the nozzle (19) tangentially.
13. อุปกรณ์ในข้อถือสิทธิข้อที่ 11 หรือข้อที่ 12 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ เครื่อง ปฏิกรณ์ (11,11',11'',53) ทำขึ้นจากท่อ (13) ซึ่งจัดวางในแนวตั้ง และหัวฉีด (15) ถูกจัดวางให้มีแนว แกนร่วมกันในท่อ13. Any device under claim 11 or 12, which is characterized by the reactor (11,11',11'',53) being made of tubes (13) arranged vertically and the nozzle (15) being arranged axially in the tubes.
14. อุปกรณ์ในข้อถือสิทธิข้อที่ 11 ถึงข้อที่ 13 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่แหล่งฉาย รังสี (17) ถูกจัดวางบนแกนของหัวฉีด (15)14. Any device under claims 11 through 13, which is characterized by the radiation source (17) being placed on the axis of the nozzle (15).
15. อุปกรณ์ในข้อถือสิทธิข้อที่ 11 ถึงข้อที่ 14 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ หัวฉีด หลายหัวฉีด (15,15') ซึ่งจัดวางอยู่ใต้อีกหัวฉีดหนึ่ง ถูกจัดเตรียมไว้ในเครื่องปฏิกรณ์ (11'')15. Any of the devices described in claims 11 through 14, which are characterized by multiple nozzles (15,15') arranged beneath one another, are provided in the reactor (11'').
16. อุปกรณ์ในข้อถือสิทธิข้อที่ 15 ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ ตัวกลางถูกจัดเตรียมไว้ เพื่อเก็บ สะสมของเหลว และส่งของเหลวนั้นผ่านหัวฉีดแต่ละหัว (15) อย่างได้ผล16. The device in claim 15 is characterized by a medium being provided to effectively store, accumulate, and deliver the liquid through each nozzle (15).
17. อุปกรณ์ในข้อถือสิทธิข้อที่ 11 ถึงข้อที่ 16 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ เครื่อง ปฏิกรณ์ประกอบขึ้นด้วย วัสดุที่ฉายรังสีผ่านได้17. Any device under claims 11 through 16 which is characterized by a reactor constructed of irradiable material.
18. อุปกรณ์ในข้อถือสิทธิข้อที่ 11 ถึงข้อที่ 17 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ ภาชนะ เครื่องปฏิกรณ์ (81) ถูกจัดเตรียมไว้ ซึ่งล้อมรอบท่อ (13') เพื่อให้เกิดเป็นช่องว่างวงแหวน (85) สำหรับ การป้อนของเหลว18. Any of the devices in claims 11 through 17, which are characterized by the reactor vessel (81) being provided, which surrounds the pipe (13') to create an annular space (85) for the feeding of liquids.
19. อุปกรณ์ในข้อถือสิทธิข้อที่ 11 ถึงข้อที่ 16 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ ผนังด้านใน (35) ของเครื่องปฏิกรณ์ มีการเคลือบการสะท้อนการฉายรังสี19. Any device under claims 11 through 16 which has the characteristic that the inner wall of the reactor has an irradiation-reflective coating.
20. อุปกรณ์ในข้อถือสิทธิข้อที่ 11 ถึงข้อที่ 19 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ ท่อจำนวน มากมาย ถูกรวมเข้าด้วยกัน เพื่อให้เกิดเป็นกลุ่มท่อ หรือเครื่องปฏิกรณ์ (55)20. Any device under claims 11 through 19 which is characterized by a large number of tubes being combined to form a group of tubes or reactors (55)
21. อุปกรณ์ในข้อถือสิทธิข้อที่ 11 ถึงข้อที่ 20 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ อ่างเก็บ สะสม (63) จึงจัดเตรียมไว้สำหรับของเหลว ที่ไหลจากเครื่องปฏิกรณ์ และที่ซึ่ง อ่างเก็บสะสม (63) เชื่อมต่อกับตัวกลางลำเลียงของเหลว (69)21. Any of the devices in claims 11 through 20, which are of a specific type, are provided in the reservoir (63) for the flow of fluid from the reactor, and in which the reservoir (63) is connected to the fluid transport medium (69).
22. อุปกรณ์ในข้อถือสิทธิข้อที่ 11 ถึงข้อที่ 21 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ การเชื่อม ต่อ ถูกจัดเตรียมไว้ ระหว่างทางเข้าของแก๊ส (47) และทางออกของแก๊ส (49) เพื่อหมุนเวียนแก๊ส22. Any device under claims 11 through 21, which is of the characteristic that a connection is provided between the gas inlet (47) and the gas outlet (49) for gas circulation.
23. อุปกรณ์ในข้อถือสิทธิข้อที่ 11 ถึงข้อที่ 22 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ ท่อป้อน ถูก จัดเตรียมไว้ สำหรับการป้อนของเหลว และ/หรือ ท่อป้อน (73) ถูกเตรียมไว้ สำหรับการเติมสาร ประกอบ ที่กระตุ้นได้ด้วยการฉายรังสี23. Any of the devices under claims 11 through 22, which are characterized by a feed tube being provided for fluid feeding and/or a feed tube (73) being provided for the filling of the irradiated compound.