TH17790U - องค์ประกอบสำหรับเตรียมสารฆ่าเชื้อจุลินทรีย์ - Google Patents

Abstract

หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้า บทสรุปการประดิษฐ์ การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับองค์ประกอบสารฆ่าเชื้อจุลินทรีย์ที่ประกอบด้วย สารประกอบซิงค์ สารประกอบไคโตซาน สารละลายกรด สารเพิ่มความเสถียร และนํ้า ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือ สารประกอบไค โตซาน คือ ไคโตซานซิเตรต และกรรมวิธีเตรียมองค์ประกอบดังกล่าวโดยการใช้ ไคโตซานซิเตรตให้อยู่ใน รูปของสารคีเลตเพื่อใช้เป็นสารฆ่าเชื้อจุลินทรีย์ก่อโรคในปศุสัตว์และสิ่งแวดล้อม ที่มีการเติมสารเพิ่มความ เสถียร (stabilizing agent) เพื่อเพิ่มความคงตัวของไอออนโลหะ (metal ion) ให้เสถียรต่อออกซิเจน หรือต่อ จับตัวกับสารอื่นได้ง่ายโดยเฉพาะประจุลบซึ่งก่อให้เกิดการตกตะกอน และเพิ่มประสิทธิภาพในการออก ฤทธิ์ฆ่าเชื้อจุลินทรีย์เพื่อใช้เป็นสารฆ่าเชื้อจุลินทรีย์ก่อโรคในปศุสัตว์และสิ่งแวดล้อม

Claims (10)

หน้า 1 ของจำนวน 2 หน้า ข้อถือสิทธิ

1. องค์ประกอบสำหรับเตรียมสารฆ่าเชื้อจุลินทรีย์ ประกอบรวมด้วย ก. สารประกอบซิงค์ ความเข้มข้น ร้อยละ 5 ถึง 35 โดยน้ำหนักต่อปริมาตรของ องค์ประกอบทั้งหมด ข. สารประกอบไคโตซาน ความเข้มข้น ร้อยละ 0.1 ถึง 5.0 โดยน้ำหนักต่อปริมาตรของ องค์ประกอบทั้งหมด ค. สารละลายกรด ความเข้มข้น ร้อยละ 1 ถึง 8 โดยน้ำหนักต่อปริมาตรของ องค์ประกอบทั้งหมด ง. สารเพิ่มความเสถียร ความเข้มข้น ร้อยละ 0.1 ถึง 10 โดยน้ำหนักต่อปริมาตรของ องค์ประกอบทั้งหมด จ. น้ำ สำหรับปรับปริมาตรให้ครบ 100 ซึ๋งมีลักษณะเฉพาะคือ สารประกอบไคโตซาน คือ ไคโตซานซิเตรต (chitosan citrate)

2. องค์ประกอบสำหรับเตรียมสารฆ่าเชื้อจุลินทรีย์ ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ องค์ประกอบยังประกอบ รวมด้วย สารประกอบคอปเปอร์ ความเข้มข้น ร้อยละ 5 ถึง 40 โดยน้ำหนักต่อปริมาตรของ องค์ประกอบทั้งหมด

3. องค์ประกอบสำหรับเตรียมสารฆ่าเชื้อจุลินทรีย์ ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2 โดยที่ ไคโตซานซิเตรต ดังกล่าว คือ โอลิโกไคโตซานที่เชื่อมต่อด้วยหมู่ซิเตรต (oligochitosan citrate)โดยมีระดับการแทนที่ ของหมู่ซิเตรต (degree of N-substitution, DS) อยู่ในช่วง 0.25-0.35 ที่ความเข้มข้นร้อยละ 0.5 ถึง 3.0 โดยน้ำหนักต่อปริมาตรขององค์ประกอบทั้งหมด

4. องค์ประกอบสำหรับเตรียมสารฆ่าเชื้อจุลินทรีย์ ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2 โดยที่ สารประกอบซิงค์ ดังกล่าว เลือกได้จาก ซิงค์ซัลเฟต (zinc (II) sulfate), ซิงค์ซัลเฟตโมโนไฮเดรต (zinc (II) sulfate monohydrate), ซิงค์ซัลเฟตเฮกซะไฮเดรต (zinc (II) hexahydrate), ซิงค์ซัลเฟตเฮปตะไฮเดรต (zinc (II) heptahydrate) หรือของผสมของสารดังกล่าว

5. องค์ประกอบสำหรับเตรียมสารฆ่าเชื้อจุลินทรีย์ ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 4 โดยที่ สารประกอบซิงค์ ดังกล่าว ที่พึงประสงค์คือ ซิงค์ซัลเฟตโมโนไฮเดรต ความเข้มข้น ร้อยละ 15 ถึง 20 โดยน้ำหนักต่อ ปริมาตรขององค์ประกอบทั้งหมด หน้า 2 ของจำนวน 2 หน้า

6. องค์ประกอบสำหรับเตรียมสารฆ่าเชื้อจุลินทรีย์ ตามข้อถือสิทธิที่ 2 โดยที่ สารประกอบ คอปเปอร์ดังกล่าว ที่พึงประสงค์ คือ คอปเปอร์ซัลเฟตเพนตะไฮเดรต (copper (II) sulfate pentahydrate) ความเข้มข้น ร้อยละ 8 ถึง 15 โดยน้ำหนักต่อปริมาตรขององค์ประกอบทั้งหมด

7. องค์ประกอบสำหรับเตรียมสารฆ่าเชื้อจุลินทรีย์ ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2 โดยที่ สารละลายกรด ดังกล่าว เลือกได้จาก กรดซัลฟิวริก, กรดไฮโดรคลอริก, กรดอะซิติก, กรดฟอสฟอริก, กรดซิตริก หรือของผสมของสารดังกล่าว

8. องค์ประกอบสำหรับเตรียมสารฆ่าเชื้อจุลินทรีย์ ตามข้อถือสิทธิที่ 7 โดยที่ สารละลายกรดดังกล่าว ที่พึงประสงค์ คือ กรดซัลฟิวริก ความเข้มข้น ร้อยละ 3 ถึง 4 โดยน้ำหนักต่อปริมาตรของ องค์ประกอบทั้งหมด

9. องค์ประกอบสำหรับเตรียมสารฆ่าเชื้อจุลินทรีย์ ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2 โดยที่ สารเพิ่มความ เสถียรดังกล่าว เลือกได้จาก พอลิ(ไดอัลลิลไดเมทิลแอมโมเนียมคลอไรด์) (poly(diallyldimethylammonium chloride), polyDADMAC), เดอัลลิลไดเมทิลแอมโมเนียมคลอ ไรด์ (diallyldimethylammonium chloride, DADMAC), ไกลซีน (glycine), โพรพิลีนไกลคอล (propylene glycol) หรือของผสมของสารดังกล่าว

10. องค์ประกอบสำหรับเตรียมสารฆ่าเชื้อจุลินทรีย์ ตามข้อถือสิทธิที่ 9 โดยที่ สารเพิ่มความเสถียร ดังกล่าว ที่พึงประสงค์เลือกได้จาก พอลิไดเมทิลแอมโมเนียมคลอไรด์หรือ ไกลซีน หรือของผสม ของสารดังกล่าว ที่ความเข้มข้น ร้อยละ 0.1 ถึง 1.2 โดยน้ำหนักต่อปริมาตรขององค์ประกอบ ทั้งหมด