TH162229A - วิธีการทำความสะอาดฟิส์มสารเคลือบชนิดคาร์บอน และอุปกรณ์ - Google Patents

Abstract

การประดิษฐ์นี้จัดให้มีวิธีการสำหรับการทำความสะอาดฟิล์มสารเคลือบชนิดคาร์บอน, ซึ่งสามารถทำความสะอาดฟิล์มสาราคลือบชนิดคาร์บอน ซึ่งถูกสร้างขึ้นบนแต่ละส่วนของ อุปกรณ์ของพลาสมา CVD, และจัดให้มีอุปกรณ์ของพลาสมา CVD อุปกรณ์ของพลาสมา CVD1 จะรวมถึง ชิ้นส่วนผนึกที่หนึ่ง และที่สอง 2a และ 2b ซึ่งถูกสร้างขึ้นด้วยวัสดุฉนวน และผนึก ทั้งสองปลายของชิ้นงาน W หรือ ชิ้นงานหุ่น W', ตามลำดับ ; แอโนด 2 ; หน่วยการลดความดัน ลง 26 ซึ่งลดความดันด้านในของชิ้นงาน W หรือ ชิ้นงานหุ่น W' ; หน่วยการจัดป้อนก๊าซ แหล่งกำเนิด 6 ซึ่งจัดป้อนก๊าซแหล่งกำเนิดไปยังด้านในของชิ้นงาน W ; แหล่งพลังงาน 27 ; และ หน่วยการจัดป้อนก๊าซออกซิเจน 8 ซึ่งจัดป้อนก๊าซออกซิเจนไปยังด้านในของชิ้นงานหุ่น W':

Claims (1)

1.สิงหาคม 2560

1. วิธีการสำหรับการทำความสะอาดฟิล์มสารเคลือบชนิดคาร์บอนในอุปกรณ์ของ พลาสมา CVD ซึ่งประกอบด้วย: ชิ้นส่วนผนึกที่หนึ่ง และที่สอง ซึ่งมีรูปทรงที่เป็นทรงกระบอก แบบมีก้น, ถูกสร้างขึ้นด้วยวัสดุฉนวน และผนึกทั้งสองปลายของชิ้นงานที่นำไฟฟ้าได้ที่เป็น ทรงกระบอก, ตามลำดับ ; หน่วยการลดความดันลง ซึ่งลดความดันด้านในของชิ้นงานลงผ่าน ชิ้นส่วนผนึกที่หนึ่ง ; แหล่งพลังงาน ซึ่งประยุกต์ใช้แรงดันไบอัส (bias voltage) กับชิ้นงาน ; หน่วยการจัดป้อนก๊าซแหล่งกำเนิด ซึ่งจัดป้อนก๊าซแหล่งแท็ก :