TH13996B - วิธีการสำหรับการเคลือบแบบสพุทเทอร์ที่มีความเร็วการสแกนสูง เพื่อผลิตแผ่นอัดที่ต้านทานการขัดสีที่ถูกเคลือบที่มีความเค้นเชิงความร้อนภายในที่ลดลง - Google Patents

วิธีการสำหรับการเคลือบแบบสพุทเทอร์ที่มีความเร็วการสแกนสูง เพื่อผลิตแผ่นอัดที่ต้านทานการขัดสีที่ถูกเคลือบที่มีความเค้นเชิงความร้อนภายในที่ลดลง

Info

Publication number
TH13996B
TH13996B TH9801005075A TH9801005075A TH13996B TH 13996 B TH13996 B TH 13996B TH 9801005075 A TH9801005075 A TH 9801005075A TH 9801005075 A TH9801005075 A TH 9801005075A TH 13996 B TH13996 B TH 13996B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
diboride
plane
pressed
coated
heat
Prior art date
Application number
TH9801005075A
Other languages
English (en)
Other versions
TH34930A (th
Inventor
ที โอลิเวอร์ นายเจย์
เอ็ม มา นายมูหยาน
Original Assignee
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า
Filing date
Publication date
Application filed by นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า filed Critical นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Publication of TH34930A publication Critical patent/TH34930A/th
Publication of TH13996B publication Critical patent/TH13996B/th

Links

Abstract

DC60 (12/02/42) แผ่นอัดสำหรับการผลิตลามิเนทตกแต่งจากกระดาษที่ชุ่มด้วยเรซิน ที่มีอนุภาคอะลูมินาบน ผิวหน้าที่อัดของมัน ถูกเคลือบด้วยไดโบไรด์ ที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยฮาฟเนียมไดโบไรด์, โมลิบดีนัมไดโบไรด์, แทนทาลัมไดโบไรด์, ไททาเนียมไดโบไรด์, ทังสเตนไดโบไรด์, วานาเดียมไมโบไรด์ หรือเซอร์โคเนียมไดโบไรด์ หรือของผสมของสารเหล่านี้สำหรับการกระทำ แผ่นอัดที่ต้านทานต่อการถลอก โดยใช้กระบวนการที่ซึ่งแผ่นอัด และหัวสพุทเทอริงถูกทำให้เคลื่อน ที่อย่างสัมพันธ์กัน เพื่อให้ความเร็วการสแกนที่เพียงพอต่อการให้เกรเดี้ยนท์ของความร้อนในแผ่นอัด 50 องศาฟาเรนไฮน์. หรือน้อยกว่า เพื่อให้ความเค้นภายในที่ลดลง และการกระจายความร้อนแบบไม่เฉพาะแห่งมาก ขึ้นทั่วแผ่นอัดนั้น แผ่นอัดสำหรับการผลิตลามิเนทตกแต่งจากกระดาษที่ชุ่มด้วยเรซิน ที่มีอนุภาคอะลูมินาบนผิวหน้าที่อัดของมัน ถูกเคลือบด้วยไดโบไรด์ ที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยฮาฟเนียมไดโบไรด์โมลิบดินัมไดโบไรด์, แทนทาลัมไดโบไรด์, ไททาเนียมไดโบไรด์, ทังสเตนไดโบไรด์, วานาเดียมไมโบไรด์, หรือเซอร์โคเนียมไดโบไรด์ หรือของผสมของสารเหล่านี้สำหรับการกระทำแผ่นอัดที่ต้านทานต่อการถลอก โดยใช้กระบวนการที่ซึ่งแผ่นอัดและหัวสพุทเทอริงถูกทำให้เคลื่อนที่อย่างสัมพันธ์กัน เพื่อให้ความเร็วการสแกนที่เพียงพอต่อการให้เกรเดี้ยนท์ของความร้อนในแผ่นอัด 50 องศา ฟ. หรือน้อยกว่า เพื่อให้ความเค้นภายในที่ลดลง และการกระจายความร้อนแบบไม่เฉพาะแห่งมากขึ้นทั่วแผ่นอัดนั้น

Claims (4)

1. วิธีการทำผิวหน้าที่อัดแนวระนาบสำหรับการผลิตลามิเนทตกแต่งจากกระดาษที่ชุ่มด้วยเรซิน ที่ประกอบด้วย การวางวัสดุแต่งสำเร็จที่ต้องการบนผิวหน้าที่อัดแนวระนาบ การขจัดส่งปนเปื้อนออกจากผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้น และ การเคลือบผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นด้วยอย่างน้อยที่สุดหนึ่งไดโบไรต์ ที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย ฮาฟเนียมไตโบไรด์, โมลิบดีนัมไดโบไรด์, แทนทาลัมไดโบไรด์, ไททาเนียมไดโบไรด์, ทังสเตรไดโบไรด์, วานาเดียมไดโบไรด์, หรือเซอร์โดยเนียมไดโบไรด์ หรือของผสมของสารเหล่านี้ ในระบบการเคลือบแบบเพลนาแมกนีตรอนสพุทเทอร์ เพื่อให้ความแข็งวิคเกอร์อย่างน้อยที่สุด 2,000 ที่ซึ่ง การเคลือบถูกกระทำโดยการทำให้ผิวหน้าระนาบดังกล่าวและหัวสพุทเทอริงของระบบการเคลือบแบบเพลนาร์แมกนีตรอนสพุทเทอร์ เคลื่อนที่อย่างสัมพันธ์กันที่ความเร็วการสแกน เพื่อจัดเตรียมให้เกรเดี้ยนท์ของความร้อนในผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นเป็น 50 ํฟ. หรือน้อยกว่า 2. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งความเร็วการสแกนดังกล่าวจะถูกเลือกเพื่อจัดเตรียมให้เกรเดี้ยนท์ของความร้อนในผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นเป็น 35 ํฟ. หรือน้อยกว่า 3. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งความเร็วการสแกนดังกล่าวจะถูกเลือกเพื่อจัดเตรียมให้เกรเดี้ยนท์ของความร้อนในผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นเป็น 15 ํฟ. หรือน้อยกว่า 4. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งผิวหน้าที่อัดแนวระนาบดังกล่าวอยู่คงที่ และหัวสพุทเทอริงถูกทำให้เคลื่อนที่ผิวหน้าทื่อัดแนวระนาบนั้น 5. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งหัวสพุทเทอริงดังกล่าวอยู่คงที่ และผิวหน้าที่อัดแนวระนาบดังกล่าวถูกทำให้เคลื่อนที่ใต้หัวสพุทเทอริงนั้น 6. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งความเร็วการสแกนดังกล่าวเป็น 48 นิ้วต่อนาทีถึง 160 นิ้วต่อนาที 7. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 6 ที่ซึ่งความเร็วการสแกนดังกล่าวจาก 50 นิ้วต่อนาทีถึง 100 นิ้วต่อนาที 8. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 7 ที่ซึ่งความเร็วการสแกนดังกล่าวเป็นจาก 55 นิ้วต่อนาทีถึง 80 นิ้วต่อนาที 9. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นถูกเคลือบด้วยไดโบไรด์ในระบบการเคลือบแบบเพลนาร์แมกนีตรอนสพุทเทอร์ เพื่อให้ความแข็งวิคเกอร์อย่างน้อยที่สุด 2,200 1 0. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นถูกเคลือบด้วยไดโบไรด์ ที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย ไททาเนียมไดโบไรด์, เซอร์โคเนียมไดโบไรด์ และของผสมของสารเหล่านี้ 1
1. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นถูกเคลือบด้วยไททาเนียมไดโบไรด์ 1
2. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นถูกเคลือบครั้งแรกด้วยไททาเนียม ในระบบการเคลือบแบบแมกนีตรอนสพุทเทอร์ และต่อมาด้วยไดโบไรด์ 1
3. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งผิวหน้าเคลือบไดโบไรด์มีความหนาอย่างน้อยที่สุด 3 ไมครอน 1
4. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งผิวเคลือบไดโบไรด์มีความหนาไม่มากกว่า 6 ไมครอน
TH9801005075A 1998-12-28 วิธีการสำหรับการเคลือบแบบสพุทเทอร์ที่มีความเร็วการสแกนสูง เพื่อผลิตแผ่นอัดที่ต้านทานการขัดสีที่ถูกเคลือบที่มีความเค้นเชิงความร้อนภายในที่ลดลง TH13996B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH34930A TH34930A (th) 1999-09-14
TH13996B true TH13996B (th) 2002-12-18

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2257323A1 (en) Method for high scan speed sputter coating to produce coated abrasion resistant press plates with reduced built-in thermal stress
KR100373663B1 (ko) 2면 시트의 처리 시스템 및 방법
AU751749B2 (en) Polishing of press plates coated with titanium diboride
RU98123840A (ru) Способ нанесения покрытия на прессовальную плиту
EP0103344A2 (en) Process of in-line coating and decorative layer lamination with panel board material and the like employing electron-beam irradiation, and decorated panel produced thereby
CA2455255C (en) Method for processing and producing a surface having a degree of luster
TH13996B (th) วิธีการสำหรับการเคลือบแบบสพุทเทอร์ที่มีความเร็วการสแกนสูง เพื่อผลิตแผ่นอัดที่ต้านทานการขัดสีที่ถูกเคลือบที่มีความเค้นเชิงความร้อนภายในที่ลดลง
TH34930A (th) วิธีการสำหรับการเคลือบแบบสพุทเทอร์ที่มีความเร็วการสแกนสูง เพื่อผลิตแผ่นอัดที่ต้านทานการขัดสีที่ถูกเคลือบที่มีความเค้นเชิงความร้อนภายในที่ลดลง
CN1984784B (zh) 压花箔
AU684473B2 (en) A method of electron-beam curing of varnished board
CN1057611A (zh) 颗粒金属施涂光泽材料及其制备方法
US20240278522A1 (en) Pressing tool and method for producing a press plate
Murakawa et al. Adhesion Improvement for c-BN Film by means of Gradual Control in N Content across the Film Thickness
EP0036883B1 (en) Release coatings
Disam et al. Effect of Spraying Parameters of the LPPS Method on the Structure of Ceramic Coatings
JPH11314237A (ja) 耐摩耗性積層板用二硼化物被覆プレス面及びプレス面作製方法
He et al. Simulation of nacre with TiC/Teflon multilayers and a study of their properties
JP2848921B2 (ja) 熱硬化性樹脂化粧板
Satoshi et al. Ceramic-based substrate, and methods of producing same
KAPOLNEK Synthesis of alumina-coated SiC whiskers for production of SiC whisker-reinforced alumina composite materials(M. S. Thesis)
Steinbrech et al. Elastic/plastic properties of thermal barrier coatings
Dallaire Wear Resistant Composite Coatings Containing Hard Phases Synthesized and Dispersed by Thermal Spraying
Schmiedel Offset Printing Plates--Maximum Demands on Flatness and Surface Quality
JPH0433849A (ja) 熱硬化性樹脂化粧板の製造方法
HK1091522A1 (en) Method for producing coated paper with pearlescent effect