TH13996B - วิธีการสำหรับการเคลือบแบบสพุทเทอร์ที่มีความเร็วการสแกนสูง เพื่อผลิตแผ่นอัดที่ต้านทานการขัดสีที่ถูกเคลือบที่มีความเค้นเชิงความร้อนภายในที่ลดลง - Google Patents

วิธีการสำหรับการเคลือบแบบสพุทเทอร์ที่มีความเร็วการสแกนสูง เพื่อผลิตแผ่นอัดที่ต้านทานการขัดสีที่ถูกเคลือบที่มีความเค้นเชิงความร้อนภายในที่ลดลง

Info

Publication number
TH13996B
TH13996B TH9801005075A TH9801005075A TH13996B TH 13996 B TH13996 B TH 13996B TH 9801005075 A TH9801005075 A TH 9801005075A TH 9801005075 A TH9801005075 A TH 9801005075A TH 13996 B TH13996 B TH 13996B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
diboride
planar
scanning speed
coated
per minute
Prior art date
Application number
TH9801005075A
Other languages
English (en)
Other versions
TH34930A (th
Inventor
ที โอลิเวอร์ นายเจย์
เอ็ม มา นายมูหยาน
Original Assignee
นายธเนศ เปเรร่า
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า
พริมาร์ค อาร์ดับบลิวพี โฮลดิ้ง
Filing date
Publication date
Application filed by นายธเนศ เปเรร่า, นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า, พริมาร์ค อาร์ดับบลิวพี โฮลดิ้ง filed Critical นายธเนศ เปเรร่า
Publication of TH34930A publication Critical patent/TH34930A/th
Publication of TH13996B publication Critical patent/TH13996B/th

Links

Abstract

DC60 (12/02/42) แผ่นอัดสำหรับการผลิตลามิเนทตกแต่งจากกระดาษที่ชุ่มด้วยเรซิน ที่มีอนุภาคอะลูมินาบน ผิวหน้าที่อัดของมัน ถูกเคลือบด้วยไดโบไรด์ ที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยฮาฟเนียมไดโบไรด์, โมลิบดีนัมไดโบไรด์, แทนทาลัมไดโบไรด์, ไททาเนียมไดโบไรด์, ทังสเตนไดโบไรด์, วานาเดียมไมโบไรด์ หรือเซอร์โคเนียมไดโบไรด์ หรือของผสมของสารเหล่านี้สำหรับการกระทำ แผ่นอัดที่ต้านทานต่อการถลอก โดยใช้กระบวนการที่ซึ่งแผ่นอัด และหัวสพุทเทอริงถูกทำให้เคลื่อน ที่อย่างสัมพันธ์กัน เพื่อให้ความเร็วการสแกนที่เพียงพอต่อการให้เกรเดี้ยนท์ของความร้อนในแผ่นอัด 50 องศาฟาเรนไฮน์. หรือน้อยกว่า เพื่อให้ความเค้นภายในที่ลดลง และการกระจายความร้อนแบบไม่เฉพาะแห่งมาก ขึ้นทั่วแผ่นอัดนั้น แผ่นอัดสำหรับการผลิตลามิเนทตกแต่งจากกระดาษที่ชุ่มด้วยเรซิน ที่มีอนุภาคอะลูมินาบนผิวหน้าที่อัดของมัน ถูกเคลือบด้วยไดโบไรด์ ที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยฮาฟเนียมไดโบไรด์โมลิบดินัมไดโบไรด์, แทนทาลัมไดโบไรด์, ไททาเนียมไดโบไรด์, ทังสเตนไดโบไรด์, วานาเดียมไมโบไรด์, หรือเซอร์โคเนียมไดโบไรด์ หรือของผสมของสารเหล่านี้สำหรับการกระทำแผ่นอัดที่ต้านทานต่อการถลอก โดยใช้กระบวนการที่ซึ่งแผ่นอัดและหัวสพุทเทอริงถูกทำให้เคลื่อนที่อย่างสัมพันธ์กัน เพื่อให้ความเร็วการสแกนที่เพียงพอต่อการให้เกรเดี้ยนท์ของความร้อนในแผ่นอัด 50 องศา ฟ. หรือน้อยกว่า เพื่อให้ความเค้นภายในที่ลดลง และการกระจายความร้อนแบบไม่เฉพาะแห่งมากขึ้นทั่วแผ่นอัดนั้น

Claims (14)

1. วิธีการทำผิวหน้าที่อัดแนวระนาบสำหรับการผลิตลามิเนทตกแต่งจากกระดาษที่ชุ่มด้วยเรซิน ที่ประกอบด้วย การวางวัสดุแต่งสำเร็จที่ต้องการบนผิวหน้าที่อัดแนวระนาบ การขจัดส่งปนเปื้อนออกจากผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้น และ การเคลือบผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นด้วยอย่างน้อยที่สุดหนึ่งไดโบไรต์ ที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย ฮาฟเนียมไตโบไรด์, โมลิบดีนัมไดโบไรด์, แทนทาลัมไดโบไรด์, ไททาเนียมไดโบไรด์, ทังสเตรไดโบไรด์, วานาเดียมไดโบไรด์, หรือเซอร์โดยเนียมไดโบไรด์ หรือของผสมของสารเหล่านี้ ในระบบการเคลือบแบบเพลนาแมกนีตรอนสพุทเทอร์ เพื่อให้ความแข็งวิคเกอร์อย่างน้อยที่สุด 2,000 ที่ซึ่ง การเคลือบถูกกระทำโดยการทำให้ผิวหน้าระนาบดังกล่าวและหัวสพุทเทอริงของระบบการเคลือบแบบเพลนาร์แมกนีตรอนสพุทเทอร์ เคลื่อนที่อย่างสัมพันธ์กันที่ความเร็วการสแกน เพื่อจัดเตรียมให้เกรเดี้ยนท์ของความร้อนในผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นเป็น 50 ํฟ. หรือน้อยกว่า
2. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งความเร็วการสแกนดังกล่าวจะถูกเลือกเพื่อจัดเตรียมให้เกรเดี้ยนท์ของความร้อนในผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นเป็น 35 ํฟ. หรือน้อยกว่า
3. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งความเร็วการสแกนดังกล่าวจะถูกเลือกเพื่อจัดเตรียมให้เกรเดี้ยนท์ของความร้อนในผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นเป็น 15 ํฟ. หรือน้อยกว่า
4. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งผิวหน้าที่อัดแนวระนาบดังกล่าวอยู่คงที่ และหัวสพุทเทอริงถูกทำให้เคลื่อนที่ผิวหน้าทื่อัดแนวระนาบนั้น
5. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งหัวสพุทเทอริงดังกล่าวอยู่คงที่ และผิวหน้าที่อัดแนวระนาบดังกล่าวถูกทำให้เคลื่อนที่ใต้หัวสพุทเทอริงนั้น
6. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งความเร็วการสแกนดังกล่าวเป็น 48 นิ้วต่อนาทีถึง 160 นิ้วต่อนาที
7. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 6 ที่ซึ่งความเร็วการสแกนดังกล่าวจาก 50 นิ้วต่อนาทีถึง 100 นิ้วต่อนาที
8. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 7 ที่ซึ่งความเร็วการสแกนดังกล่าวเป็นจาก 55 นิ้วต่อนาทีถึง 80 นิ้วต่อนาที
9. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นถูกเคลือบด้วยไดโบไรด์ในระบบการเคลือบแบบเพลนาร์แมกนีตรอนสพุทเทอร์ เพื่อให้ความแข็งวิคเกอร์อย่างน้อยที่สุด 2,200
10. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นถูกเคลือบด้วยไดโบไรด์ ที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย ไททาเนียมไดโบไรด์, เซอร์โคเนียมไดโบไรด์ และของผสมของสารเหล่านี้
11. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นถูกเคลือบด้วยไททาเนียมไดโบไรด์
12. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งผิวหน้าที่อัดแนวระนาบนั้นถูกเคลือบครั้งแรกด้วยไททาเนียม ในระบบการเคลือบแบบแมกนีตรอนสพุทเทอร์ และต่อมาด้วยไดโบไรด์
13. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งผิวหน้าเคลือบไดโบไรด์มีความหนาอย่างน้อยที่สุด 3 ไมครอน
14. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งผิวเคลือบไดโบไรด์มีความหนาไม่มากกว่า 6 ไมครอน
TH9801005075A 1998-12-28 วิธีการสำหรับการเคลือบแบบสพุทเทอร์ที่มีความเร็วการสแกนสูง เพื่อผลิตแผ่นอัดที่ต้านทานการขัดสีที่ถูกเคลือบที่มีความเค้นเชิงความร้อนภายในที่ลดลง TH13996B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH34930A TH34930A (th) 1999-09-14
TH13996B true TH13996B (th) 2002-12-18

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2257323A1 (en) Method for high scan speed sputter coating to produce coated abrasion resistant press plates with reduced built-in thermal stress
KR100373663B1 (ko) 2면 시트의 처리 시스템 및 방법
TW520325B (en) Diboride coated pressing surfaces for abrasion resistant laminate and making pressing surfaces
CA1234743A (en) Process for producing high gloss laminates using a vapor barrier at each end of a laminate assembly
TW554058B (en) Laminate press plate and the preparation and use of the same
SE504353C2 (sv) Förfarande för framställning av ett dekorativt härdplastlaminat
EP1281513A3 (en) Method of making abrasion resistant laminates using coated pressing surfaces
KR100372854B1 (ko) 2면 시트의 처리 시스템 및 방법
US20040239003A1 (en) Method for processing and producing a surface with a degree of lustre
TH34930A (th) วิธีการสำหรับการเคลือบแบบสพุทเทอร์ที่มีความเร็วการสแกนสูง เพื่อผลิตแผ่นอัดที่ต้านทานการขัดสีที่ถูกเคลือบที่มีความเค้นเชิงความร้อนภายในที่ลดลง
CN101118709B (zh) 一种带有条形码的镭射制品及其制作工艺
AU684473B2 (en) A method of electron-beam curing of varnished board
CN1057611A (zh) 颗粒金属施涂光泽材料及其制备方法
US12600104B2 (en) Pressing tool and method for producing a press plate
CA3210682C (en) Press tool and method for producing a press plate
JP4269446B2 (ja) 熱硬化性樹脂化粧板及びその製造方法
CN1049000A (zh) 装饰板及其制作方法及用途
JP2000094625A (ja) 耐摩耗性を有する化粧材
JPS6237154A (ja) 耐磨耗性化粧積層体の製造方法及びそれに用いる離型媒体
JPH0433851A (ja) 熱硬化性樹脂化粧板
JPH0433849A (ja) 熱硬化性樹脂化粧板の製造方法
HK1031241B (en) Laminate and the production thereof
TH24401B (th) พื้นผิวการอัดที่เคลือบผิวสำหรับลามิเนทที่ทนทานต่อการขัดกร่อนและการทำลามิเนทขึ้นมาจากพื้นผิวนี้
TH45486A (th) พื้นผิวการอัดที่เคลือบผิวสำหรับลามิเนทที่ทนทานต่อการขัดกร่อนและการทำลามิเนทขึ้นมาจากพื้นผิวนี้
TH56301A (th) การขัดแผ่นกดชนิดเคลือบด้วยไทเทเนียมไดโบไรด์