TH136520B - Polishing discs and processes for their manufacture - Google Patents
Polishing discs and processes for their manufactureInfo
- Publication number
- TH136520B TH136520B TH801000185A TH0801000185A TH136520B TH 136520 B TH136520 B TH 136520B TH 801000185 A TH801000185 A TH 801000185A TH 0801000185 A TH0801000185 A TH 0801000185A TH 136520 B TH136520 B TH 136520B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- polishing
- active compounds
- base material
- material layer
- polyurethane foam
- Prior art date
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 title 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract 4
- 229920005830 Polyurethane Foam Polymers 0.000 claims abstract 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 3
- 239000011496 polyurethane foam Substances 0.000 claims abstract 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N [N-]=C=O Chemical compound [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims abstract 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims abstract 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M potassium hydroxide Inorganic materials [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
Abstract
วัตถุประสงค์ของการประดิษฐ์นี้คือเพื่อจัดให้มีแผ่นการขัดมันยอดเยี่ยมในความทนทาน และใน การยึดติดระหว่างชั้นการขัดมันและชั้นวัสดุฐาน การประดิษฐ์ที่หนึ่งเกี่ยวข้องกับแผ่นการขัดมันซึ่ง ประกอบด้วยชั้นการขัดมันที่ถูกจัดเรียงบนชั้นวัสดุที่เป็นฐาน ในที่ซึ่งชั้นการขัดมันประกอบด้วยโฟมพอลิ ยูรีเธนแข็งตัวเมื่อได้รับความร้อนที่มีบรรดาเซลล์เชื่อมโยงระหว่างกันเป็นทรงกลมโดยคร่าวๆ ที่มีเส้นผ่าน ศูนย์กลางเซลล์เฉลี่ยเป็น 20 ถึง 300 ไมโครเมตร โฟมพอลิยูรีเธนประกอบด้วยองค์ประกอบไอโซไซยาเนต และสารประกอบมีฤทธิ์ที่มีไฮโดรเจนผสมอยู่เป็นบรรดาองค์ประกอบเริ่มต้น และสารประกอบมีฤทธิ์ที่มี ไฮโดรเจนผสมนั้นประกอบด้วย 30 ถึง 85% โดยน้ำหนักของพอลิออลน้ำหนักโมเลกุลสูงที่มีบรรดาหมู่ทำ หน้าที่ 2 ถึง 4 หมู่ และค่าไฮดรอกซิลเป็น 20 ถึง 100 มก. KOH/ก. The purpose of this fabrication is to provide a polishing pad excellent in durability and in adhesion between the polishing layer and the base material layer. The first invention involved polishing discs, which It consists of a polishing layer arranged on the base material layer. Where the polishing layer consists of polyfoam Urethane solidifies when heated with roughly spherical interconnected cells. With a line through The average cell center is 20 to 300 μm. Polyurethane foam contains isocyanate elements. And active compounds containing hydrogen as the starting elements And active compounds that have Hydrogen mixture consists of 30 to 85% by weight of high molecular weight polyols with 2 to 4 functional groups and the hydroxyl value of 20 to 100 mg KOH / g.
Claims (1)
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH136520B true TH136520B (en) | 2014-09-19 |
| TH136520A TH136520A (en) | 2014-09-19 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MY153331A (en) | Polishing pad | |
| TWI325801B (en) | Polishing pad and production method thereof | |
| TWI352726B (en) | ||
| FR3024955B1 (en) | POLYURETHANE POLISHING FELT | |
| MY161030A (en) | Polishing pad | |
| JP2009218500A5 (en) | ||
| WO2008126611A1 (en) | Polishing pad | |
| JP6539910B2 (en) | Polishing pad and method of manufacturing the same | |
| TW201030038A (en) | Polishing pad and method for producing same | |
| JP2015047691A5 (en) | ||
| KR20170089845A (en) | Polishing-layer molded body, and polishing pad | |
| TW201338922A (en) | Polishing pad | |
| CN106046313A (en) | Chemical-mechanical polishing pad, buffer layer and preparation method of buffer layer | |
| CN103386653B (en) | Alkaline earth oxide polymeric polishing pad | |
| TW201139060A (en) | Polishing pad and manufacturing method thereof and manufacturing method of glass substrate | |
| JP2009241224A (en) | Laminate sheet for fabrication of polishing pad | |
| JP6480696B2 (en) | Polishing pad, polishing pad sheet and method for producing polishing material | |
| TWI833693B (en) | Polishing pad, manufacturing method of polishing pad, method of polishing the surface of optical material or semiconductor material, and method of reducing scratches when polishing the surface of optical material or semiconductor material | |
| JP2008222769A5 (en) | ||
| TH136520B (en) | Polishing discs and processes for their manufacture | |
| JP6382659B2 (en) | Polishing pad | |
| JP2010058220A (en) | Polishing pad and manufacturing method for the same | |
| JP5850103B1 (en) | Adhesive composition | |
| TH136520A (en) | Polishing discs and processes for their manufacture | |
| JP6570403B2 (en) | Polishing pad |