TH13521B - กรรมวิธีสร้างรอยเครื่องหมายบนเพชร - Google Patents

Abstract

กรรมวิธีในการผลิตหรือสร้างรอยเครื่องหมายให้ปรากฏบนเพชร,ไข่มุก, หินแบบมีค่าหรือ กึ่งมีค่า เพื่อสร้างรอยเครื่องหมายในบริเวณบนพื้นผิวที่จะต้องถูกสร้างเครื่องหมายด้วยกระฉายรังสีโดย ArF เอ็กไซเมอร์เลเซอร์ ที่มีลำแสงเอ้าท์พุทถูกส่งผ่านตลอดหน้ากากที่ซึ่งทำหน้าที่กำหนดสร้างรอยเครื่องหมาย เครื่องหมายเฉพาะหรือเครื่องหมายรับประกันจะสามารถถูกสร้างให้มีขึ้น กรรมวิธีอย่างเดียวกันสามารถถูกนำมาใช้เพื่อสร้างแม่พิมพ์อัดรีดที่มีความแข็งแรง และอายุการใช้งานยาวนาน โดยมีแนวหน้าตัดขวางไม่เป็นแบบเรียบปกติ และแนวหน้าตัดขวางจะแปรเปลี่ยนขนาดของความลึกโดยตลอดวัสดุที่ใช้สร้างแม่พิมพ์

Claims (27)

1. กรรมวิธีในการผลิตรอยเครื่องหมายให้ปรากฏบนเพชร โดยกรรมวิธีประกอบด้วยขั้นตอน การกำหนดตำแหน่งหน้ากากหรือแผ่นกำบังให้อยู่ระหว่างเอ้าท์พุทของแหล่งกำเนิดพลังงานเลเซอร์ในช่วงรังสีอัลตราไวโอเล็ท และส่วนของพื้นผิวของตัวเพชรที่จะถูกสร้างเครื่องหมาย และ การฉายรังสีโดยตรงที่ส่วนของพื้นผิวของตัวเพชรด้วยแหล่งกำเนิดพลังงานเลเซอร์ผ่านตลอดหน้ากาก เพื่อเป็นการทำให้เกิดการแผ่รังสีตัวมันเองในการสร้างรอยเครื่องหมายในรูปแบบ ที่กำหนดโดยหน้ากากหรือแผ่นกำบัง

2. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 ในส่วนของแหล่งกำเนิดพลังงานเลเซอร์ฉายรังสีไปที่เพชรด้วยอย่างน้อยที่สุดพัลส์พลังงานหนึ่งที่ช่วงความยาวคลื่นประมาณ 193 nm.

3. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 ในส่วนของขั้นตอนการฉายรังสีดังกล่าวรวมถึงการส่งผ่านการแผ่รังสีเลเซอร์ผ่านตลอดพื้นที่ช่องเปิดออกในตัวหน้ากากหรือแผ่นกำบัง

4. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 ในส่วนของขั้นตอนการฉายรังสีดังกล่าวรวมถึงการส่งผ่านการแผ่รังสีเลเซอร์ผ่านตลอดพื้นที่สำหรับการส่งผ่านที่แตกต่างกันในส่วนของหน้ากากหรือ แผ่นกำบัง

5. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 หน้ากากดังกล่าวถูกเว้นระยะห่างจากพื้นผิวของตัวเพชร

6. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 หน้ากากดังกล่าวถูกกำหนดให้อยู่บนหรือใกล้กับพื้นผิวของตัวเพชร

7. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 หน้ากากดังกล่าวถูกสร้างรูปเงาหรือรูปแบบจำลองให้ปรากฏอยู่บนพื้นผิวของเพชรด้วยขนาดที่ลดลง โดยผ่านตลอดวิถีทางสำหรับการลดรูปแบบของหน้ากากทางแสง

8. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 3 รวมถึงขั้นตอนเพิ่มเติมดังนี้ การกำหนดตำแหน่งหน้ากากส่วนที่สองให้อยู่ระหว่างเอ้าท์พุทของแหล่งกำเนิดพลังงานเลเซอร์และส่วนที่สองของพื้นผิวตัวเพชรที่จะถูกสร้างเครื่องหมาย โดยส่วนที่สองดังกล่าวเป็นเซ็ทย่อยของส่วนพื้นผิวตัวเพชรส่วนแรกที่จะถูกสร้างเครื่องหมาย และ การฉายรังสีโดยตรงที่ส่วนที่สองของพื้นผิวตัวเพชรด้วยแหล่งกำเนิดพลังงานเลเซอร์ผ่านตลอดหน้ากากส่วนที่สอง เพื่อเป็นการทำให้เกิดการแผ่รังสีตัวมันเองในการสร้างเครื่องหมายที่สองในรูปแบบที่กำหนดโดยหน้ากากส่วนที่สอง

9. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 4 หน้ากากดังกล่าวถูกสร้างขึ้นจากกลุ่มของวัสดุกลุ่มหนึ่ง ซึ่งจะมีการส่งผ่านด้วยความยาวคลื่นของการแผ่รังสีความยาวคลื่นเอ็กซ์ไซเมอร์กลุ่มของวัสดุดังกล่าวรวมถึงแซพไฟร์ ซิลิกาและควอท์ซที่ถูกหล่อหลอม

10. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 ในส่วนของพลังงานของแหล่งเลเซอร์ถูกปรับเพื่อเคลื่อนหรือกำจัดเฉพาะแผ่นชั้นบางๆ ออกจากพื้นผิวของเพชร

11. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 10 ในส่วนของแผ่นชั้นดังกล่าวที่ถูกเคลื่อนออกจากพื้นผิวดังกล่าว จะมีความหนาอยู่ในช่วงจากประมาณจำนวนหลายอังสตรอมถึงหลายไมครอน

12. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 ในส่วนของเครื่องหมายทั้งหมดจะถูกสร้างขึ้นในระหว่างการยึดจับเพชรให้อยู่ในตำแหน่งคงที่ตำแหน่งเดียว

13. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 รวมถึงขั้นตอนการจ่ายวัสดุเคลือบไปบนพื้นผิวที่จะต้องถูกสร้างเครื่องหมาย (ก่อนการฉายรังสีไปที่เพชร) ซึ่งวัสดุจะสามารถถูกตรวจจับเฉพาะภายใต้สถานะการให้แสงสว่างตามที่กำหนดล่วงหน้า

14. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 13 ในส่วนของวัสดุดังกล่าวคือวัสดุฟลูออเรสเซนท์

15. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 13 ในส่วนของวัสดุดังกล่าวคือวัสดุฟอสฟอเรสเซนท์

16. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 รวมถึงขั้นตอนการจ่ายวัสดุเคลือบไปบนพื้นผิวที่จะต้องถูกสร้างเครื่องหมาย (ก่อนการฉายรังสีไปที่เพชร) ซึ่งวัสดุจะสามารถถูกตรวจจับได้ทางแม่เหล็ก หรือทางไฟฟ้าหรือทางแสง

17. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 16 ในส่วนของวัสดุดังกล่าวคือโมลิบดินัมคาร์ไบด์, นิคเกิลคาร์ไบด์ ไททาเนียมคาร์ไบด์หรือเหล็กคาร์ไบด์

18. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 16 ยังประกอบขึ้นด้วยขั้นตอนเพิ่มเติมในส่วนของการฉายรังสีโดยตรงที่คล้ายกันไปอย่างน้อยที่สุดบริเวณส่วนที่สองของเพชร เพื่อสร้างให้มีอย่างน้อยที่สุดเครื่องหมายที่สอง

19. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 ในส่วนของพลังงานจากแหล่งกำเนิดเลเซอร์จะถูกปรับเพื่อให้สามารถแปลงรูปบางส่วนของเพชรจากรูปแบบหนึ่งของอิลิเมนทอลคาร์บอนไปเป็นอีกรูปแบบ หนึ่งของอิลิเมนทอลคาร์บอน

20. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 ในส่วนของแหล่งกำเนิดเลเซอร์จะถูกปรับเพื่อให้เขียนรอยเส้นหรือกราไฟท์บางส่วนบนเพชร ณ บริเวณที่จะต้องถูกสร้างเครื่องหมาย

21. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 21 ในส่วนความเข้มของเครื่องหมายจะถูกสร้างขึ้น โดยแปรเปลี่ยนตามองศาของการสร้างเขียนรอยเส้นที่เกิดจากการฉายแสงเรเซอร์

22. กรรมวิธีของการผลิตตัวสอดแม่พิมพ์ เพื่อใช้ในแม่พิมพ์อัดรีด ตัวสอดแม่พิมพ์จะมีช่องเปิดอัดรีดของแม่พิมพ์เป็นช่องเปิดออกตลอด ประกอบด้วยขั้นตอนของ การจัดเตรียมแหล่งกำเนิดของพลังงานอัลตราไวโอเลเซอร์ที่มีเอ้าท์พุท การกำหนดตำแหน่งของหน้ากากที่มีบริเวณพื้นที่ช่องเปิดออกตรงกับแนวตัดขวางของช่องเปิดอัดรีดของแม่พิมพ์ โดยกำหนดให้อยู่ระหว่างเอ้าท์พุทของแหล่งกำเนิดดังกล่าวของพลังงานอัล ตราไวโอเลทเลเซอร์และตัวสอดแม่พิมพ์, การบังคับทิศทางลำแสงจากเอ้าท์พุทผ่านตลอดหน้ากากดังกล่าวไปบนตัวสอดแม่พิมพ์ดังกล่าว เพื่อสร้างช่องเปิดอัดรีดในส่วนของตัวสอดแม่พิมพ์

23. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 ยังประกอบด้วยขั้นตอนของการกำหนดตำแหน่งของเลนส์ลดลำแสงให้อยู่ระหว่างหน้ากากดังกล่าวและสอดแม่พิมพ์

24. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 ยังประกอบด้วยขั้นตอน การกำหนดตำแหน่งหน้ากากส่วนที่สองที่ซึ่งมีพื้นที่ช่องเปิดออกตรงกับแนวตัดขวางส่วนที่สองของช่องเปิดอัดรีดของแม่พิมพ์ โดยกำหนดให้อยู่ระหว่างเอ้าท์พุทของแหล่งกำเนิดดังกล่าวของพลังงานอัลตราไวโอเลเซอร์ และตัวสอดแม่พิมพ์ และ การบังคับทิศทางลำแสงจากเอ้าท์พุทผ่านตลอดหน้ากากส่วนที่สองดังกล่าวไปบนตัวสอดแม่พิมพ์ดังกล่าว เพื่อสร้างช่องเปิดอัดรีดในส่วนของตัวสอดแม่พิมพ์ โดยในส่วนของแนวตัดขวางของช่องเปิดอัดรีด จะแปรเปลี่ยนอยู่ในทิศทางที่ซึ่งวัสดุจะถูกอัดรีดออกมา

25. กรรมวิธีของการปฏิบัติในส่วนของวัตถุที่สร้างขึ้นจากเพชร ประกอบด้วยขั้นตอนของ การกำหนดจัดเตรียมอัลตราไวโอเลทเลเซอร์ที่มีเอ้าท์พุท การกำหนดตำแหน่งหน้ากากที่มีพื้นที่ช่องเปิดออกตรงกับรูปแบบที่จะต้องทำให้มีขึ้นบนวัตถุ โดยกำหนดให้อยู่ระหว่างเอ้าท์พุทของเลเซอร์ดังกล่าวและวัตถุ การกำหนดตำแหน่งของเลนส์ลดลำแสงให้อยู่ระหว่างหน้ากากดังกล่าว และวัตถุ และ การบังคับทิศทางลำแสงจากเลเซอร์ดังกล่าวผ่านตลอดหน้ากากดังกล่าวและผ่านตลอดเลนส์ลดลำแสงให้ไปอยู่บนวัตถุเพื่อสร้างรูปแบบตามที่กำหนดล่วงหน้าบนวัตถุ

26. แม่พิมพ์สำหรับการอัดรีดเส้นใย, เส้นลวด, ใยแบบฟิลาเมนท์ และที่คล้ายกัน ซึ่งมีแนวหน้าตัดขวางแบบซับซ้อนประกอบขึ้นด้วยตัวสอดแม่พิมพ์ที่สร้างขึ้นจากเพชรโดยมีช่องเปิดอัดรีดที่มีแนวตัดขวางตรงกับแนวหน้าตัดขวางแบบซับซ้อนของเส้นใย, เส้นลวด, ใยแบบฟิลาเมนท์และที่คล้ายกัน ตัวสอดแม่พิมพ์จะถูกสร้างขึ้นโดยการบังคับทิศทางลำแสงอัลตราไวโอเลทเลเซอร์ให้ไปบนตัวสอดแม่พิมพ์ ผ่านตลอดหน้ากากที่มีพื้นที่ช่องเปิดออกตรงกับแนวตัดขวางของช่องเปิดอัดรีด และถูกกำหนดให้อยู่ในตำแหน่งระหว่างเอ็กไซเมอร์เลเซอร์และตัวสอดแม่พิมพ์

27. กรรมวิธีในการสร้างเครื่องหมายบนไข่มุก, หินมีค่าหรือหินกึ่งมีค่า กรรมวิธีประกอบด้วยขั้นตอน การกำหนดตำแหน่งหน้ากากให้อยู่ระหว่างเอ้าท์พุทของแหล่งกำเนิดพลังงานเลเซอร์ ในช่วงรังสีอัลตราไวโอเลท และส่วนของพื้นผิวของไข่มุก, หินมีค่าหรือหินกึ่งมีค่า ที่จะถูกสร้าง ให้มีเครื่องหมาย และ การฉายรังสีโดยตรงที่ส่วนของพื้นผิวของหินมุกแบบมีค่าหรือกึ่งมีค่า ด้วยแหล่งกำเนิดพลังงานเลเซอร์ผ่านตลอดหน้ากากเพื่อเป็นการทำให้เกิดการแผ่รังสีของตัวมันเองในการสร้างเครื่องหมายในรูปแบบที่กำหนดโดยหน้ากาก โดยในขณะเดียวกันจะไม่มีการทำให้เกิดรอยแตกร้าวเล็กๆ ของพื้นผิว ไข่มุก, หินมีค่าหรือหินกึ่งมีค่า