TH122381A - Production process of glass baseboard with silicon oxide membrane - Google Patents
Production process of glass baseboard with silicon oxide membraneInfo
- Publication number
- TH122381A TH122381A TH901005563A TH0901005563A TH122381A TH 122381 A TH122381 A TH 122381A TH 901005563 A TH901005563 A TH 901005563A TH 0901005563 A TH0901005563 A TH 0901005563A TH 122381 A TH122381 A TH 122381A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- glass
- silicon oxide
- baseboard
- oxide membrane
- ribbon
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract 29
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract 13
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 2
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 abstract 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 abstract 2
- 230000037025 penetration rate Effects 0.000 abstract 2
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 abstract 2
Abstract
DC60 (08/03/53) กรรมวิธีที่สามารถจัดสร้างเยื่อซิลิคอนออกไซด์ขึ้นโดยตรงที่บนแผ่นฐานแก้วหรือกล๊าสริบ บอนที่มีอุณหภูมิสูง และสามารถผลิตแผ่นฐานแก้วแบบมีเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่มีอัตราการสะท้อน ของแสงต่ำ, อัตราการทะลุผ่านของแสงสูงได้ด้วยประสิทธิภาพการผลิตที่สูง (1) กรรมวิธีการผลิตของแผ่นฐานแก้วแบบมีเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่เคลือบทาออร์กาโนโพลี สิลอกเซนที่แผ่นฐานแก้วที่อยู่ในขอบเขตอุณหภูมิ 400-650 องศาเซลเซียส เพื่อให้เกิดการแยกสลายด้วย ความร้อนและจัดสร้างเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่บนแผ่นฐานแก้ว รวมทั้ง (2) กรรมวิธีการผลิตของแผ่น ฐานแก้วแบบมีเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่เป็นกรรมวิธีการผลิตของแผ่นฐานแก้วที่ขึ้นรูปแก้วหลอมเหลว เป็นกล๊าสริบบอนและทำให้กล๊าสริบบอนเย็นตัวลงอย่างช้าๆ และต่อจากนั้นตัดเพื่อผลิตแผ่นฐาน แก้ว โดยจะมีลักษณะจำเพาะคือจัดสร้างเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่บนกล๊าสริบบอนโดยการเคลือบทา ออร์กาโนโพลีสิลอกเซนที่กล๊าสริบบอนในตำแหน่งที่กล๊าสริบบอนอยู่ในขอบเขตอุณหภูมิ 400-650 องศาเซลเซียส กรรมวิธีที่สามารถจัดสร้างเยื่อซิลิคอนออกไซด์ขึ้นโดยตรงที่บนแผ่นฐานแก้วหรือกล๊าสริบ บอนที่มีอุณหภูมิสูง และสามารถผลิตแผ่นฐานแก้วแบบมีเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่มีอัตราการสะท้อน ของแสงต่ำ, อัตราการทะลุผ่านของแสงสูงได้ด้วยประสิทธิภาพการผลิตที่สูง (1) กรรมวิธีการผลิตของแผ่นฐานแก้วแบบมีเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่เคลือบทาออร์กาโนโพลี สิลอกเซนที่แผ่นฐานแก้วทีอยู่ในขอบเขตอุณหภูมิ 400-650 C เพื่อให้เกิดการแยกสลายด้วย ความร้อนและจัดสร้างเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่บนแผ่นฐานแก้ว รวมทั้ง (2) กรรมวิธีการผลิตของแผ่น ฐานแก้วแบบมีเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่เป็นกรรมวิธีการผลิตของแผ่นฐานแก้วที่ขึ้นรูปแก้วหลอมเหลว เป็นกล๊าซริบบอนและทำให้กล๊าซริบบอนเย็นตัวลงอย่างช้าๆ และต่อจากนั้นตัดเพื่อผลิตแผ่นฐาน แก้ว โดยจะมีลักษณะจำเพาะคือจัดสร้างเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่บนกล๊าซริบบอนโดยการเคลือบทา ออร์กาโนโพลีสิลอกเซนที่กล๊าซริบบอนในตำแหน่งที่กล๊าซริบบอนอยู่ในขอบเขตอุณหภูมิ 400-650 C DC60 (08/03/53) A process capable of producing silicon oxide membranes directly on a glass or glass ribbon substrate. High temperature bon It is also possible to produce a glass base plate with a silicon oxide membrane with low light reflection rate, high light penetration rate with high production efficiency (1). Organo poly coating Siloxane at the glass baseboard in the temperature range 400-650 ° C to cause dissolution. Heat and form a silicon oxide membrane on the glass baseboard as well as (2) the manufacturing process of the plate. Glass base with silicon oxide membranes produced by molten glass molded glass baseplate. It is the Glass Ribbon and it cools the Glass Ribbon slowly. And then cut to produce the glass baseboard. It is characterized by creating a silicon oxide membrane on the glass ribbon by coating it. Organopolysiloxane at the glass ribbon where the glass ribbon is in the temperature range of 400-650 ° C, a process capable of directly forming a silicon oxide membrane on a glass or glass base plate. Forfeit High temperature bon It is also possible to produce a glass base plate with a silicon oxide membrane with low light reflection rate, high light penetration rate with high production efficiency (1). Organo poly coating Siloxane at the glass baseboard in the temperature range 400-650 C to cause dissolution. Heat and form a silicon oxide membrane on the glass baseboard as well as (2) the manufacturing process of the plate. Glass base with silicon oxide membranes produced by molten glass molded glass baseplate. It is the Glass Ribbon and it cools the Glass Ribbon slowly. And then cut to produce the glass baseboard. It is characterized by creating a silicon oxide membrane on the glass ribbon by coating it. Organo Polysiloxane at the Glass Ribbon where the Gas Ribbon is within the temperature range 400-650 C.
Claims (1)
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TH122381A true TH122381A (en) | 2013-03-29 |
TH122381B TH122381B (en) | 2013-03-29 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Tian et al. | Thermal Processing of Silicones for Green, Scalable, and Healable Superhydrophobic Coatings. | |
MY192479A (en) | Film having low refractive index film and method for producing the same, anti-reflection film and method for producing the same, coating liquid set for low refractive index film, substrate having microparticle-laminated thin film and method for producing the same, and optical member | |
WO2009061353A3 (en) | Production of free-standing solid state layers by thermal processing of substrates with a polymer | |
JP2010508235A5 (en) | ||
ATE545157T1 (en) | METHOD FOR PRODUCING A SOLAR CELL AND SOLAR CELL PRODUCED THEREFROM | |
JP2009135465A5 (en) | ||
JP2009091242A5 (en) | ||
CN104817054B (en) | Microspring formula cantilever beam carries soaking plate micro-heater and preparation technology thereof | |
WO2010023853A3 (en) | Manufacturing method for glass substrate with thin film | |
DE60326163D1 (en) | Stamp, method for its manufacture and use | |
JP2011521481A5 (en) | ||
JP2013144634A5 (en) | ||
ATE535563T1 (en) | SOL-GEL PROCESS FOR PRODUCING PROTECTIVE FILMS FOR POLYMER SUBSTRATES | |
JP2013514551A5 (en) | ||
JP2010166035A5 (en) | ||
ATE547254T1 (en) | THERMOHEAD MANUFACTURING METHOD, THERMOHEAD AND PRINTER | |
WO2010120070A3 (en) | Film for touch sensor, touch sensor assembly comprising same, and method for producing a touch sensor assembly | |
US8057882B2 (en) | Membrane structure element and method for manufacturing same | |
TH122381A (en) | Production process of glass baseboard with silicon oxide membrane | |
WO2008075270A3 (en) | A lens structure and manufacturing method, and the manufacture of shaped polymer articles | |
TH122381B (en) | Production process of glass baseboard with silicon oxide membrane | |
ATE555505T1 (en) | METHOD FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE | |
JP2012053120A5 (en) | Mask blank substrate manufacturing method and mask blank manufacturing method | |
CN204873818U (en) | Little spring cantilever beam is from taking little heater of soaking board | |
CN108962023A (en) | Flexible display device and preparation method thereof |