TH122381A - Production process of glass baseboard with silicon oxide membrane - Google Patents

Production process of glass baseboard with silicon oxide membrane

Info

Publication number
TH122381A
TH122381A TH901005563A TH0901005563A TH122381A TH 122381 A TH122381 A TH 122381A TH 901005563 A TH901005563 A TH 901005563A TH 0901005563 A TH0901005563 A TH 0901005563A TH 122381 A TH122381 A TH 122381A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
glass
silicon oxide
baseboard
oxide membrane
ribbon
Prior art date
Application number
TH901005563A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH122381B (en
Inventor
คุวาฮาระ นายยูอิชิ
โยเนดะ นายทาคาชิเกะ
อาเบะ นายเคย์สุเคะ
Original Assignee
นางสาวปัณณพัฒน์ เหลืองธาตุทอง
นางสาวยิ่งลักษณ์ ไกรฤกษ์
นางสาวปวริศา อุดมธนภัทร
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปัณณพัฒน์ เหลืองธาตุทอง, นางสาวยิ่งลักษณ์ ไกรฤกษ์, นางสาวปวริศา อุดมธนภัทร filed Critical นางสาวปัณณพัฒน์ เหลืองธาตุทอง
Publication of TH122381A publication Critical patent/TH122381A/en
Publication of TH122381B publication Critical patent/TH122381B/en

Links

Abstract

DC60 (08/03/53) กรรมวิธีที่สามารถจัดสร้างเยื่อซิลิคอนออกไซด์ขึ้นโดยตรงที่บนแผ่นฐานแก้วหรือกล๊าสริบ บอนที่มีอุณหภูมิสูง และสามารถผลิตแผ่นฐานแก้วแบบมีเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่มีอัตราการสะท้อน ของแสงต่ำ, อัตราการทะลุผ่านของแสงสูงได้ด้วยประสิทธิภาพการผลิตที่สูง (1) กรรมวิธีการผลิตของแผ่นฐานแก้วแบบมีเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่เคลือบทาออร์กาโนโพลี สิลอกเซนที่แผ่นฐานแก้วที่อยู่ในขอบเขตอุณหภูมิ 400-650 องศาเซลเซียส เพื่อให้เกิดการแยกสลายด้วย ความร้อนและจัดสร้างเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่บนแผ่นฐานแก้ว รวมทั้ง (2) กรรมวิธีการผลิตของแผ่น ฐานแก้วแบบมีเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่เป็นกรรมวิธีการผลิตของแผ่นฐานแก้วที่ขึ้นรูปแก้วหลอมเหลว เป็นกล๊าสริบบอนและทำให้กล๊าสริบบอนเย็นตัวลงอย่างช้าๆ และต่อจากนั้นตัดเพื่อผลิตแผ่นฐาน แก้ว โดยจะมีลักษณะจำเพาะคือจัดสร้างเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่บนกล๊าสริบบอนโดยการเคลือบทา ออร์กาโนโพลีสิลอกเซนที่กล๊าสริบบอนในตำแหน่งที่กล๊าสริบบอนอยู่ในขอบเขตอุณหภูมิ 400-650 องศาเซลเซียส กรรมวิธีที่สามารถจัดสร้างเยื่อซิลิคอนออกไซด์ขึ้นโดยตรงที่บนแผ่นฐานแก้วหรือกล๊าสริบ บอนที่มีอุณหภูมิสูง และสามารถผลิตแผ่นฐานแก้วแบบมีเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่มีอัตราการสะท้อน ของแสงต่ำ, อัตราการทะลุผ่านของแสงสูงได้ด้วยประสิทธิภาพการผลิตที่สูง (1) กรรมวิธีการผลิตของแผ่นฐานแก้วแบบมีเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่เคลือบทาออร์กาโนโพลี สิลอกเซนที่แผ่นฐานแก้วทีอยู่ในขอบเขตอุณหภูมิ 400-650 C เพื่อให้เกิดการแยกสลายด้วย ความร้อนและจัดสร้างเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่บนแผ่นฐานแก้ว รวมทั้ง (2) กรรมวิธีการผลิตของแผ่น ฐานแก้วแบบมีเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่เป็นกรรมวิธีการผลิตของแผ่นฐานแก้วที่ขึ้นรูปแก้วหลอมเหลว เป็นกล๊าซริบบอนและทำให้กล๊าซริบบอนเย็นตัวลงอย่างช้าๆ และต่อจากนั้นตัดเพื่อผลิตแผ่นฐาน แก้ว โดยจะมีลักษณะจำเพาะคือจัดสร้างเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่บนกล๊าซริบบอนโดยการเคลือบทา ออร์กาโนโพลีสิลอกเซนที่กล๊าซริบบอนในตำแหน่งที่กล๊าซริบบอนอยู่ในขอบเขตอุณหภูมิ 400-650 C DC60 (08/03/53) A process capable of producing silicon oxide membranes directly on a glass or glass ribbon substrate. High temperature bon It is also possible to produce a glass base plate with a silicon oxide membrane with low light reflection rate, high light penetration rate with high production efficiency (1). Organo poly coating Siloxane at the glass baseboard in the temperature range 400-650 ° C to cause dissolution. Heat and form a silicon oxide membrane on the glass baseboard as well as (2) the manufacturing process of the plate. Glass base with silicon oxide membranes produced by molten glass molded glass baseplate. It is the Glass Ribbon and it cools the Glass Ribbon slowly. And then cut to produce the glass baseboard. It is characterized by creating a silicon oxide membrane on the glass ribbon by coating it. Organopolysiloxane at the glass ribbon where the glass ribbon is in the temperature range of 400-650 ° C, a process capable of directly forming a silicon oxide membrane on a glass or glass base plate. Forfeit High temperature bon It is also possible to produce a glass base plate with a silicon oxide membrane with low light reflection rate, high light penetration rate with high production efficiency (1). Organo poly coating Siloxane at the glass baseboard in the temperature range 400-650 C to cause dissolution. Heat and form a silicon oxide membrane on the glass baseboard as well as (2) the manufacturing process of the plate. Glass base with silicon oxide membranes produced by molten glass molded glass baseplate. It is the Glass Ribbon and it cools the Glass Ribbon slowly. And then cut to produce the glass baseboard. It is characterized by creating a silicon oxide membrane on the glass ribbon by coating it. Organo Polysiloxane at the Glass Ribbon where the Gas Ribbon is within the temperature range 400-650 C.

Claims (1)

1. กรรมวิธีการผลิตของแผ่นฐานแก้วแบบมีเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่มีลักษณะจำเพาะคือ จัดสร้างเยื่อซิลิคอนออกไซด์ที่บนแผ่นฐานแก้วโดยการเคลือบทาออร์กาโนโพลีสิลอกเซนที่แผ่น ฐานแก้วทีอยู่ในขอบเขตอุณหภูมิ 400-650 Cแท็ก :1. The production process of glass baseboard with silicon oxide membrane has specific characteristics as follows: Formed a silicon oxide membrane on a glass substrate by applying an organo-polysiloxane coating to the sheet. Glass base within 400-650 C temperature range.
TH901005563A 2009-12-11 Production process of glass baseboard with silicon oxide membrane TH122381B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH122381A true TH122381A (en) 2013-03-29
TH122381B TH122381B (en) 2013-03-29

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Tian et al. Thermal Processing of Silicones for Green, Scalable, and Healable Superhydrophobic Coatings.
MY192479A (en) Film having low refractive index film and method for producing the same, anti-reflection film and method for producing the same, coating liquid set for low refractive index film, substrate having microparticle-laminated thin film and method for producing the same, and optical member
WO2009061353A3 (en) Production of free-standing solid state layers by thermal processing of substrates with a polymer
JP2010508235A5 (en)
ATE545157T1 (en) METHOD FOR PRODUCING A SOLAR CELL AND SOLAR CELL PRODUCED THEREFROM
JP2009135465A5 (en)
JP2009091242A5 (en)
CN104817054B (en) Microspring formula cantilever beam carries soaking plate micro-heater and preparation technology thereof
WO2010023853A3 (en) Manufacturing method for glass substrate with thin film
DE60326163D1 (en) Stamp, method for its manufacture and use
JP2011521481A5 (en)
JP2013144634A5 (en)
ATE535563T1 (en) SOL-GEL PROCESS FOR PRODUCING PROTECTIVE FILMS FOR POLYMER SUBSTRATES
JP2013514551A5 (en)
JP2010166035A5 (en)
ATE547254T1 (en) THERMOHEAD MANUFACTURING METHOD, THERMOHEAD AND PRINTER
WO2010120070A3 (en) Film for touch sensor, touch sensor assembly comprising same, and method for producing a touch sensor assembly
US8057882B2 (en) Membrane structure element and method for manufacturing same
TH122381A (en) Production process of glass baseboard with silicon oxide membrane
WO2008075270A3 (en) A lens structure and manufacturing method, and the manufacture of shaped polymer articles
TH122381B (en) Production process of glass baseboard with silicon oxide membrane
ATE555505T1 (en) METHOD FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
JP2012053120A5 (en) Mask blank substrate manufacturing method and mask blank manufacturing method
CN204873818U (en) Little spring cantilever beam is from taking little heater of soaking board
CN108962023A (en) Flexible display device and preparation method thereof