2. Устройство по П.1, отличающеес тем, что электромагниты отклон ющей системы и фокусирующей линзы размещены вне вакуумной камеры, а полюсные наконечники отклон ющей системы соединены с электромагнитом посредством магнитопровода .2. A device according to claim 1, characterized in that the electromagnets of the deflecting system and the focusing lens are placed outside the vacuum chamber, and the pole tips of the deflecting system are connected to the electromagnet by means of a magnetic core.
Изобретение относитс к электротермии , а именно к электроннолучевым установкам дл плавки, испарени и обработки материалов. Известно .электроннолучевое испарительное устройство, содержащее вакуумную камеру с расположенным в ней тиглем, электронной пушкой и электрогтагнитным отклон ющим устройством С Зг Недостатки данного устройства обу ловлены расположением отклон ющего устройства вместе с катушкой электромагнита в вакуумной камере, где под воздействием высоких рабочих температур, отраженных электронов и брызг от тигл катушка нагреваетс , в результате испарений от элемен тов нагретой катушки загр зн етс камера и поэтому ухудшаетс качество наносимых покрытий |Кроме того, в упом нутых устройствах отсутствует фокусирующа система, что также отражаетс на качестве покрыти , так как пучок электронов в них може.т попадать на кра тигл . Известно также электроннолучевое испарительное устройство, содержащее вакуумную камеру, электронную пушку тигель, электромагнитные фокусирующу и отклон ющую системы, электромагнит которых защищены экраном, а полюсные наконечники отклон ющей системы размещены в вакуумной камере. Низкое качество наносимых покрыти данного устройства обусловлено размещением отклон ющей и фокусирующей системы вместе с катушками возбуждени в вакуумной камере, где под возд ствием высоких температур, отраженны электронов и брызг от тигл катушки нагреваютс , и вследствие испарений от нагретых катущек камера загр зн е с , что ухудшает качество наносимых покрытий. Целью изобретени вл етс повьш1е ние качества покрытий. Указанна цель достигаетс тем, что в электроннолучевом испарительном устройстве, содержащем вакуумную камеру , электронную пушку, тигель, электромагнитные фокусирующую и отклон ющую системы, электромагниты которых защищены экраном, а полюсные наконечники отклон ющей системы размещены в вакуумной камере, фокусирующа система выполнена в виде линзы с арочной гео-. метрией магнитного пол и размещена под тиглем соосно последнему. Кроме того, электромагниты отклон ющей системы и фокусирующей линзы размещены вне вакуумной камеры, а полюсные наконечники отклон ющей системы соединены с электромагнитом посредством магнитопровода. Благодар использованию фокусирующей линзы и такому конструктивному расположению элементов в предлагаемом устройстве из вакуумной камеры удал ютс такие элементы, которые при эксплуатации устройства под воздействием высокой температуры, брызг от тигл и отраженных электронов загр зн ют камеру своими испарени ми, ухудшают вакуум,, а следовательно ,и качество покрыти . На фиг.1. представлено испарительное устройство, общий вид;.на фиг.2 то же, вид слева; а на фиг.З - то же, вид сверху. Электроннолучевое испарительное устройство представл ет собой вакуумную камеру (на чертеже не показана) и включает смонтированные на фланце 1, закрывающем вход в вакуумную камеру, тигель 2, расположенную.соосно с тиглем 2 и размещенную под ним вне вакуумной камеры фокусирующую линзу 3, отклон ющее устройство 4, смонтированное таким образом, что два магнитопровода 5 введены в вакуумную камеру через два отверсти во фланце 1 и по периметру вакуум-плотно приварены к нему, а катушка 6 отклон кнцего устройства 4, надета на сердечник магнитопровода 5, находитс вне вакуумной камеры. К внутренним концам магнитопровода 5 прикреплены полюсные наконечники 7, к которым прикреплена электронна пушка 8. Работает предлагаемое устройство следующим образом. Электронный пучок, выход 11р1Й из пушки 8, попадает между полюсными наконечниками 7 отклон ющего устрой ва 4, отклон етс там поперечным магнитным полем, возбуждаемым катуш кой 6 и передаваемым к полюсным наконечникам 7магнитопроводом 5,. и направл етс на тигель 2, размещенный на фланце 1 испарительного устройства . У тигл 2 электронный пучок фокусируетс магнитным полем,создаваемым фокусирующей линзой 3 над поверхностью испар емого вещества, плавит и испар ет вещество, наход щеес в тигле 2 дл испарени . Качество покрытий, наносимых при использовании данного устройства, повьшаетс не менее чем на 10% при увеличении скорости нанесени покрытий .FIELD OF THE INVENTION The invention relates to electrothermia, namely to electron-beam installations for melting, evaporating and processing materials. An electron-beam evaporative device is known that contains a vacuum chamber with a crucible located in it, an electron gun, and an electromagnetically-diverting deviation device С Зг. and the spray from the crucible coil heats up, as a result of the evaporation from the elements of the heated coil the chamber becomes dirty and therefore the quality of s coatings | Furthermore, said devices offline focusing system, which is also reflected on the quality of the coating, since the electron beam mozhe.t they fall at the edges of the crucible. It is also known to have an electron-beam evaporative device containing a vacuum chamber, a crucible electron gun, electromagnetic focusing and deflecting systems, whose electromagnet is protected by a screen, and pole tips of a deflecting system are placed in a vacuum chamber. The poor quality of the applied coatings of this device is due to the placement of the deflecting and focusing system together with the excitation coils in the vacuum chamber, where electrons and spatter from the crucibles are heated by high temperatures, and due to evaporation from the heated coils, the contamination chamber impairs the quality of applied coatings. The aim of the invention is to improve the quality of coatings. This goal is achieved by the fact that in an electron-beam evaporating device containing a vacuum chamber, an electron gun, a crucible, electromagnetic focusing and deflecting systems, whose electromagnets are protected by a screen, and the pole tips of a deflecting system are located in a vacuum chamber, the focusing system is designed as a lens with arched geo-. the magnetic field and is placed under the crucible coaxial to the latter. In addition, the electromagnets of the deflection system and the focusing lens are placed outside the vacuum chamber, and the pole pieces of the deflection system are connected to the electromagnet by means of a magnetic circuit. Due to the use of a focusing lens and such a constructive arrangement of the elements in the proposed device, such elements are removed from the vacuum chamber, which, when operating the device under high temperature, splashes from crucibles and reflected electrons, contaminate the chamber with their evaporation, worsen the vacuum, and therefore and quality of coverage. 1. the evaporating device is presented, general view; the same left view; and on fig.Z - the same, top view. The electron-beam evaporating device is a vacuum chamber (not shown in the drawing) and includes a crucible 2 mounted on the flange 1 closing the entrance to the vacuum chamber, aligned with the crucible 2 and placed below it outside the vacuum chamber a focusing lens 3, a deflecting device 4, mounted in such a way that two magnetic cores 5 are inserted into the vacuum chamber through two openings in the flange 1 and are tightly welded to it along the perimeter, and the coil 6 is deflected by the device 4; oestrus 5 is outside the vacuum chamber. Pole tips 7 are attached to the inner ends of the magnetic circuit 5, to which an electron gun 8 is attached. The proposed device works as follows. The electron beam, the output of 11p1y from the gun 8, falls between the pole tips 7 of the deflecting device 4, is deflected there by a transverse magnetic field excited by the coil 6 and transmitted to the pole tips 7 by the magnetic conductor 5 ,. and is directed to the crucible 2 placed on the flange 1 of the evaporator. In crucible 2, the electron beam is focused by a magnetic field created by the focusing lens 3 above the surface of the vaporized substance, melts and evaporates the substance contained in the crucible 2 for evaporation. The quality of the coatings applied when using this device increases by at least 10% with an increase in the speed of coating.