SU974420A1 - Устройство дл нанесени резистивной пленки - Google Patents

Description

(54) УСТЕЮЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ РЕЗИСТИВНОЙ ПЛЕНКИ

1

Изобретение относитс  к радиоэлектронике и может быть использовано при производстве металлоокисных резисторов.

Известен способ изготовлени  ниточных резисторов диаметром до 1 мм, основанный на испарении резистивного состава из скрученной стекл нной нити, которую располагают непосредственно под подложкой и одновременно с ней помета ют через нагретую печь Г1 .

Однако при этом не обеспечиваетс  качество нанесени  резистивной пленки.

Известно устройство дл  изготовлени  резисторов, содержащее печь с реакционной камерой с входным и выходным каналами дл  подложки и нитевидным испарителем , расположенным непосредствен- но под подложкой и одновременно с ней перемешаемым через нагретую печь , В рейкдионной камере печи происходит иопарение исходных растворов из скрученоЯ стекл нной нити, термохимическое разложение продуктов испарени , и восход щий поток паров образует пленку на подложке С 2 3 .

Однако интенсивность испарени  и нанесение пленки в известном устройстве убывают при движении от начала камеры к ее концу вследствие снижени  концентрации раствора в испарителе, что приводит к уменьшению активной зоны нанесени  пленки, снижению производительгности нанесени  и увеличению неоднородности строени  пленки по ее толщине. Кроме этого, образование резистивной пленки наиболее интенсивно на поверхности подложки, обращенной к нити- испарителю , при увеличении диаметра подлож ки увеличиваетс  неравномерность пленки.

Цель изобретени  - повышение производительности и улучшение качества розистивной пленки.

Claims (2)

1. Цель достигаетс  тем, что в устройст ве дл  нанесени  резистивной пленки преимущественно при изготовлении трвзнсторов , содержащем печь, в которой расположена горизонтально относительно ее основани  цилшщрическа  реакционна  . камера с входным и выходным каналами дл  подложки, выполненными по оси камеры, снабженной нитеввдным испарите лем, печь снабжена теплообменником и напорным соплом, расположенным во входном канале реа1щионной камеры и соединенным с теплообменником,, а нитеввдный испаритель расположен сбоку от подложки. На фиг„ 1 показано устройство, продольный разрез; на фиг. 2 - то же, поперечный разрез. Устройство имеет печь 1 с цилиндрической реашиюнной камерой 2, входным 3 и выходным 4 каналами дл  подложки 5, соосными реакционной камере, и нитевидным испарителем 6. Входной кцнал 3 снабжен соплом 7 дл  подачи гор чего воздуха в реакционную камеруs соосным подложке 5 и соединенным с теплообменником 8. Работает устройство следующим образом . В реакционной камере 2 нагретой печи 1 вокруг нитевидного испарител  6 при его непрерывном перемещении обра зуетс  охлажденна  зона и возникает конвеюдионна  вихреобразна  циркул ци  продуктов испарени  вокруг подложки в направлении, указанном стрелкой на фиг. 2. Воздух, Необходимый дл  реакции термохимического разложени  продуктов испарени , проходит через теплообмениик 8, нагреваетс  до температуры печи 1, поступает в сопло 7 и на выход из него образует струю, направленную вдоль подложки 5, эжектирующую визф©образно циркулирующие продукты испарени , при этом во1фуг подложки образуетс  равномерный по всей длине реакционной камеры поток пленкообразующих паров, которые оседают на подложке равномерным слоем. Создание в реакционной камере вокруг подложки равномерного по всей ее длине потока пленкообразующих паров позвол ет увеличить интенсивность нанесени  пленки и скорость перемещени  подложки, улучщить качество резисторов. Испытани  устройства показывают, что его производительность увеличиваетс  в 3 раза по сравнению с известным. Формула изо 6f ре. тени  Устройство дл  нанесени  резистивной пленки преимущественно при изготовлении резисторов, содержащее печь, в которой расположена горизонтально относительно ее основани  цилиндрическа  реакционна  камера с входным и выходным каналами дл  подложки, вьшолненными по оси камеры, снабженной нитевидным испарителем, отличающеес  тем, что, с целью повышени  производительности и улучщени  качества резистивной пленки, печь снабжена теплообме шиком и напорным соплом, расположенным во входном канале реакционной камеры и соединенным с теплообменником , а нитевидный испаритель расположен сбоку от подложки. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1.Авторское свидетельство GCCF № 262226, кл. Н 01 С 17/ОО, 1968.;
2. 2.Авторское сввдетельство СССР № 394856, lui. Н 01 С 17/00, . 23.07.70.