SU962338A1 - Устройство дл избирательного нанесени гальванического покрыти - Google Patents

Устройство дл избирательного нанесени гальванического покрыти Download PDF

Info

Publication number
SU962338A1
SU962338A1 SU813285013A SU3285013A SU962338A1 SU 962338 A1 SU962338 A1 SU 962338A1 SU 813285013 A SU813285013 A SU 813285013A SU 3285013 A SU3285013 A SU 3285013A SU 962338 A1 SU962338 A1 SU 962338A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
porous material
tank
electrolyte
reservoir
anode
Prior art date
Application number
SU813285013A
Other languages
English (en)
Inventor
Виль Иосифович Шнайдерман
Мария Романовна Марущенко
Валерия Львовна Синьковская
Людмила Алексеевна Темненко
Original Assignee
за вители
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by за вители filed Critical за вители
Priority to SU813285013A priority Critical patent/SU962338A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU962338A1 publication Critical patent/SU962338A1/ru

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Description

.1
Изобрете1гае относитс  к устройствам дл  избирательного нанесени  гальванических покрытий, в частности, при создании гальванических контактных узлов предпочтительно у резисторов и других изделий из литого микропровода в стекл нной изол ции.
Известны способы и устройства дл  создани  гальванических контактных узлов , в частности, на издели х из микропровода в стекл нной изол ции, i
Недостаток данных устройств заключаетс  в сравнительно большом расходе электролита. Кроме того, бесконтрольное растекание электролита приводит к недостаточной локализации места нанесени  покрыти .
Наиболее близким к предлагаемому  вл етс  устройство дл  избирательного нанесени  гальванического покрыти , содержащее резервуар дл  электролита, внутри которого расположен анод и пористый материал, частично выступающий над резервуарок 2 .
Однако при достаточно хорошей ЛОКР лизации места нанесени  покрыти  .известное устройство не.обеспечивает необходимого качества покрыти  иэ-за того , что в процессе работы происходит обеднение прикатодного сло  электрсмпИ та, нарушаетс  процентное соотвеношение содержащихс  в нем компонентов, что приводит к значительному ухудшению качества наносимого покрыти .
Цель изобретени  - уменьшение расхода электролита при улучшении качества п окрыти .

Claims (2)

  1. Указанна  цель достигаетс  тем, чгр устройство дл  избирательного нанесени  гальванического покрыти , содержащее резервуар дл  электролита, внутри которого расположен анод и пористый материал , частично выступаюшии над резервуаром , снабвкено крышкой с параллель20 ными Еыступами, ) мекацими сквозные отверсти , в которых расположена выступ ак ца  над резервуаром часть пористого материала, и дополнительным реэервуаром с анодом, пористым материалом и крышкой, идентичными по конструкции указанным резервуару, аноду и крышке, расположенным над первым резервуаром таким образом, что выступы на обеих крышках соприкасаютс , а пористый материал совмещен друг с другом. На фиг. 1 изофажена дополнительна  крьп ка; на фиг. 2 - разрез А&-А на фиг. 1 (резервуар); на фиг. 3 - устройство в собранном виде. Устройство содержит резервуар 1 с электролитом 2, в котором расположены анод 3 и пористый материал 4, часть которого выступает над резервуаром 1. На резервуар 1 надета крьпика 5, имеюжа  по 1файней мере два выступа, параллельных ме :ду собой, при этом рассто ние между Выступами 6 равно рассто нию между колпачками токоподводов резисторов 7. Выступы 6 имеют сквозны отверсти , в которьос расположена вьюту пающа  над резервуаром 1 часть пористого материала 4. Указанные, сквозные отверсти  на вьютупах 6 попарно соосны . Резисторы 7 уложены перпендикул рн выступам 6 так, что каждый из колпачк 8резистора 7 расположен на пористом материале 4. Дополнительнь1й резервуар 9(фиг, 3) с дополнительными ЕЙаодом 10и пористым материалом, конструкци  которого аналогична описанной выше, расположен поверх основного резервуара 1 таким образом, что крышка 11 дополнительного , резервуара своими выстуПами соприкасаетс  с выступами 6, а пористый материал 12 совмещен с пористым материалом 4 и колпачком 8 токоподводов резисторов 7. Предлагаемое устройство работает следук дим образом. После сборки устройства резервуары 1 и 9 скрепл ют между собой, аноды 3 и 1О присоедин кгг к плюсовой шине источника питани , а колпачки 8 токоподводов-- к минусовой (источник питани  не показан). Затем собранное устройство переворачивают на 18О так, что резервуар 1 с электролитом 2 оказываетс  расположенным над резервуаро 9. Электролит 2 через пористый матеркал 4 поступает к колпачкам 8, на которых начинает происходить осаждение металла, смачивает пористый материал 12 и по нему поступает в резервуар 9, Таким образом, к колпачкам 8 все врем  поступает свежий электролит 2, что улучшает качество покрыти . Поступаю ший электролит 2 впитываетс  пористым материалом 12 и поступает в резервуар 9, что предотвращает непроизводительный расход электролита 2 и ограничивает участок нанесени  покрыти  тем, что покрытие происходит только на участках, соприкасающихс  с пористым материалом 4 и 12. При необходимости получить более толстый слой покрыти  после того, как болыиа  часть электролита 2 перетечет из резервуара 1 в резервуар 9, устройство вновь поворачивают на 180 так, чтобы резервуар 1 оказалс  под ; резервуаром 9. Указанную операцию производ т столько раз, сколько необходимодл  получени  покрыти  требуемой толщины . Пористый материал 4 и 12 выбкрают с такими размерами пор, чтобы поступление электролита 2 определ лось в основном капилл рными силами, а не силой гравитации. Так кек резистор 7 содержит обмотку на литого микропровода, корцы которой расположены на колпачках 8, то в результате осаждени  металла 8 на них образуетс  контактный узел. Создание у резисторов из микропровода теплостойкого контактного узла значительно расшир ет их эксплуатационные возможности. Экономический эффект создаетс  как за счет экономии электроли- та (в частности электролита серебрени ), так и от снижени  технологических потерь при образовании контактного узла в резисторах из микропровода . Предлагаемое устройство предназначено дл  использовани  при серийном вьшуске терморезисторов. Формула изобретени  Устройство дл  избирательного нанесени  гальванического покрыти , содержащее резервуар дл  электролита, внутри которого J)acпoлoжeн анод и пористый материал , частично выступающий над резервуаром , отличающеес  тем, что, с целью уменьшени  расхода электролита при улучшении качества покрыти , оно снабжено крышкой с параллельными выступами, имеющими сквозные отверс1:и , в которых расположена выступающа  над резервуаром часть пористого материала, и дополнительным резервуаром с анодом, пористым материалом и крышкой, идентичными по конструк , 5 9623386
    ции указанным резервуару, аноду и крьпы-Источники информации,
    ке, расположенным над первым резер-прин тые во внимание при экспертизе
    вуаром таким образом, что выступы на1. Авторское свидетельство СССР
    обеих крышках соприкасаютс , а порис-№ 324109, вл. С 251) 5/О2, 1969.
    тый материал совмещен, друг с дру-$
  2. 2. Авторское свидетельство СССР
    грм.,№ 360404, кл. С 25D 5/О6, 197О.
    . В
    У/////
    ж
    Х -./. / УХ
    Фи9.1
    А А
    6 л
SU813285013A 1981-04-30 1981-04-30 Устройство дл избирательного нанесени гальванического покрыти SU962338A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU813285013A SU962338A1 (ru) 1981-04-30 1981-04-30 Устройство дл избирательного нанесени гальванического покрыти

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU813285013A SU962338A1 (ru) 1981-04-30 1981-04-30 Устройство дл избирательного нанесени гальванического покрыти

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU962338A1 true SU962338A1 (ru) 1982-09-30

Family

ID=20956811

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU813285013A SU962338A1 (ru) 1981-04-30 1981-04-30 Устройство дл избирательного нанесени гальванического покрыти

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU962338A1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3160478D1 (en) Cathode for molten-salt electrolysis cell
JPS63137191A (ja) 金属電解析出用電解槽
WO2004104273A8 (en) Cu-ni-fe anode for use in aluminum producing electrolytic cell
EP0198978A2 (en) Formation of an adherent metal deposit on an exposed surface of an electrically-conducting ceramic
GB1158575A (en) Improvements in or relating to apparatus for the Production of Metal Coatings by Electrodeposition
US3222265A (en) Electrolysis method and apparatus employing a novel diaphragm
US4279732A (en) Annular electrodes for shunt current elimination
SU962338A1 (ru) Устройство дл избирательного нанесени гальванического покрыти
US4748091A (en) Bipolar plating of metal contacts onto oxide interconnection for solid oxide electrochemical cell
US4285794A (en) Annular electrodes for shunt current elimination
EP0235444A3 (en) Metal halogen electrochemical cell
US2583101A (en) Electrolytic cell
JPS57101692A (en) Horizontal electroplating method by insoluble electrode
ES8104440A1 (es) Cuba electrolitica para la electrodeposicion de aluminio.
JPS5763695A (en) Surface treatment method for ware
SU1060709A1 (ru) Анод дл электроосаждени цинка из сернокислых растворов
KR850000816A (ko) 협력망사 전극을 가지는 전해전지
US6585879B2 (en) Aluminum electrolysis using solid cryolite/alumina crust as anode
Brunson Electrolytic Refining of Copper
Votava et al. Continuous Tinning of Copper Wires. I.--Electrolysis Operating Parameters
JPS60245794A (ja) ボツクス型イオン交換膜電解槽
JPS57174477A (en) Electrolyzing method for aqueous solution of alkali metal salt
CA2076854A1 (en) Electrolytic cell for electrolysis of process liquid
Landa Basic Electrolytes for Galvanoplastic Processes.\--I.\
Spiridonov Electrodeposition of a Chromium--Cobalt Alloy From Sulfate Electrolytes