SU958507A1 - Electrolyte for depositing coatings from germanium-nickel alloy - Google Patents

Electrolyte for depositing coatings from germanium-nickel alloy Download PDF

Info

Publication number
SU958507A1
SU958507A1 SU803218789A SU3218789A SU958507A1 SU 958507 A1 SU958507 A1 SU 958507A1 SU 803218789 A SU803218789 A SU 803218789A SU 3218789 A SU3218789 A SU 3218789A SU 958507 A1 SU958507 A1 SU 958507A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
germanium
electrolyte
coatings
nickel
nickel alloy
Prior art date
Application number
SU803218789A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Лидия Николаевна Возмилова
Нина Васильевна Карпович
Original Assignee
Предприятие П/Я Г-4467
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я Г-4467 filed Critical Предприятие П/Я Г-4467
Priority to SU803218789A priority Critical patent/SU958507A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU958507A1 publication Critical patent/SU958507A1/en

Links

Description

(54) ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ИЗ СПЛАВА ГЕРМАНИЙ-НИКЕЛЬ(54) ELECTROLYTE FOR DEPOSITING COATINGS FROM GERMANY ALLOY-NICKEL

Изобретение относитс  к гальваностегии , в частности к электролитическому осаждению покрытий из сплава германий - никель в контактные окна, вскрытые в слое фоторезиста, и может быть использовано дл  изготовлени  омических контактов.к полупроводниковым приборам.The invention relates to electroplating, in particular to the electrolytic deposition of coatings from a germanium-nickel alloy in contact windows opened in a photoresist layer, and can be used to manufacture ohmic contacts. To semiconductor devices.

Известны электролиты дл  осаждени  покрытий из сплава германий-никель, содержащие соединени  соосаждаегллх металлов и комплексообразователи: щавелевокислый аммоний и гидроокись аммони  tin и Г2.Electrolytes for the deposition of germanium-nickel alloy coatings are known, containing compounds of co-precipitating metals and complexing agents: ammonium oxalate and ammonium hydroxide tin and H2.

Однако известные электролиты не пригодны дл  осаждени  сплава германий - винкель в контактные окна дл  полупровод иковых приборов, фоторезист, используемый в качестве маскирующего покрыти , разрушаетс  в щелочных растворах.However, the known electrolytes are not suitable for the deposition of germanium – winkel alloy into contact windows for semiconductor devices, the photoresist used as a masking coating is destroyed in alkaline solutions.

Наиболее близким к изобретению  вл етс  известный электролит дл  осаждени  покрытий из сплава германий никель , содержащий германат натри , сульфат никел  и серную кислоту t.Closest to the invention is a known electrolyte for the deposition of coatings from a germanium-nickel alloy containing sodium germanate, nickel sulphate and sulfuric acid t.

Однако из этого электролита одновременйо с осаждением покрыти  германий - никель происходит выделение водорода . Пузырьки водорода закрываютHowever, hydrogen is released from this electrolyte simultaneously with the deposition of the germanium – nickel coating. Hydrogen bubbles close

часть поверхности контактного окна, а в случае маленьких окон {Ф2-5 мкм) всю поверхность окна, что приводитpart of the surface of the contact window, and in the case of small windows (Φ2-5 μm), the entire surface of the window, which leads

5 к получению серых матовых неравномер . ных покрытий..5 to receive gray matte uneven. coatings

Целью изобретени   вл етс  получение равномерных блест щих покрытий в контактных окнах полупроводниковыхThe aim of the invention is to obtain uniform gloss coatings in semiconductor contact windows.

IQ приборов.IQ appliances.

Поставленна  цель достигаетс  тем, что электролит, содержаний сульфат никел  и соединение германи , дополнительно содержит винную кислоту и калий-натрий виннокислый, а вThe goal is achieved by the fact that the electrolyte, the contents of nickel sulphate and the germanium compound, additionally contains tartaric acid and potassium-sodium tartrate, and

5 качестве соединени  германи  - двуокись германи , при следующем соотношении компонентов, г/л: 5 as a germanium compound, germanium dioxide, in the following ratio of components, g / l:

Двуокись германи 10-30 Сульфат никел  5-15 Germanium dioxide 10-30 Nickel sulfate 5-15

20 Калий-натр.ий виннокислый20-150 Винна  кислота 6-1620 Potassium-sodium tartaric 20-150 Tartaric acid 6-16

Процесс осаждени  рекомендуют 25 проводить при ,1-7,5, комнатной температуре и плотности тока 0,11 ,0 А/дм в течение 1-30 мин с использованием платинового анода.The deposition process is recommended to carry out 25 at, 1-7.5, room temperature and current density of 0.11, 0 A / dm for 1-30 minutes using a platinum anode.

Стаб.ильность электролита cocTaiB30 л ет 2-6 А.ч/л.The electrolyte stability of cocTaiB30 is 2-6 A.h / l.

Осаждение ведут на пластины арсенида галли  с активными структурами, на которых методом фотолитографии в слое фоторезиста вскрывают контактные окна.Deposition is carried out on gallium arsenide plates with active structures, on which contact windows are opened by photolithography in a layer of photoresist.

Верхний предел концентрации двуокиси германи  (30 г/л) ограничен ее растворимостью, а нижний предел (10 г/л) ограничен качеством осадка . При содержании двуокиси германи  в электролите ниже 10 г/л осадокThe upper limit of the concentration of germanium dioxide (30 g / l) is limited by its solubility, and the lower limit (10 g / l) is limited by the quality of the precipitate. When the content of germanium dioxide in the electrolyte is below 10 g / l sediment

получаетс  не блест щий и с темными i п тнами.not shiny and with dark spots.

Качество получаемых осадков определ етс  визугшьно - отсутствие п тен, питтинга на поверхности покрыти , выделение водорода на катоде. Переходное сопротивление составл ет Ом-см.The quality of the precipitation obtained is determined visually — the absence of spots, pitting on the surface of the coating, the release of hydrogen at the cathode. The contact resistance is ohm-cm.

Изобретение иллюстрируетс  несколькими примерами, представленными в таблице.The invention is illustrated by several examples in the table.

Claims (1)

Формула изобретения Электролит для осаждения покрытий из сплава германий - никель, содержащий сульфат никеля й соединение гер- 55 мания, отличающийся тем, что, с целью получения равномерных блестящих покрытий в контактных окнах полупроводниковых приборов, он дополнительно содержит винную кисло- 60 ту и калий-натрий виннокислый, а в качестве соединения германия - двуокись германия при следующем соотношении компонентов, г/л:Formula of the invention The electrolyte for the deposition of coatings from a germanium alloy - nickel containing nickel sulfate and germanium compound 55, characterized in that, in order to obtain uniform shiny coatings in the contact windows of semiconductor devices, it additionally contains tartaric acid 60 and potassium sodium tartrate, and as a germanium compound - germanium dioxide in the following ratio of components, g / l: Двуокись германия10-30Germany dioxide 10-30 Сульфат никеля5-15Nickel Sulphate 5-15 Калий-натрий виннокислый 20-150Potassium Sodium Tartrate 20-150 Винная кислота6-16Tartaric acid 6-16
SU803218789A 1980-12-17 1980-12-17 Electrolyte for depositing coatings from germanium-nickel alloy SU958507A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU803218789A SU958507A1 (en) 1980-12-17 1980-12-17 Electrolyte for depositing coatings from germanium-nickel alloy

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU803218789A SU958507A1 (en) 1980-12-17 1980-12-17 Electrolyte for depositing coatings from germanium-nickel alloy

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU958507A1 true SU958507A1 (en) 1982-09-15

Family

ID=20932216

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU803218789A SU958507A1 (en) 1980-12-17 1980-12-17 Electrolyte for depositing coatings from germanium-nickel alloy

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU958507A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4428802A (en) Palladium-nickel alloy electroplating and solutions therefor
CN101528987A (en) Efficient gallium thin film electroplating methods and chemistries
JPS6254397B2 (en)
US2250556A (en) Electrodeposition of copper and bath therefor
CN110219026B (en) Alkaline cyanide-free brush plating solution of multi-coordination system and preparation method thereof
US4253919A (en) Electrodeposition of cadmium-selenium semiconducting photoelectrodes from an acid citrate bath
US4571287A (en) Electrolytically producing anodic oxidation coat on Al or Al alloy
EP1116804B1 (en) Tin-indium alloy electroplating solution
SU958507A1 (en) Electrolyte for depositing coatings from germanium-nickel alloy
US3829366A (en) Treatment of titanium cathode surfaces
CA1243982A (en) Gold plating bath containing tartrate and carbonate salts
US4615774A (en) Gold alloy plating bath and process
CN110592627B (en) Cyanide-free imitation gold electroplating solution and magnesium alloy electroplating process thereof
US4411744A (en) Bath and process for high speed nickel electroplating
CA1180677A (en) Bath and process for high speed nickel electroplating
WO1990004048A1 (en) A method, bath and cell for the electrodeposition of tin-bismuth alloys
US4236977A (en) Method for preplating steel surfaces
GB2115007A (en) Trivalent chromium electroplating process
GB2086940A (en) Composition and Process for High Speed Electrodeposition of Silver
Rao et al. The electrodeposition of copper on film-covered metal surfaces
US4428804A (en) High speed bright silver electroplating bath and process
CN108396345A (en) A kind of lead-antimony alloy electroplate liquid and electroplating technology
Oplinger et al. Alkaline tin plating
US6022467A (en) Electrolytic tin plating process with reduced sludge production
Gillett Cuprous hydroxide and cuprous oxide