Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Кубанский государственный университетfiledCriticalКубанский государственный университет
Priority to SU2988002/26ApriorityCriticalpatent/SU938642A1/en
Application grantedgrantedCritical
Publication of SU938642A1publicationCriticalpatent/SU938642A1/en
Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed
(AREA)
Abstract
Устройство для жидкостной эпитаксии полупроводниковых материалов методом сдвига, включающее подвижной контейнер с емкостью для раствора цилиндрической или прямоугольной формы, установленной на подложкодержателе, имеющем ячейку для подложки, отличающееся тем, что, с целью улучшения однородности толщины получаемых слоев, в нижней части емкости выполнен вырез, имеющий в сечении форму сегмента.A device for liquid epitaxy of semiconductor materials by the shear method, including a movable container with a container for a cylindrical or rectangular solution installed on a substrate holder having a cell for the substrate, characterized in that, in order to improve the uniformity of the thickness of the layers obtained, a cutout is made in the lower part of the tank, having a cross-sectional shape.
SU2988002/26A1980-09-261980-09-26
DEVICE FOR LIQUID EPITAXY
SU938642A1
(en)