SU873195A1

SU873195A1 - Projection lens with x 0.1 magnification

Info

Publication number: SU873195A1
Application number: SU792844252A
Authority: SU
Inventors: Элла Семеновна Гуревич; Георгий Иванович Тихончук; Лариса Дмитриевна Пигулевская; Светлана Бахшиевна Манвелян
Original assignee: Предприятие П/Я Р-6495
Priority date: 1979-11-26
Filing date: 1979-11-26
Publication date: 1981-10-15

Description

(54) ПРОЕКЦИОННЬда ОБЪЕКТИВ С УВЕЛИЧЕНИЕМ 0,1(54) PROJECTION LENSES WITH 0.1 INCREASE

Изобретение относитс к оптически системам и может найти применение в микроэлектронике в проекционных системах экспонировани . Известен объектив дл ультрафиоле товой области спектра, с увеличением , апертурой 0,2. Объектив содержи -10 два трехлинзовых склеенных компонента , разделенных диафрагмой Известен также объектив дл видимой и ультрафиолетовой « бластей спектра с увеличением апертурой 0,25. Он состоит из трех компонентов: первый компонент - плоско-выпукла линза, а второй и третий трехлинзовые несклеенные компоненты 2 .. Однако оба эти объектива предназн чены дл микроскопа, и не могут быть исггользованы в проекционных системах экспонировани дл получени субмикронных элементов из-за малых апертур , пол зрени , а также недостаточ ной коррекции аберраций. Наиболее близким к предлагаемому вл етс объектив, содержащий п ть компонентов, из которых первый и вто рой - положительные двухлинзовые склеенные компоненты, третий - одиночна положительна линза, четвертый - положительный мениск, обращенный выпуклостью к плоскости предмета, п тый - двухлинзовый склеенный отрицательный мениск, обрсиценный выпуклостью к плоскости предметов и диафрагму , расположенную между парами и вторым компонентами. Объектив работает с увеличением , апертурой 0,3 полем зрени 50 мм З . Недостатком объектива вл етс невозможность использовани его дл получени субмикронных элементов при экспонировании в ультрафиолетовой области спектра из-за недостаточной апертуры, неисправленных аберраций в эгой области спектра и наличи линз , выполненных из материалов, непрозрачных в ультрафиолетовой области спектра ., Цель изобретени - улучшение аберрационной коррекции в ультрафиолетовой области спектра. Поставленна цель достигаетс тем, что в объектив, содержащий расположенные одна за другой три положительные линзы и два мениска, обращенных вогнутостью к плоскости изображени первый из которых положительный и диафрагму , расположенную между первойThe invention relates to optical systems and can be used in microelectronics in projection exposure systems. A known lens for the ultraviolet region of the spectrum, with an increase of 0.2 aperture. The lens contains -10 two three-lens glued components separated by a diaphragm. The lens is also known for visible and ultraviolet spectrum bores with an aperture magnification of 0.25. It consists of three components: the first component is a plano-convex lens, and the second and third three-lens non-glued components 2. However, both of these lenses are designed for a microscope and cannot be used in projection exposure systems to produce submicron elements because of small apertures, visual field, as well as insufficient correction of aberrations. The closest to the present invention is a lens containing five components, of which the first and the second are positive two-lens glued components, the third is a single positive lens, the fourth is a positive meniscus convex to the object plane, and the fifth is a two-lens glued negative meniscus obscene bulge to the plane of objects and a diaphragm located between the pairs and the second component. The lens works with magnification, aperture 0.3 field of view 50 mm3. The disadvantage of the lens is that it cannot be used to obtain submicron elements when exposed to the ultraviolet region of the spectrum due to insufficient aperture, uncorrected aberrations in this spectral region and the presence of lenses made of materials that are opaque in the ultraviolet region of the spectrum. The purpose of the invention is to improve the aberration correction in the ultraviolet region of the spectrum. The goal is achieved by the fact that the lens containing three positive lenses arranged one after the other and two menisciks, with the concavity facing the image plane, is the first of which is positive and the aperture between the first

и второй линзами, введены два отрицательных мениска, расположенных между первой линзой, представл ющей собой положительный мениск/при этом первый из отрицательных менисков обращен вогнутостью к изображению и расположен от плоскости диафрагмы на рассто нии Л,8 фокусного рассто ни объектива, второй обрёоден вогнутостью к предмету и расположен в непосредственной близости к диафрагме, а последний из менисков выполнен положительным. and the second lens introduced two negative menisci located between the first lens, which is a positive meniscus (the first of the negative menisci facing the concavity of the image and located from the aperture plane at the distance L, 8 of the focal length of the lens, the second circumference of the lens) subject and is located in close proximity to the diaphragm, and the last of the meniscus is made positive.

На чертеже представлена принципиальнг1 оптическа схема объектива.The drawing shows the principal optical layout of the lens.

Объектив состоит из семи компонентов , разделенных диафрагмой.The lens consists of seven components separated by a diaphragm.

Первый компонент: полс«сительный мениск 1, обращенный вогнутостью к предме ту 2, выполнен из флюорита с соотношением радиусов 4,92:1.The first component: the polishing meniscus 1, which is concave towards object 2, is made of fluorite with a radius ratio of 4.92: 1.

Второй компонент: отрицательный мениск 3 обращенгай вогнутостью к изображению 4 и выполненный из кварца с соотношением радиусов 1,44:1, расположен от плоскости диафрап 5 на рассто нии 0,8 фокусного рассто ни объектива.The second component: the negative meniscus 3, with its concavity to image 4 and made of quartz with a ratio of radii of 1.44: 1, is located from the plane of the diaphragm 5 at a distance of 0.8 in the focal length of the lens.

Третий компонент: отрицательный мениск 6, обращенный вогнутостью к предмету 2,выполненный из кварца с соотношением радиусов 0,51:1 и расположенный в непосредственной близости к диафрагме 5.The third component: a negative meniscus 6, facing the concavity to the subject 2, made of quartz with a ratio of radii of 0.51: 1 and located in close proximity to the diaphragm 5.

Четвертый компонент: двсз ковьлпукла положительна линза 7,выполненна из флюорита с соотношением радиусов 7,78:1. The fourth component: dvsz kovlpukla positive lens 7, made of fluorite with a ratio of 7.78: 1 radii.

П тый компонент: дво ковыпукла положительна линза 8, выполненна из флюорита с соотношением радиусов 0,38:1.Fifth component: two positive convex lens 8, made of fluorite with a ratio of radii of 0.38: 1.

Шестой компонент: положительный мениск 9, обращенный выпуклостью к пред мету и -выполненный из флюорита с соотношением радиусов 0,2:1The sixth component: a positive meniscus 9, which is convex to the subject and is made of fluorite with a ratio of radii of 0.2: 1

Седьмой компонент: положительный мениск 10, обращенный вогнутостью к изображению 4, выполненный из кварца с соотношением радиусов 1,42:1. The seventh component: a positive meniscus 10, facing concavity to image 4, made of quartz with a ratio of radii of 1.42: 1.

Предлагаемый объектив рассчитан дл ультрафиолетовой области спектра при высокой степени коррекции аберраций , что дает возможность получать . субмикронные элементы пор дка О ,5 мкм. Таким образом, применение данного объектива позвол ет повысить произвЬдительность труда при использовании его в проекционных системах экспонировани .The proposed lens is designed for the ultraviolet region of the spectrum with a high degree of correction of aberrations, which makes it possible to obtain. submicron elements on the order of 5 microns. Thus, the use of this lens allows to increase the productivity of labor when used in projection systems of exposure.

Claims

1.Panov V.A., and Andreev L., N. Optics microscopes. L., 1978, p. 416.

2.Panov V.A. , and Andreev A.N. Optics microscope L., 1978, p.127.

3. Authors certificate of the USSR 254315, cl. G 02 13/24, 1968 (prototype).

f

/.

/

y y

Xx