SU867239A1 - Способ определени концентрации глубоких примесей в полупроводниках - Google Patents

Способ определени концентрации глубоких примесей в полупроводниках Download PDF

Info

Publication number
SU867239A1
SU867239A1 SU802930806A SU2930806A SU867239A1 SU 867239 A1 SU867239 A1 SU 867239A1 SU 802930806 A SU802930806 A SU 802930806A SU 2930806 A SU2930806 A SU 2930806A SU 867239 A1 SU867239 A1 SU 867239A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
concentration
deep
semiconductors
centers
impurities
Prior art date
Application number
SU802930806A
Other languages
English (en)
Inventor
В.Ф. Банная
Л.И. Веселова
Е.М. Гершензон
Original Assignee
Московский Ордена Ленина И Ордена Трудового Красного Знамени Государственный Педагогический Институт Им.В.И.Ленина
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Московский Ордена Ленина И Ордена Трудового Красного Знамени Государственный Педагогический Институт Им.В.И.Ленина filed Critical Московский Ордена Ленина И Ордена Трудового Красного Знамени Государственный Педагогический Институт Им.В.И.Ленина
Priority to SU802930806A priority Critical patent/SU867239A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU867239A1 publication Critical patent/SU867239A1/ru

Links

Landscapes

  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)

Description

00
Од isd
со со Изобретение относитс  к полупроводниковой технике и мотет быть использовано дл  контрол  полупроводниковых материалов. Известен способ исследовани  глу боких примесей в полупроводниках,основанный на вальтфарадных измерени х 1. Недостатком этого способа  вл етс  его непригодность дл  определени  концентрации глубоких примесей в случае, когда она меньше или сравнима с концентрацией мелких примесей . Известен также способ определени  концентрации глубоких примесей в полупроводниках, основанный нацизмерении посто нной Холла при низких температурах 2J . Недостатком этого способа  ал етс  его непригодность дл  определени  концентрации глубоких примесей в случае, когда она меньше или сравнима с концентрацией мелких примесей Целью изобретени   вл етс  расширенйе функциональных возможностей способа на случай, когда концентраци  глубоких центров меньше или равна концентрации мелких центров реком бинации . , Поставленна  цель достигаетс  тем, что в способе определени  концентрации глубоких примесей в полупроводниках , основанном на измерении посто нной Холла при низких teMnepaTypax, измерени  провод т при температуре жидкого гели ,освещают образец светом с энергией квантов больше ширины .запрещенной зоны и дополнительно измер ют электропроводность образца. На чертеже представлена зависимрр посто нной Холла Кц от генерации сво бодных носителей G. В соответствии с поставленной целью предлагаетс  использовать новый механизм вы влени  глубоких примесей . Таким механизмом может служить рекомбинаци  свободных электронов и дарок через глубокие центры при наличии собственного фотовозбуждени , в процессе которой электроны пр т гиваютс  на нейтральные центры,а дырки- на образовавшиес  отрицательно зар женные. При этом глубокие центры играют, существенную роль в условии электронейтральности полупроводника . Дл  определени  концентрации глубокихцентров предлагаетс  производить межзонную подсветку образца при гелиевых температурах и в этих услови х измер ть электропроводность 6 и Rj. Количественное определение концентрации глубоких примесей заключаетс  в нахождении доли зар женных центров из уравнени  нейтральности. Расчет выполн етс  следующим образом. В отсутствие магнитного пол  электропроводность полупроводника описыeaeTciR выражением Ррр где е - зар д электрона; п,р - концентраци  свободных; электронов и дырок соответственно; njf,,rUp подвижность свободных электронов и дырок соответственно . Посто нна  Холла при наличии двух типов свободных носителей записываетс  в виде 1 ) (2) е р Ьп1ПЪ |и рВ(р-«) в -индукци  магнитного пол . Выражени  (1),(2) дают возможность определить концентрации электронов п в зоне проводимости и дырок р в валентной зоне. В услови х бипол р 10й генерации (межзонный подсвет) уравнение нейтральности имеет вид Ng.-f р N -f Na + п где N - число зар женных глубоких центров, Концентрации зар женных мелких доноров и акценторов,рассчитываемые по найденным значени м п и р известным Ng,Мд и энерги м онизацииSj,у . Если генераци  носителей подсветом больше, чем термическа  генераци  с глубокого уров , полна  концентраци  глубоких ентров определ етс  следующим обраом .. + 1) N де находитс  из выражени  (3); В ,В - коэффициенты захвата электонов на глубокие нейтральные,а дырок
на глубокие зар женные центры соответственно (дл  Ge -рз 10).
Наиболее точными и простыми  вл ютс  измерени  в области таких интенсивностей подсвета, когда генёраци  свободных носителей соответствует инверсии посто нной Холла R{G)0. В этом случае концентрации электронов .и дырок равны и определ ютс  из измеренийбд, а N N5- Nq
N - -| N (5)
Предлагаемый метод пригоден в случае , когда механизм рекомбинации носителей через глубокие центры  вл етс  преобладающим, В Ge это условие выполн етс , если концентраци  свободных носителей меньше, чем 10 см ,а примесей Np-, М меньше, чем
Пример , Определена концентраци  глубоких примесей в образце Германи , содержащем 1,310 см сурьмы и 1,1 10 сминди . На фиг, V представлена зависимость Rj(G) полученна  дл  этого образца, В точке G испытывает инверсию.
Первоначально определена концентраци  N в случае, когда G 0, При использовании экспериментальных значений5 10омсм и R 4,8 10 см°/кул при Н 5800 3, из (1,2) получено
п 2,8 , ,6-10 см .
При этом использовались величины:
fh.8lob,(,1.10 1 подвижности электронов и дырок при рассе нии импульса на акустических колебани х решетки при ,2К,
Затем определена концентраци  зар женных мелких доноров и акцепторов с помощью стандартных статистических. I формул.
., По N Q 1 п 9 -3 ,0-10 см ,
6 П
N 02Уа 4,8- 108 см-,.
м р
е,
« -3/
где п Ngexp() -8; 10 СМ (АЛЙ GesSb
Р Nuevp() 70 см (дл  Ge:ln Ev
,.vt о KO I
Ng, Ny - плотности состо ний в зоне проводимости и в валентной зоне соответственно .
После проведенных расчетов из (3) смЛ из (4) N 2,2
Дл  расчет проводитс  по более простой форме. Из экспериментальных значений бо (G )7 10 ом см и R(G,) 0 имеем
п р 5,5- 10 см Nrf 210%
8 -3 N; 1,i(-10® см .10°CMN 2 1о см
Видно, что концентрации глубоких примесей, рассчитанные при 0 с помощью (1,2) хорошо совпадают.
Способ может найти применение в научных исследовани х,при разработке методик получени  гюлупроводников I с заданными параметрами и при из Готовлении полупроводниковых прйбо ров.
Я 
Я
Ю«
/
/
W
/О.
го.

Claims (1)

  1. СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ КОНЦЕНТРАЦИИ ГЛУБОКИХ ПРИМЕСЕЙ В ПОЛУПРОВОДНИКАХ,основанный на измерении постоянной Холла при низких температурах, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью расширения функциональных возможностей способа на ..случай, когда концентрация глубоких центров меньше или равна концентрации мелких центров рекомбинации, измерения проводят при температуре жидкого гелия, освещают образец светом с энергией квантов больше ширины запрещенной зоны и дополнительно измеряют электропроводность образца.
    м ко
    СО С0
    1 867239 2
SU802930806A 1980-05-23 1980-05-23 Способ определени концентрации глубоких примесей в полупроводниках SU867239A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU802930806A SU867239A1 (ru) 1980-05-23 1980-05-23 Способ определени концентрации глубоких примесей в полупроводниках

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU802930806A SU867239A1 (ru) 1980-05-23 1980-05-23 Способ определени концентрации глубоких примесей в полупроводниках

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU867239A1 true SU867239A1 (ru) 1983-07-07

Family

ID=20898188

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU802930806A SU867239A1 (ru) 1980-05-23 1980-05-23 Способ определени концентрации глубоких примесей в полупроводниках

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU867239A1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. Милне А.. Примеси с глубокими уровн ми в полупроводниках. М., Мир с. 2k. 2. Кикеладзе, Диссертаци на соискание ученой степени кандид.. наук, М., ФИАН СССР, I960, с.3+-39 (прототип). *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Vardeny et al. Method for direct determination of the effective correlation energy of defects in semiconductors: optical modulation spectroscopy of dangling bonds
Brattain et al. Surface properties of germanium
Kreissl et al. Electron paramagnetic resonance of the Mn cluster in silicon
SU867239A1 (ru) Способ определени концентрации глубоких примесей в полупроводниках
Matsumura et al. Two‐dimensional microscopic uniformity of resistivity in semi‐insulating GaAs
Saraswat et al. Breakdown walkout in planar pn junctions
Brower et al. ELECTRON PARAMAGNETIC RESONANCE OF ION‐IMPLANTED DONORS IN SILICON
SU817808A1 (ru) Способ определени эффективнойМАССы НОСиТЕлЕй B пОлупРОВОдНиКАХи пОлуМЕТАллАХ
SU834629A1 (ru) Способ измерени индукции магнит-НОгО пОл
SU794566A1 (ru) Способ измерени скоростипОВЕРХНОСТНОй РЕКОМбиНАции
Plummer Observations on the growth of excess current in germanium pn junctions
SU799050A1 (ru) Способ определени скорости поверх-НОСТНОй РЕКОМбиНАции
Nakamura et al. Concentration study of deep-level Cu center in Cu-diffused Si crystals by deep-level transient spectroscopy and photoluminescence measurements
Zatoloka Determination of the Width of the Electrical Field Region in Semiconductor Crystals
SU1098466A1 (ru) Способ определени квантомеханического фактора вырождени глубоких центров в полупроводнике
Druminski et al. Thin Film Evaluation Techniques for the ESFI SOS Technology
GALANOV et al. Use of magnetic circular dichroism for nondestructive measurement of charge carrier concentration in wideband semiconductors
Kato et al. Scanning electron microscopy of charging effect on silicon
SU1109627A1 (ru) Способ анализа свойств поверхностно-активных веществ
SU1040547A1 (ru) Способ определени эффективного @ -фактора носителей зар да в полупроводниках
Millea et al. Field effect on silicon
Reichel The distinction of different kinds of thermally induced defects in silicon
SU1086378A1 (ru) Способ дифференциально-термического анализа
SU784643A1 (ru) Способ определени параметров пограничных состо ний на границе раздела твердых тел
SU811370A1 (ru) Способ исследовани областей конвер-СиРОВАННОгО ТипА пРОВОдиМОСТи B Об'ЕМЕпОлупРОВОдНиКА