SU867239A1 - Способ определени концентрации глубоких примесей в полупроводниках - Google Patents
Способ определени концентрации глубоких примесей в полупроводниках Download PDFInfo
- Publication number
- SU867239A1 SU867239A1 SU802930806A SU2930806A SU867239A1 SU 867239 A1 SU867239 A1 SU 867239A1 SU 802930806 A SU802930806 A SU 802930806A SU 2930806 A SU2930806 A SU 2930806A SU 867239 A1 SU867239 A1 SU 867239A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- concentration
- deep
- semiconductors
- centers
- impurities
- Prior art date
Links
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Description
00
Од isd
со со Изобретение относитс к полупроводниковой технике и мотет быть использовано дл контрол полупроводниковых материалов. Известен способ исследовани глу боких примесей в полупроводниках,основанный на вальтфарадных измерени х 1. Недостатком этого способа вл етс его непригодность дл определени концентрации глубоких примесей в случае, когда она меньше или сравнима с концентрацией мелких примесей . Известен также способ определени концентрации глубоких примесей в полупроводниках, основанный нацизмерении посто нной Холла при низких температурах 2J . Недостатком этого способа ал етс его непригодность дл определени концентрации глубоких примесей в случае, когда она меньше или сравнима с концентрацией мелких примесей Целью изобретени вл етс расширенйе функциональных возможностей способа на случай, когда концентраци глубоких центров меньше или равна концентрации мелких центров реком бинации . , Поставленна цель достигаетс тем, что в способе определени концентрации глубоких примесей в полупроводниках , основанном на измерении посто нной Холла при низких teMnepaTypax, измерени провод т при температуре жидкого гели ,освещают образец светом с энергией квантов больше ширины .запрещенной зоны и дополнительно измер ют электропроводность образца. На чертеже представлена зависимрр посто нной Холла Кц от генерации сво бодных носителей G. В соответствии с поставленной целью предлагаетс использовать новый механизм вы влени глубоких примесей . Таким механизмом может служить рекомбинаци свободных электронов и дарок через глубокие центры при наличии собственного фотовозбуждени , в процессе которой электроны пр т гиваютс на нейтральные центры,а дырки- на образовавшиес отрицательно зар женные. При этом глубокие центры играют, существенную роль в условии электронейтральности полупроводника . Дл определени концентрации глубокихцентров предлагаетс производить межзонную подсветку образца при гелиевых температурах и в этих услови х измер ть электропроводность 6 и Rj. Количественное определение концентрации глубоких примесей заключаетс в нахождении доли зар женных центров из уравнени нейтральности. Расчет выполн етс следующим образом. В отсутствие магнитного пол электропроводность полупроводника описыeaeTciR выражением Ррр где е - зар д электрона; п,р - концентраци свободных; электронов и дырок соответственно; njf,,rUp подвижность свободных электронов и дырок соответственно . Посто нна Холла при наличии двух типов свободных носителей записываетс в виде 1 ) (2) е р Ьп1ПЪ |и рВ(р-«) в -индукци магнитного пол . Выражени (1),(2) дают возможность определить концентрации электронов п в зоне проводимости и дырок р в валентной зоне. В услови х бипол р 10й генерации (межзонный подсвет) уравнение нейтральности имеет вид Ng.-f р N -f Na + п где N - число зар женных глубоких центров, Концентрации зар женных мелких доноров и акценторов,рассчитываемые по найденным значени м п и р известным Ng,Мд и энерги м онизацииSj,у . Если генераци носителей подсветом больше, чем термическа генераци с глубокого уров , полна концентраци глубоких ентров определ етс следующим обраом .. + 1) N де находитс из выражени (3); В ,В - коэффициенты захвата электонов на глубокие нейтральные,а дырок
на глубокие зар женные центры соответственно (дл Ge -рз 10).
Наиболее точными и простыми вл ютс измерени в области таких интенсивностей подсвета, когда генёраци свободных носителей соответствует инверсии посто нной Холла R{G)0. В этом случае концентрации электронов .и дырок равны и определ ютс из измеренийбд, а N N5- Nq
N - -| N (5)
Предлагаемый метод пригоден в случае , когда механизм рекомбинации носителей через глубокие центры вл етс преобладающим, В Ge это условие выполн етс , если концентраци свободных носителей меньше, чем 10 см ,а примесей Np-, М меньше, чем
Пример , Определена концентраци глубоких примесей в образце Германи , содержащем 1,310 см сурьмы и 1,1 10 сминди . На фиг, V представлена зависимость Rj(G) полученна дл этого образца, В точке G испытывает инверсию.
Первоначально определена концентраци N в случае, когда G 0, При использовании экспериментальных значений5 10омсм и R 4,8 10 см°/кул при Н 5800 3, из (1,2) получено
п 2,8 , ,6-10 см .
При этом использовались величины:
fh.8lob,(,1.10 1 подвижности электронов и дырок при рассе нии импульса на акустических колебани х решетки при ,2К,
Затем определена концентраци зар женных мелких доноров и акцепторов с помощью стандартных статистических. I формул.
., По N Q 1 п 9 -3 ,0-10 см ,
6 П
N 02Уа 4,8- 108 см-,.
м р
е,
« -3/
где п Ngexp() -8; 10 СМ (АЛЙ GesSb
Р Nuevp() 70 см (дл Ge:ln Ev
,.vt о KO I
Ng, Ny - плотности состо ний в зоне проводимости и в валентной зоне соответственно .
После проведенных расчетов из (3) смЛ из (4) N 2,2
Дл расчет проводитс по более простой форме. Из экспериментальных значений бо (G )7 10 ом см и R(G,) 0 имеем
п р 5,5- 10 см Nrf 210%
8 -3 N; 1,i(-10® см .10°CMN 2 1о см
Видно, что концентрации глубоких примесей, рассчитанные при 0 с помощью (1,2) хорошо совпадают.
Способ может найти применение в научных исследовани х,при разработке методик получени гюлупроводников I с заданными параметрами и при из Готовлении полупроводниковых прйбо ров.
Я
Я
Ю«
/
/
W
/О.
го.
Claims (1)
- СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ КОНЦЕНТРАЦИИ ГЛУБОКИХ ПРИМЕСЕЙ В ПОЛУПРОВОДНИКАХ,основанный на измерении постоянной Холла при низких температурах, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью расширения функциональных возможностей способа на ..случай, когда концентрация глубоких центров меньше или равна концентрации мелких центров рекомбинации, измерения проводят при температуре жидкого гелия, освещают образец светом с энергией квантов больше ширины запрещенной зоны и дополнительно измеряют электропроводность образца.м коСО С01 867239 2
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU802930806A SU867239A1 (ru) | 1980-05-23 | 1980-05-23 | Способ определени концентрации глубоких примесей в полупроводниках |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU802930806A SU867239A1 (ru) | 1980-05-23 | 1980-05-23 | Способ определени концентрации глубоких примесей в полупроводниках |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU867239A1 true SU867239A1 (ru) | 1983-07-07 |
Family
ID=20898188
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU802930806A SU867239A1 (ru) | 1980-05-23 | 1980-05-23 | Способ определени концентрации глубоких примесей в полупроводниках |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU867239A1 (ru) |
-
1980
- 1980-05-23 SU SU802930806A patent/SU867239A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
1. Милне А.. Примеси с глубокими уровн ми в полупроводниках. М., Мир с. 2k. 2. Кикеладзе, Диссертаци на соискание ученой степени кандид.. наук, М., ФИАН СССР, I960, с.3+-39 (прототип). * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Vardeny et al. | Method for direct determination of the effective correlation energy of defects in semiconductors: optical modulation spectroscopy of dangling bonds | |
Brattain et al. | Surface properties of germanium | |
Kreissl et al. | Electron paramagnetic resonance of the Mn cluster in silicon | |
SU867239A1 (ru) | Способ определени концентрации глубоких примесей в полупроводниках | |
Matsumura et al. | Two‐dimensional microscopic uniformity of resistivity in semi‐insulating GaAs | |
Saraswat et al. | Breakdown walkout in planar pn junctions | |
Brower et al. | ELECTRON PARAMAGNETIC RESONANCE OF ION‐IMPLANTED DONORS IN SILICON | |
SU817808A1 (ru) | Способ определени эффективнойМАССы НОСиТЕлЕй B пОлупРОВОдНиКАХи пОлуМЕТАллАХ | |
SU834629A1 (ru) | Способ измерени индукции магнит-НОгО пОл | |
SU794566A1 (ru) | Способ измерени скоростипОВЕРХНОСТНОй РЕКОМбиНАции | |
Plummer | Observations on the growth of excess current in germanium pn junctions | |
SU799050A1 (ru) | Способ определени скорости поверх-НОСТНОй РЕКОМбиНАции | |
Nakamura et al. | Concentration study of deep-level Cu center in Cu-diffused Si crystals by deep-level transient spectroscopy and photoluminescence measurements | |
Zatoloka | Determination of the Width of the Electrical Field Region in Semiconductor Crystals | |
SU1098466A1 (ru) | Способ определени квантомеханического фактора вырождени глубоких центров в полупроводнике | |
Druminski et al. | Thin Film Evaluation Techniques for the ESFI SOS Technology | |
GALANOV et al. | Use of magnetic circular dichroism for nondestructive measurement of charge carrier concentration in wideband semiconductors | |
Kato et al. | Scanning electron microscopy of charging effect on silicon | |
SU1109627A1 (ru) | Способ анализа свойств поверхностно-активных веществ | |
SU1040547A1 (ru) | Способ определени эффективного @ -фактора носителей зар да в полупроводниках | |
Millea et al. | Field effect on silicon | |
Reichel | The distinction of different kinds of thermally induced defects in silicon | |
SU1086378A1 (ru) | Способ дифференциально-термического анализа | |
SU784643A1 (ru) | Способ определени параметров пограничных состо ний на границе раздела твердых тел | |
SU811370A1 (ru) | Способ исследовани областей конвер-СиРОВАННОгО ТипА пРОВОдиМОСТи B Об'ЕМЕпОлупРОВОдНиКА |