SU855785A1 - Method of manufacturing electric discharge devices - Google Patents
Method of manufacturing electric discharge devices Download PDFInfo
- Publication number
- SU855785A1 SU855785A1 SU792852041A SU2852041A SU855785A1 SU 855785 A1 SU855785 A1 SU 855785A1 SU 792852041 A SU792852041 A SU 792852041A SU 2852041 A SU2852041 A SU 2852041A SU 855785 A1 SU855785 A1 SU 855785A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- electric discharge
- discharge devices
- manufacturing electric
- electrodes
- electron
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
1one
Изобретение относитс к производ- ству электровакуумных приборов (ЭВП), в частности к способам обезгажйвани электродов при откачке или трюнировке слюнтированных ЭВП с прот женным электронным потоком и многоэлектродной электронно-оптической системой, и может быть использовано в электронной промышленности при производстве надежных и долговечных ЭВП.The invention relates to the production of electrovacuum devices (EEC), in particular, to methods of degassing electrodes when pumping out or trying out salivated EIS with an extended electron flux and a multielectrode electron-optical system, and can be used in the electronic industry for the production of reliable and durable EIS.
Известен способ обезгажйвани электродов ЭВП путем электронной бомбардировки- Наиболее эффективным вл етс сканирование электронного луча по обрабатываемой поверхности электродов смонтированного прибора, например, путем подачи переменного напр жени на фокусирующий электрод ЭЛТ дл достижени минимгшьного давлени в приборе TI Однако дл приборов с многоэлектродной электронно-оптической системой и прот женным электронным потоком этот способ непригоден из-за невозможности обработать поверхности, нгисод щиес в электронной тени, так как изменение напр жений на фокусирующем электроде не может обеспечить достаточно эффективное воздействие на траектории электронов в областиThe known method of degassing electrodes of EVP by electron bombardment. The most effective is to scan the electron beam across the surface of the electrodes of the mounted device, for example, by applying alternating voltage to the focusing electrode of the CRT to achieve a minimum pressure in the TI device However, for devices with a multi-electrode electro-optical system and by the extended electron flux this method is unsuitable because of the impossibility to process the surfaces that are in electronic form. because the change in voltage at the focusing electrode cannot provide a sufficiently effective effect on the trajectories of electrons in the region
удгшенных от катода электродов, а это необходимо дл создани встречного потока электронов на поверхности , наход щиес с противоположной от катода стороны.electrodes from the cathode, and this is necessary to create a counter-current of electrons on the surface opposite to the cathode.
Известна также обработка электродов сканирующим электронным лучом путем подачи на электроды одновременно с посто нными разных по величине переменных напр жений при повышенной температуре катода f2j.Also known is the processing of electrodes with a scanning electron beam by applying to the electrodes simultaneously with the constants of different variable voltages at an elevated cathode temperature f2j.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU792852041A SU855785A1 (en) | 1979-12-14 | 1979-12-14 | Method of manufacturing electric discharge devices |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU792852041A SU855785A1 (en) | 1979-12-14 | 1979-12-14 | Method of manufacturing electric discharge devices |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU855785A1 true SU855785A1 (en) | 1981-08-15 |
Family
ID=20864589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU792852041A SU855785A1 (en) | 1979-12-14 | 1979-12-14 | Method of manufacturing electric discharge devices |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU855785A1 (en) |
-
1979
- 1979-12-14 SU SU792852041A patent/SU855785A1/en active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2160799A (en) | Electron discharge device | |
DE2800180A1 (en) | THIN-LAYER ETCHING PROCESS BY PLASMA DECOMPOSITION OF A GAS | |
DK304386A (en) | PROCEDURE AND DEVELOPMENT APPARATUS | |
DE1515321A1 (en) | Selective material removal with the aid of cathodic atomization | |
EP0786795A3 (en) | Method for manufacturing thin film, and deposition apparatus | |
US4287548A (en) | Surge voltage arrester with reduced minimum operating surge voltage | |
DE3706698A1 (en) | METHOD AND ARRANGEMENT FOR SPRAYING A MATERIAL AT HIGH FREQUENCY | |
SU855785A1 (en) | Method of manufacturing electric discharge devices | |
GB1357198A (en) | Method and devices for shaping resharpening or cleaning tips | |
DE2934993A1 (en) | COLORED PIPES | |
US2533790A (en) | High-tension electrostatic electron lens | |
DE2314284A1 (en) | ION SPRAYER VACUUM PUMP | |
CA1316978C (en) | Method for spot-knocking an electron gun mount assembly of a crt | |
US4199702A (en) | Electron multiplier input electron optics | |
US4682962A (en) | Method of manufacturing a cathode ray tube | |
US5087854A (en) | Display device and methods of manufacturing such a display device | |
SU370004A1 (en) | PROFILE ELECTRODE TOOL FOR | |
SU48561A1 (en) | Method for amplifying high-frequency photocurrents | |
JPH0246626A (en) | Spot knocking method of electron gun mount structure | |
SU702429A1 (en) | Optoelectronic system "tsilitron" | |
SU1079096A1 (en) | Electronic gun | |
JP2722861B2 (en) | Dry etching method and apparatus | |
JP2595750B2 (en) | Dry etching method | |
JPS6173331A (en) | Dry etching device | |
SU48851A1 (en) | Device for amplifying electronic currents |