SU826420A1 - Канал для продвижения цилиндрических магнитных доменов 1 - Google Patents
Канал для продвижения цилиндрических магнитных доменов 1 Download PDFInfo
- Publication number
- SU826420A1 SU826420A1 SU792808693A SU2808693A SU826420A1 SU 826420 A1 SU826420 A1 SU 826420A1 SU 792808693 A SU792808693 A SU 792808693A SU 2808693 A SU2808693 A SU 2808693A SU 826420 A1 SU826420 A1 SU 826420A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- cmd
- channel
- layer
- magnetization
- film
- Prior art date
Links
Landscapes
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
(54) КАНАЛ ДЛЯ ПРОДВИЖЕНИЯ ЦИЛИНДРИЧЕСКИХ МАГНИТНЫХ ДОМЕНОВ
1
Изобретение относитс к вычислительной технике и может бытьиспользовано при построении запоминающих устройств на цилиндрических магнитных доменах (ЦМД).
Известен канал дл продвижени ЦМД, построенный на пластине магнитоодноосного материала с локальным рельефом поверхности , функционирующий в переменном магнитном поле, перпендикул рном плоскости пластины. Изготовление такого канала св зано с локальным травлением доменосодержащего материала по размерам пор дка диаметра домена, причем глубина травлени различных участков канала разна 1.
Изготоёление таких каналов нетехнологично . Кроме того, дл ЦМД малых диаметров ( 2 мкм) такие каналы неприменимы из-за малой толщины доменосодержащего сло .
Наиболее близким техническим, решением к предлагаемому вл етс канал дл продвижени ЦМД, содержащий эпитаксиальную магнитоодноосную пленку, .в которой выполнены примыкающие друг к другу не-; имплантированные области. Такой канал про движени функционирует во вращающемс в плоскости материала магнитном поле. Движение ЦМД вызываетс перемещением под действием пол в плоскости зар женной стенки, образованной обтекающим неимплантированные области магнитным потоком 2. Недостатком такого канала вл етс необходимость проведени ионной имплантации через маску, что усложн ет технологию изготовлени канала.
Цель изобретени - упрощение и повыщение технологичности изготовлени канала дл продвижени ЦМД.
Поставленна цель достигаетс тем, что в канале дл продвижени ЦМД, содержащем эпитаксиальную магнитоодноосную пленку, на которой расположен магнитный слой с легкой плоскостью намагниченности, расположенной параллельно поверхности эпитаксиальной магнитоодноосной пленки, в магнитном слое выполнены примыкающие друг к другу отверсти , причем эгштаксиальна магнитоодноосна пленка и магнитный слой могут быть выполнены с различными
посто нными кристаллической рещетки.
Claims (2)
- На фиг. 1 изображена конструкци канала дл продвижени ЦМД, на фиг. 2 - принцип действи канала дл продвижени ЦМД Предлагаемый канал дл продвижени ЦМД содержит выращенную на немагнитной подложке 1 граната эгштаксиальную магннтоодноосную пленку 2 (ось легкой намагниченности парал г льна вектору магнитного пол смещени Н), на которую нанесен магнитный слой 3 с плоскостью легкой намагниченности, перпендикул рной оси легкой намагниченности пленки 2. В слое 3 выполнены отверсти 4, например, в виде смежных дисков (фиг. П, В пленке 2 при наличии пол смещени пс, могут существовать ЦМД 5, намагниченность которых направлена в противоположную сторону от вектора Нем, направление намагниченности остальной части плецки 2 совпадает с направ лением вектора Нед,. Канал находитс во вр(щающемсд, магнитном поле iTl, перпен-. дикул рном Нем.. Работа канала основана на взаимодействии ЦМД с обтекающим отверсти 4 потоком намагниченности сло 3. Это иллюстрируетс дл одиночного отверсти на фиг. 2 На одиночный ЦМД 5, наход щийс вблизи границы между двухслойной структурой пленок 2 и 3 и однослойной пленкой 2, действуют силы магнитостатического характера -f Р„, зат гивающие ЦМД 5 в сторону участка двухслойной структуры и силы обменного характера, выталкивающие ЦМД 5 из-под двухслойной структуры (фиг. 2а). Первые силы 4-Р„ вызваны стремлением ЦМД замкнуть свой поток рассеивани наиболее выгодным способом, т. е. через плоскость легкой промышленности, а вторые -1 вызваны тем, что на границе раздела двух материалов возникают механические напр жени и, если магнитострикционный эффект имеет знак «-, а пленка 2 на границе cq слоем 3 раст нута, то область доменной границы ЦМД, наход ща с в области механических напр жений, обладает больщей энергией по сравнению с областью доменной гра ницы, наход щейс в -зоне без напр жений. т. е. в однослойной зоне ЦМД, стрем сь зан ть состо ние с наименьшей собственной энергией, будет выталкиватьс этой силой в область отверсти 4. Механические напр жени возникают при эпитаксиальном вь1ращивании пленок в случае, когда пос-. то нные решеток имеют небольшое различие . Параметры материалов слоев подбираютс таким образом, чтобы + FO О в зоне, когда ЦМД 5 находитс на границе отверсти 4. Фиксировать положение ЦМД относительно различных точек отверсти возможно с помощью магнитного пол в плоскости пленок. Такое, прле вызывает обтекание намагниченностью о.тверстий 4/ в слое 3 с легкой плоскостью и образует участки с различной напр жённостью ( фиг. 26). На участках отверсти , ближайч ших к полюсам, созданным распределение намагниченности сло , образуютс области; сход щегос и расход щегос магнитных потоков , которые, по аналогии с механизмом продвижени ЦМД в ионоимплантированной структуре можно интерпретировать как образование зар женной стенки, прит гивающей ЦМД 5. При повороте вектора FT,, область зар женной етенки сместитс , вслед за ней смеситс ЦМД 5 (фиг. 2в). Канал работает следующим образом. Пусть в начальный момент времени ЦМД 5 и 5 наход тс в позици х 1 и I cooj;; ветственно по положению век-щра Ну (фиг. За). При повороте вектора Ну в положение (фиг.Зб) ЦМД 5и 5 займут позиции П и и соответственно, причем дл ЦМД 5 позиции I и И , ,, .- совпадают. При дальнёйщем вращении вектора Н ЦМД 5 и 5 перейдут в позиции 111 и (фиг. Зв), здтем в IV и IV (фиг. Зг), и когда.вектор Н вернетс в исходное положение, совершив полный оборот, в позиции V и V (. Зд). Позиции II, 111 и. IV дл ЦМД 5совпадают,, также совпадают, позиции IV 5 совпадают,, также совпадают, позиции IV и V. За один полный оборот ЦМД 5 и соверщают переход с одного отверсти на соседнее в идентичные позиции, причем ЦМД 5 и движутс в противоположные J. При смене направлени вращени стороны, rf ЦМД мен ют направление двивектора жени . Использование предлагаемомго канала дл продвижени ЦМД позволит исключить операции ионной имплантации при изготовлении устройств на ЦМД, упростить его конструкцию , что повысит надежность работы .канала. Сокращение числа технологических операций повысит технологичность изготовлени устройств. Формула изобретени I. Канал дл продвижени цилиндрических магиитных доменоз, содержащий эпитаксиальную магнйтооднорсную пленку, на кото Р° расположеи магнитный слой с легкой плоскостью намагниченности, расположенной параллельно поверхности эпитаксиальной магнитоодноосной пленки, отличающий тем, что, с целью упрощени и повыше JИ технологичности изготовлени канала дл продвижени цилиндрических магнит-иых доменов, в магнитном слое выполнены примыкаюпхие друг к другу отверсти , 2. Канал по п. 1, отличающийс тем, что, апитаксиальна магнитоодноосна пленка Н магнитный слой выполнены с различными посто нными кристаллической решетки. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1. Бо рченков М. А. и др. Магнитные доменные логические и запоминающие устройства . М., «Энерги , 1974.
- 2. Патент США № 3828329, кл. 340-174, оиублик. 1977 (прототип).Нем/fcifd0//eA/ -f ну
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU792808693A SU826420A1 (ru) | 1979-08-16 | 1979-08-16 | Канал для продвижения цилиндрических магнитных доменов 1 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU792808693A SU826420A1 (ru) | 1979-08-16 | 1979-08-16 | Канал для продвижения цилиндрических магнитных доменов 1 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU826420A1 true SU826420A1 (ru) | 1981-04-30 |
Family
ID=20845887
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU792808693A SU826420A1 (ru) | 1979-08-16 | 1979-08-16 | Канал для продвижения цилиндрических магнитных доменов 1 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU826420A1 (ru) |
-
1979
- 1979-08-16 SU SU792808693A patent/SU826420A1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Wolfe et al. | Ion implanted patterns for magnetic bubble propagation | |
JPS5911988B2 (ja) | イオン打込み方法 | |
US4086661A (en) | Cylindrical magnetic domain element | |
US4070658A (en) | Ion implanted bubble propagation structure | |
Lin et al. | Manipulation of 1‐μm bubbles with coarse (≳ 4 μm) overlay patterns | |
SU826420A1 (ru) | Канал для продвижения цилиндрических магнитных доменов 1 | |
US4142250A (en) | Bubble translation switch using magnetic charged wall | |
US3828329A (en) | Single wall domain propagation arrangement | |
US3706081A (en) | Fail-safe domain generator for single wall domain arrangements | |
US3988722A (en) | Single sided, high density bubble domain propagation device | |
US4104422A (en) | Method of fabricating magnetic bubble circuits | |
US3996572A (en) | Very high density gapless propagation structure for bubble domains | |
US3996573A (en) | Bubble propagation circuits and formation thereof | |
KR20220029347A (ko) | 향상된 도메인 월 이동 제어 기능을 갖춘 레이스 트랙 메모리 | |
US4503517A (en) | Magnetic bubble memory device | |
US4415990A (en) | Complementary bi-level magnetic bubble propagation circuit | |
US3678478A (en) | Stacking arrangement which provides self-biasing for single wall domain organizations | |
US4376137A (en) | Method of fabricating a bi-level magnetic bubble propagation circuit | |
US4516222A (en) | Laminated magnetic bubble device | |
US4914626A (en) | Magnetic bubble memory device | |
US4271485A (en) | Bubble domain storage using improved transfer switch | |
US4559617A (en) | Magnetic bubble memory device | |
JPS60101793A (ja) | 磁気バルブ転送路 | |
SU920840A1 (ru) | Канал дл продвижени цилиндрических магнитных доменов | |
JPS59227079A (ja) | 磁気バブルメモリ素子 |