SU794665A1 - Method of manufacturing stencil storage matrices based on ferrite cores - Google Patents

Method of manufacturing stencil storage matrices based on ferrite cores Download PDF

Info

Publication number
SU794665A1
SU794665A1 SU792729184A SU2729184A SU794665A1 SU 794665 A1 SU794665 A1 SU 794665A1 SU 792729184 A SU792729184 A SU 792729184A SU 2729184 A SU2729184 A SU 2729184A SU 794665 A1 SU794665 A1 SU 794665A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
base
stencil
ferrite cores
cells
cores
Prior art date
Application number
SU792729184A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Петр Григорьевич Василенко
Павел Павлович Мягконосов
Татьяна Николаевна Пестерова
Original Assignee
Предприятие П/Я М-5308
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я М-5308 filed Critical Предприятие П/Я М-5308
Priority to SU792729184A priority Critical patent/SU794665A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU794665A1 publication Critical patent/SU794665A1/en

Links

Landscapes

  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Description

Изобретение относится к области вычислительной техники и может быть использовано при изготовлении матриц ЗУ высокой информационной плотности на ферритовых сердечниках. 5The invention relates to the field of computer technology and can be used in the manufacture of memory matrices of high information density on ferrite cores. 5

Известны способы изготовления трафарета для запоминающих матриц на ферритовых сердечниках [1.2].Known methods for the manufacture of stencil for storage matrices on ferrite cores [1.2].

Известный способ [1] заключается в том, что на предварительно нагретую тканую ю сетку накатывают слой сухого пленочного фоторезиста, на который последовательно накатывают требуемое количество слоев этого же фоторезиста до необходимой толщины. Затем осуществляют экспонирова- 15 ние полученной структуры через фотошаблон и проявляют изображение до получения сквозных отверстий.The known method [1] is that a layer of a dry film photoresist is rolled onto a preheated woven mesh, onto which the required number of layers of the same photoresist is successively rolled to the required thickness. Then, the obtained structure is exposed through a photomask and the image is developed until through holes are obtained.

Недостатком этого способа является возможность выпадания сердечников из отвер- 2о стий трафарета при наложении на него механических колебаний большой амплитуды в процессе заполнения, так как усилие вакуумной фиксации сердечников в ячейках трафарета мало, поскольку отверстия не 25 перекрываются сердечниками полностью.A disadvantage of this method is the possibility of dropping out of the cores of the sty 2 otver- stencil during the application of a mechanical oscillations of large amplitude during the filling process, since the force of the vacuum fixing cores in the cells of the stencil is small, since the hole 25 does not overlap the cores completely.

Наиболее близким техническим решением к изобретению является способ [2], заключающийся в том, что в нагретой до температуры размягчения пластине из тер- 30The closest technical solution to the invention is the method [2], which consists in the fact that in a plate heated to a softening temperature of 30

ШЕНОВ ( мопластичного материала Цакрилата) требуемой толщины при помощи специального пуансона выдавливаются ячейки, форма которых соответствует форме дуги сегмента применяемых сердечников. Каналы, обеспечивающие вакуумную фиксацию в ячейках трафарета, формируют одновременно с формированием профиля ячеек. Ряд ячеек выдавливают, перемещая пуансон с шагом, обеспечивающим ширину перемычки между соседними отверстиями порядка 0,3 мм. При выдавливании следующего ряда ячеек пуансон смещают в перпендикулярном ряду направлении на 0=9 мм. На каждой операции выдавливания пуансон ориентируют строго под углом 90° к плоскости термопластичного материала.SHENOV (the makoplastic material of Cacrylate) of the required thickness, using a special punch, squeeze out cells whose shape corresponds to the shape of the arc of the segment of cores used. Channels providing vacuum fixation in the cells of the stencil are formed simultaneously with the formation of the profile of the cells. A number of cells are squeezed out by moving the punch in steps that provide a bridge width between adjacent holes of the order of 0.3 mm. When squeezing the next row of cells, the punch is displaced in the direction perpendicular to the row by 0 = 9 mm. In each extrusion operation, the punch is oriented strictly at an angle of 90 ° to the plane of the thermoplastic material.

Недостатками этого способа являются невозможность достижения высокой плотности расположения ячеек, невозможность изготовления жестких и механически прочных трафаретов вследствие коробления тонкой пластины термопластичного материала, выпадание сердечников из ячеек трафарета при механических колебаниях в процессе заполнения и низкая производительность процесса изготовления трафарета.The disadvantages of this method are the impossibility of achieving a high cell density, the impossibility of producing rigid and mechanically strong stencils due to warping of a thin plate of thermoplastic material, the cores falling out of the stencil cells during mechanical vibrations during the filling process and the low productivity of the stencil manufacturing process.

Целью изобретения является повышение надежности изготовления трафарета за счет устранения искажений профиля отверстий в поверхностном слое основания трафарета.The aim of the invention is to increase the reliability of the manufacture of the stencil by eliminating distortion of the profile of the holes in the surface layer of the base of the stencil.

Поставленная цель достигается тем, что с целью повышения надежности изготовления трафарета за счет устранения искажений профиля отверстий в поверхностном слое основания трафарета, основание из сухого пленочного фоторезиста нагревают и с помощью рельефной матрицы, рабочая поверхность которой покрыта смазкой, выдавливают отверстия в поверхностном слое сухого пленочного фоторезиста основания, затем рельефную матрицу отделяют от основания, а оттиск рельефной матрицы на основании экспонируют через фотошаблон и проявляют изображение до получения сквозных каналов для вакуумной фиксации ферритовых сердечников.This goal is achieved by the fact that in order to increase the reliability of the manufacture of the stencil by eliminating distortions in the profile of the holes in the surface layer of the base of the stencil, the base of the dry film photoresist is heated and using the relief matrix, the working surface of which is coated with grease, squeeze holes in the surface layer of the dry film photoresist the base, then the embossed matrix is separated from the base, and the impression of the embossed matrix on the base is exposed through a photomask and the image is displayed up to obtaining through channels for vacuum fixation of ferrite cores.

Изготовление трафарета в слое фоторезиста путем выдавливания ячеек с помощью рельефной матрицы позволяет достигнуть высокой плотности расположения ячеек и исключить искажение их профиля, которое возникает при последовательном выдавливании ячеек и обусловлено вытеснением материала трафарета в направлениях, перпендикулярных направлению движения пуансона.The manufacture of a stencil in a photoresist layer by extruding cells using a relief matrix allows one to achieve a high cell density and eliminate distortion of their profile, which occurs during successive extrusion of cells and is due to the displacement of the stencil material in directions perpendicular to the direction of movement of the punch.

Соединительные каналы формируют фотохимическим методом после операции выдавливания ячеек, что позволяет увеличить поперечное сечение каналов и исключить . выпадание сердечников из ячеек трафарета.The connecting channels are formed by the photochemical method after the operation of extruding the cells, which allows to increase the cross section of the channels and exclude it. prolapse of stencil cores.

Сйособ осуществляется следующим образом.Syosob is as follows.

Сетку натягивают на раму и нагревают до 60—80°С, после чего на нее накатывают и напрессовывают слой сухого пленочного фоторезиста при удельном давлении 0,1 — 0,3 кг/см2 в течение 5—10 мин. Размеры ячеек и диаметр провода плетения сетки выбирают с учетом обеспечения надежного усилия вакуумной фиксации сердечников в ячейках трафарета. Под действием повышенной температуры и давления вязкость фоторезиста снижается и он «затекает» в ячейки сетки, обеспечивая прочное соединение с ней фоторезистивного слоя, на который затем при 80—90°С накатывают требуемое количество слоев этого же фоторезиста до получения общей толщины фоторезистивного слоя над сеткой в 0,4—0,5 величины наружного диаметра сердечника. В этом случае при 80—90°С формируют ячейки путем выдавливания при помощи рельефной матрицы при удельном давлении 0,1—0,2 кг/см2, действующем в течение 10—15 мин.The mesh is pulled onto the frame and heated to 60–80 ° С, after which a layer of dry film photoresist is rolled and pressed onto it at a specific pressure of 0.1–0.3 kg / cm 2 for 5–10 min. The cell sizes and the diameter of the mesh weaving wire are selected taking into account the provision of reliable efforts of vacuum fixation of the cores in the cells of the stencil. Under the influence of elevated temperature and pressure, the viscosity of the photoresist decreases and it “flows” into the cells of the grid, providing a strong connection with it of the photoresist layer, onto which then, at 80–90 ° С, the required number of layers of the same photoresist is rolled to obtain the total thickness of the photoresist layer above the grid 0.4-0.5 magnitude of the outer diameter of the core. In this case, cells are formed at 80–90 ° С by extrusion using a relief matrix at a specific pressure of 0.1–0.2 kg / cm 2 , which is valid for 10–15 min.

Рельефную матрицу получают путем закрепления в требуемой последовательности дисков из металла или ферромагнитного материала той же формы и размеров, что и применяемые сердечники, в слое компаунда (эпоксидной смолы), нанесенной на по794665 верхность жесткой подложки, служащей держателем в рельефной матрице.A relief matrix is obtained by fixing in the required sequence disks of metal or ferromagnetic material of the same shape and size as the cores used, in a layer of compound (epoxy resin) deposited on the surface of a rigid substrate serving as a holder in the relief matrix.

Затем температуру снижают до J8—20°С и по истечении 30 мин отделяют рельефную 5 матрицу от фоторезиста. Для предотвращения искажения профиля ячеек при отделении рельефной матрицы рабочую поверхность ее перед операцией выдавливания покрывают тонким слоем вещества, исключало ющим залипание матрицы в слое фоторезиста, например приборным маслом. Полученный в слое фоторезиста оттиск рельефной матрицы экспонируют через фотошаблон и проявляют изображение до получения 5 сквозных каналов, обеспечивающих вакуумную фиксацию сердечников в ячейках.Then, the temperature is reduced to J8–20 ° С and after 30 minutes the relief matrix 5 is separated from the photoresist. To prevent distortion of the cell profile during separation of the embossed matrix, its working surface is covered with a thin layer of material before extrusion, which prevents sticking of the matrix in the photoresist layer, for example, with instrument oil. An impression of the relief matrix obtained in the photoresist layer is exposed through a photomask and the image is developed until 5 through channels are obtained that provide vacuum fixation of the cores in the cells.

Использование предлагаемого способа изготовления трафарета для запоминающих матриц на ферритовых сердечниках по :0 сравнению с известными позволяет создать трафарет с высокой плотностью расположения ячеек, исключить возможность выпадания сердечников из ячеек трафарета при заполнении, что способствует повыше5 нию производительности труда вследствие устранения трудоемкой операции ручной доставки сердечников в незаполненные ячейки, упростить технологию изготовления трафарета, что достигается применением 0 групповых методов при формировании профиля ячеек и соединительных каналов для вакуумной фиксации.Using the proposed method of manufacturing a stencil for storage matrices on ferrite cores, by comparison with the known ones, it is possible to create a stencil with a high cell density, to exclude the possibility of cores falling out of the stencil cells during filling, which contributes to an increase in labor productivity due to the elimination of the laborious operation of manual delivery of cores to empty cells, simplify the technology of stencil manufacturing, which is achieved by applying 0 group methods with forms profile of cells and connecting channels for vacuum fixation.

Claims (3)

Формула изобретенияClaim 5 Способ изготовления трафарета для запоминающих матриц на ферритовых сердечниках, заключающийся в создании основания путем нанесения сухого пленочного фоторезиста определенной толщины на5 A method of manufacturing a stencil for storage matrices on ferrite cores, which consists in creating a base by applying a dry film photoresist of a certain thickness on 3 предварительно нагретую сетку и в выдавливании отверстий в поверхностном слое основания, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности изготовления трафарета за счет устранения искажений3 pre-heated mesh and in the extrusion of holes in the surface layer of the base, characterized in that, in order to increase the reliability of the manufacture of the stencil by eliminating distortion 5 профиля отверстий в поверхностном слое основания трафарета, основание из сухого пленочного фоторезиста нагревают и с помощью рельефной матрицы, рабочая поверхность которой покрыта смазкой, выдар) ливают отверстия в поверхностном слое су,хого пленочного фоторезиста основания, затем рельефную матрицу отделяют от основания, а оттиск рельефной матрицы на основании экспонируют через фотошаблон и ; проявляют изображение до получения сквозных каналов для вакуумной фиксации ферритовых сердечников. .5 profiles of holes in the surface layer of the base of the stencil, the base of the dry film photoresist is heated and with the help of a relief matrix, the working surface of which is coated with grease, holes are poured out of the surface layer of the dry film photoresist of the base, then the relief matrix is separated from the base, and the print a relief matrix on the base is exposed through a photomask and ; showing the image to obtain through channels for vacuum fixing ferrite cores. .
SU792729184A 1979-02-26 1979-02-26 Method of manufacturing stencil storage matrices based on ferrite cores SU794665A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU792729184A SU794665A1 (en) 1979-02-26 1979-02-26 Method of manufacturing stencil storage matrices based on ferrite cores

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU792729184A SU794665A1 (en) 1979-02-26 1979-02-26 Method of manufacturing stencil storage matrices based on ferrite cores

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU794665A1 true SU794665A1 (en) 1981-01-07

Family

ID=20812031

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU792729184A SU794665A1 (en) 1979-02-26 1979-02-26 Method of manufacturing stencil storage matrices based on ferrite cores

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU794665A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2443020C3 (en) Method of making video disks and mold for carrying out the method
DE69735689T2 (en) color filter
DE2553019A1 (en) LIGHT SENSITIVE THERMOPLASTIC MATERIAL, METHOD FOR ITS PROCESSING AND DEVICE FOR IT
DE2542815A1 (en) PRINT FORMS AND METHODS FOR THEIR PRODUCTION
US3198109A (en) Printing of container closure gaskets
US5582678A (en) Process for producing ink jet recording head
DE2443077C3 (en)
DE3231831C2 (en) Process for the electroforming production of a rotary printing screen
DE2215906A1 (en) Process for the manufacture of conductive precision mesh
US4176602A (en) Dry film screen stencil and method of making
DE2603888C3 (en)
SU794665A1 (en) Method of manufacturing stencil storage matrices based on ferrite cores
US3060076A (en) Method of making bases for printed electric circuits
US3833482A (en) Matrix for forming mesh
EP0141335A1 (en) Process for the production of an X-ray mask with a metallic support foil
DE3940640A1 (en) METHOD FOR PRODUCING A SUBSTRATE PLATE FOR A LIQUID CRYSTAL CELL WITH BLACK MATRIX AREAS
DE2050285A1 (en) Screen printing plate - produced using intermediate photo-sensitive polymeric foil
CN220742445U (en) Screen printing plate for local printing of flexible circuit board
JP2970147B2 (en) Master mold for Fresnel lens electroforming and method for manufacturing mold using the same
US5244620A (en) Mold forming method
JPS6187393A (en) Optical thick film hybrid method
JPH03262690A (en) Mask for screen printing and preparation thereof
DE112005001894T5 (en) Methods and devices for embossing substances
JPH10323962A (en) Manufacture of mesh integral-type metal mask
DE19755712B4 (en) Method of producing punches for stamped IC microstructures