SU731493A1 - Магниторазр дный насос - Google Patents

Магниторазр дный насос Download PDF

Info

Publication number
SU731493A1
SU731493A1 SU782679921A SU2679921A SU731493A1 SU 731493 A1 SU731493 A1 SU 731493A1 SU 782679921 A SU782679921 A SU 782679921A SU 2679921 A SU2679921 A SU 2679921A SU 731493 A1 SU731493 A1 SU 731493A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
discharge pump
magnetic
electrical
pump
magnetic discharge
Prior art date
Application number
SU782679921A
Other languages
English (en)
Inventor
Михаил Ефимович Слуцкий
Маркус Львович Либман
Original Assignee
Специальное Конструкторское Бюро Аналитического Приборостроения Научно-Технического Объединения Ан Ссср
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Специальное Конструкторское Бюро Аналитического Приборостроения Научно-Технического Объединения Ан Ссср filed Critical Специальное Конструкторское Бюро Аналитического Приборостроения Научно-Технического Объединения Ан Ссср
Priority to SU782679921A priority Critical patent/SU731493A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU731493A1 publication Critical patent/SU731493A1/ru

Links

Landscapes

  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Description

1
Изобретение относитс  к электровакуумной технике, а более конкретно - к высоковакуумным магниторазр дным насосам, предназначенным дл  вакуумировани  объемов в электровакуумных и радиоэлектрон- 5 ных системах, в масс-спектрометрической аппаратуре, при измерении высокого вакуума , в космической технике и технике электрофизических исследований.
Известно устройство магниторазр дного ю насоса, где подачу высокого напр жени  на электрод обеспечивает высоковольтный ввод 1.
Известен магниторазр дный насос, содержащий герметичный корпус, систему элек- is тродов, по крайней мере один электроввод и магнит с магнитопроводом 2.
Распыление материала катода, происход щее в процессе работы магниторазр дного насоса, может приводить к образова- 20 нию провод щих пленок на поверхности изол торов, что существенно снижает электрическую прочность последних.
Сохранение электрической прочности изо- 25 л торов электровводов достигаетс  с помощью системы экранов, предотвращающих пр мое попадание распыл емого материала на поверхность изол торов.
Однако, так как электроввод находитс  в магнитном поле рассе ни , то в области его расположени  может возникать разр д, способствующий напылению провод щего сло  на изол тор.
Данное обсто тельство особенно критично дл  малогабаритных насосов, так как попытки выноса электровводов из активной зоны разр да привод т к значительному увеличению размеров и массы насоса.
Целью изобретени   вл етс  исключение электрических пробоев и утечек по поверхности изол тора электроввода.
Поставленна  цель достигаетс  тем, что стенка магнитопровода выполнена с отверстием , в котором размещен электроввод.
На фиг. 1 представлен продольный разрез насоса; на фиг 2 - продольный разрез электроввода; на фиг. 3 - поперечный разрез насоса.
В герметичном корпусе 1 (фиг. 1) смонтирована система электродов 2, закрепленна  на высоковольтных электровводах 3. Изол торы 4 (фиг. 2) электровводов защищены от пр мого попадани  распыленного титана из активной зоны электродов экранами 5 лабиринтной конструкции. Кориус насоса помещен в магнитное поле магнита, состо щего из диполей 6 (фиг. 3) (N и S),
изготовленных из магнитотвердого материала и магнитопровода 7, изготовленного из магнитом гкого материала.
Предлагаемое устройство нредставл ет собой магниторазр дный насос, у которого зона размещени  изол торов высоковольтных вводов пересекаетс  стенками магнитопровода , дл  чего в ннх имеютс  отверсти .
При такой конструкции магнитное ноле замыкаетс  через стенку магннтопровода. Таким образом, ликвидируетс  магнитное ноле в зоне изол тора и иоэтому ие возникает разр д в области изол торов вводов и соответственно исключаетс  возмол :ность электрических утечек и нробоев из-за отсутстви  нанылени .
Предлагаемое устройство нозвол ет новысить надежность и ресурс работы магниторазр дного насоса.

Claims (2)

1.Васильев Г. А. Магниторазр дные насосы . М., «Энерги , 1970, с. 81.
2.Конструкторска  документаци  на масс-спектрометр MX 6202, чертеж 1Г2.969.000 по ТУ 1ГЗ 394.000 завод электронных микроскопов г. Сумы, 1971 (нрототип ).
SU782679921A 1978-10-31 1978-10-31 Магниторазр дный насос SU731493A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782679921A SU731493A1 (ru) 1978-10-31 1978-10-31 Магниторазр дный насос

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782679921A SU731493A1 (ru) 1978-10-31 1978-10-31 Магниторазр дный насос

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU731493A1 true SU731493A1 (ru) 1980-04-30

Family

ID=20791668

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU782679921A SU731493A1 (ru) 1978-10-31 1978-10-31 Магниторазр дный насос

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU731493A1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100659828B1 (ko) 이온화 물리적 증착 방법 및 장치
US4166018A (en) Sputtering process and apparatus
US3291715A (en) Apparatus for cathode sputtering including a plasmaconfining chamber
KR920004847B1 (ko) 스퍼터 장치
KR0155568B1 (ko) 플라즈마 처리장치
US4194962A (en) Cathode for sputtering
US4383177A (en) Multipole implantation-isotope separation ion beam source
US7102139B2 (en) Source arc chamber for ion implanter having repeller electrode mounted to external insulator
KR960029488A (ko) 원통형 마그네트론 차폐 구조물 및 침착 방법
US4434042A (en) Planar magnetron sputtering apparatus
EP0525633A1 (en) Plasma processing apparatus
AU6589398A (en) Plasma processing system utilizing combined anode/ion source
JPH06240452A (ja) 陰極スパッタリングによってプラズマを発生させるための装置
ATE29623T1 (de) Magnetron kathodenzerstauebungssystem.
KR100679593B1 (ko) 고전압 발생 장치 및 이를 이용한 가속 장치
KR20010034145A (ko) 셀프-밸런싱 차폐된 양극성 이온화기
US3451917A (en) Radio frequency sputtering apparatus
NL9301480A (nl) Inrichting voor het opwekken van een plasma door middel van kathodeverstuiving en microgolfbestraling.
EP0326531A2 (en) Improved RF plasma processing apparatus
SU731493A1 (ru) Магниторазр дный насос
US3436332A (en) Stabilized low pressure triode sputtering apparatus
GB1270496A (en) Ion source for slow-ion sputtering
US3400882A (en) Ion pump
JP7114368B2 (ja) スパッタリング装置
JP2832360B2 (ja) 薄膜形成装置