SU689423A1 - Способ определени профил концентрациипРиМЕСи B пОлупРОВОдНиКАХ - Google Patents
Способ определени профил концентрациипРиМЕСи B пОлупРОВОдНиКАХ Download PDFInfo
- Publication number
- SU689423A1 SU689423A1 SU772530757A SU2530757A SU689423A1 SU 689423 A1 SU689423 A1 SU 689423A1 SU 772530757 A SU772530757 A SU 772530757A SU 2530757 A SU2530757 A SU 2530757A SU 689423 A1 SU689423 A1 SU 689423A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- voltage
- sample
- semiconductors
- impurity concentration
- frequencies
- Prior art date
Links
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Description
(54) СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПРОФИЛЯ КОНЦЕНТРАЦИИ ПРИМЕСИ В ПОЛУПРОВОДНИКАХ
t
Изобретение относитс к области контрол электрофизических параметров полупроводниковых материалов и может быть использовано дл определени профил концентрации легирующих примесей в полупроводниковых слитках, пластинах, пленках, а также в различных полупроводниковых структурах и приборах (р-п переходы МДП, структуры, диоды, фотодиоды, транзисторы и др.).
Известен способ измерени профил концентрации примесей в полупроводниках , основанный на св зи емкости .обедненного сло с (измеренной на малом сигнале) с рассто нием от металлического контакта или от более сильно легированной области р-п /перехода х и концентрацией примеси N (х) :
(1)
С2)
dv
где А и В - некоторые коэффициенты пропорциональности, а V- напр жение
на образце. Способ .заключаетс в пропускании через образец посто нного по амплитуде тока высокой частоты f и измерении напр жени этой частоте f и напр жени на частоте 2f, выделившихс на образце 1.
Напр жение на частоте f на образце пропорционально С и,- следовательно , согласно (1), пропорционально рассто нию X. После усилени и детектировани это напр жение подаетс на вход горизонтальной развертки регистратора (дьухкоординатного
5 самописца или осциллографа), Напр жение на частоте 2f, выделившеес на образце, пропорционально d(C)/dV и, следовательно, согласно (2), пропорционально l/N(x). После усилени
0 и детектировани оно может быть подано на вход вертикальной развертки регистратора. Если ввести в канал усилени 2f логарифмический усилитель , на вертикальный вход регист5 ратора будет попадать сигнал, пропорциональный logN(x). Дл прохождени всех возможных значений координаты X к образцу допо 1нительно прикладываетс медленно измен ющеес напр 0 жение смещени . При этом регистратор вычерчивает кривую l/N(x) или logN(x) как функцию х. Такие кривые иначе называютс кривыми профил концентрации примесей в полупроводнике ,
Данный способ имеет недостаток, заключающийс в необходимости непосредственного электрического контакта к структурам типа р-п переходов, барьеров Шоттки и металл-диэлектрикполупроводник (МДП).
Известен способ контрол электрофизических характеристик полупроводниковых материалов, заключающийс в подаче на образец полупроводника напр жени смещени , освещении его модулированным световьом потоком и регистрации переменной конденсаторной ЭДС 2. .
Известный способ позвол ет избавитьс от непосредственного электрического контакта с полупроводниковы образцом.
Однако получение надежной информации в профиле концентрации примеси в полупроводнике с его помощью затруднительно.
Целью изобретени вл етс повышение точности измерений.
Поставленна цель достигаетс те что образец полупроводника одновременно освещают двум потоками с частотами f, и fj и регистрируют переменное напр жение на комбинационных частотах:.
F, f, + f и - F f, - fj
Физическое обоснование описываемого способа состоит в следующем. При освещении в полупроводнике генерируютс свободные электронно-дырочные пары. В области пространственного зар да они раздел ютс и измен ют падающее на нем напр жение Это изменение напр жени и называетс фoтo-ЭДC.V В случае, когда модул ци света идет на достаточно высокой частоте (практически - более 100 кГц), переменна составл юща генерируемого светом зар да Q не успевает рекомбинировать и идет ка зар дку емкости области пространственного зар да С. Между Q и V имеет место дифференциальное соотношение
dV
dQ(3) Величина С нелинейна и, в
ивою
очередь, зависит от Q. Ограничива сь двум членами разложени в р д, имеем
с-(()с-(а-о) . (4
Подставл (4) и (3) и интегриру , получаем
dCcJ- l g
C5) d Q
иаи, использу (3) ,
(6)
Если величина Q вл етс гармонической функцией времени
О QO sinojt, to 21tf, то из (6) следует, что перва гармоника фото-ЭДС пропорциональна С , т.е., согласно (1), пропорциональна координате х, а втора гармоника фото-ЭДС пропорциональнаd(с )/dN, т.е., согласно (2), пропорциональна l/N(x). Если величина Q вл етс суммой двух гармонических величин
Q-O sinujt, си 2Uf,
то обе первые гармоники фото-ЭДС пропорциональны х, а обе вторые гармоники фото-ЭДС, а также .сигналы фото ЭДС на комбинационных часто ,тах , + fj
1
пропорциональНЫ 1/N(x) .
В принципе дл измерений достатоно использовать один световой поток модулируемый с частотой f/f f, /, дл более точных измерений концентрации N(x) предпочтительнее использовать два световых потока с разными частотами модул ции f и f, и вести измерени сигнала l/N(x) на одной из комбинационных частот. Причина этого состоит в том, что при существующих способах модул ции световые потоки, как правило, не вл ютс промодулированными строго гармонически , а уже содержат высшие гармоники , в частности, вторую гармонику котора будет создавать паразитный сигнал и вносить погрешность в измерени . С другой стороны, при наличии хороших (в смысле гармоничности ) модул торов света и пониженных требовани х к точности измерений частный случай предлагаемого способа , использующий только одну частоту модул ции, может оказатьс даже предпочтительней ввиду своей простоты.
Преимуществом предлагаемого способа вл етс его мала чувствительность к последовательным сопротивлени м в образце и контактах, а также к паразитным емкост м монтажа , контактов и входов усилителей поскольку в цепи источника фото-ЭДС все они включены последовательно с емкостью внешний электрод-образец. Величина последней много меньше емкости пространственного зар да и не зависит от напр жени- .
Способ может быть реализован с помощью устройства, изображенного на чертеже. Внешний полупрозрачный электрод 1 нанесен на торец стекл нного световода 2 и подведен к образцу 3. Между образцом 3 и элекродом 1 оставлен зазор в несколько микрон. Величину этого зазора можно контролировать, например, измер емкость между электродом и образцом с помощью отдельной схемы. Через световод 2 и электрод 1 образец освещаетс светом, испускаемым двум светодиодами 4 и 5, питаемыми соответственно от генераторов с частотами f и fj (например, f 200 кГц f 300 кГц). Сигналы фото-ЭДС с электрода 1 поступают на усилители. Сигнал частоты f , пропорциональный координате х, после усилени и дете тировани поступает на х-вход регис ра(осциллографа или самописца), си1- кал частоты f + fij 500 кГц, пропорциональный обратной концентрации l/N(x), после усилени и детектировани поступает на у-вход регистратора . Электрод 1 по низкой частоте заземлен через входные резисторы усилителей , а на образец относительно земли подаетс низкочастотное напр жение (10-100 Гц, амплитудой 50500 В) от генератора смещени , которое измен ет ширину области прост ранственного зар да X в допустимых пределах (последние завис т от вели чины N(x) и могут лежать в диапазон О,1-100 мкм). Таким образом, на экране регистратора получаетс крива профил концентрации примесей в полупроводниковом образце 3. Результаты измерений могут быть переданы дальше на какое-либо испол
Claims (2)
- Выход нительное устройство, осуществл ющее , например, разработку образцов. Использование способа позволит исключить нарушение и загр знение образцов, увеличить точность измерений , упростить процесс измерений и распространить его на отдельные стадии технологического процесса производства полупроводниковых приборов и интегральных схем. Формула изобретени Способ определени профил концентрации примеси в полупроводниках, заключающийс в подаче на образец полупроводника напр жени смещени , освещении его модулированным световым потоком и регистрации переменного напр жени конденсаторной ЭДС, отличающийс тем, что, с целью повышени точности измерений, образец полупроводника одновременно освещают двум потоками с частотами ff и f и регистрируют переменное напр жение с комбинационными частотами Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1. Патент США № 3518545, кл. 324-158, 30.06.70,
- 2. Авторское свидетельство СССР №442398, кл. G 01 R 31/26, 05.09.74.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU772530757A SU689423A1 (ru) | 1977-07-18 | 1977-07-18 | Способ определени профил концентрациипРиМЕСи B пОлупРОВОдНиКАХ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU772530757A SU689423A1 (ru) | 1977-07-18 | 1977-07-18 | Способ определени профил концентрациипРиМЕСи B пОлупРОВОдНиКАХ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU689423A1 true SU689423A1 (ru) | 1981-08-07 |
Family
ID=20727618
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU772530757A SU689423A1 (ru) | 1977-07-18 | 1977-07-18 | Способ определени профил концентрациипРиМЕСи B пОлупРОВОдНиКАХ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU689423A1 (ru) |
-
1977
- 1977-07-18 SU SU772530757A patent/SU689423A1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Ambridge et al. | An automatic carrier concentration profile plotter using an electrochemical technique | |
US3528749A (en) | Apparatus for measuring optical density | |
US4973910A (en) | Surface potential analyzer | |
US4393348A (en) | Method and apparatus for determining minority carrier diffusion length in semiconductors | |
JPH08316276A (ja) | 電荷測定装置 | |
SU689423A1 (ru) | Способ определени профил концентрациипРиМЕСи B пОлупРОВОдНиКАХ | |
UST102104I4 (en) | Scanning optical system adapted for linewidth measurement in semiconductor devices | |
SU658507A1 (ru) | Устройство дл определени концентрации примесей в полупроводниках | |
SU1425431A1 (ru) | Вихретоковый толщиномер | |
RU2101720C1 (ru) | Способ измерения падения напряжения на полупроводнике в мдпдм-структуре и устройство для его осуществления | |
Forward et al. | An automatic CV plotter | |
SU362263A1 (ru) | Всесоюзная ' | |
Nakhmanson et al. | Measurements on MIS structures at infrasonic frequencies | |
SU430338A1 (ru) | Устройство для измерения электрическихпараметров полупроводниковыхматериалов | |
Buchheim et al. | Application of the Kelvin method for oxide charge evaluation in Si SiO2 structures | |
SU1179232A1 (ru) | Устройство дл измерени параметров МДП-структур | |
SU1441336A1 (ru) | Устройство дл контрол качества контактов радиоэлектронной аппаратуры | |
SU1092417A2 (ru) | Оптико-электронный трансформатор напр жени | |
SU922532A1 (ru) | Устройство дл измерени температуры | |
JP3732594B2 (ja) | 電圧波形測定装置 | |
Goodman | Improvements in method and apparatus for determining minority carrier diffusion length | |
SU147377A1 (ru) | Способ измерени функции распределени и плотности веро тности случайной электрической величины и устройство по этому способу | |
SU674121A1 (ru) | Способ исследовани распределений магнитных микрополей | |
SU365585A1 (ru) | Установка для измерения спектрального коэффициента излучения материалов при высоких | |
JPH05183036A (ja) | C−v特性の測定方法 |