SU689423A1 - Способ определени профил концентрациипРиМЕСи B пОлупРОВОдНиКАХ - Google Patents

Способ определени профил концентрациипРиМЕСи B пОлупРОВОдНиКАХ Download PDF

Info

Publication number
SU689423A1
SU689423A1 SU772530757A SU2530757A SU689423A1 SU 689423 A1 SU689423 A1 SU 689423A1 SU 772530757 A SU772530757 A SU 772530757A SU 2530757 A SU2530757 A SU 2530757A SU 689423 A1 SU689423 A1 SU 689423A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
voltage
sample
semiconductors
impurity concentration
frequencies
Prior art date
Application number
SU772530757A
Other languages
English (en)
Inventor
Р.С. Нахмансон
Original Assignee
Nakhmanson R S
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nakhmanson R S filed Critical Nakhmanson R S
Priority to SU772530757A priority Critical patent/SU689423A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU689423A1 publication Critical patent/SU689423A1/ru

Links

Landscapes

  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)

Description

(54) СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПРОФИЛЯ КОНЦЕНТРАЦИИ ПРИМЕСИ В ПОЛУПРОВОДНИКАХ
t
Изобретение относитс  к области контрол  электрофизических параметров полупроводниковых материалов и может быть использовано дл  определени  профил  концентрации легирующих примесей в полупроводниковых слитках, пластинах, пленках, а также в различных полупроводниковых структурах и приборах (р-п переходы МДП, структуры, диоды, фотодиоды, транзисторы и др.).
Известен способ измерени  профил  концентрации примесей в полупроводниках , основанный на св зи емкости .обедненного сло  с (измеренной на малом сигнале) с рассто нием от металлического контакта или от более сильно легированной области р-п /перехода х и концентрацией примеси N (х) :
(1)
С2)
dv
где А и В - некоторые коэффициенты пропорциональности, а V- напр жение
на образце. Способ .заключаетс  в пропускании через образец посто нного по амплитуде тока высокой частоты f и измерении напр жени  этой частоте f и напр жени  на частоте 2f, выделившихс  на образце 1.
Напр жение на частоте f на образце пропорционально С и,- следовательно , согласно (1), пропорционально рассто нию X. После усилени  и детектировани  это напр жение подаетс  на вход горизонтальной развертки регистратора (дьухкоординатного
5 самописца или осциллографа), Напр жение на частоте 2f, выделившеес  на образце, пропорционально d(C)/dV и, следовательно, согласно (2), пропорционально l/N(x). После усилени 
0 и детектировани  оно может быть подано на вход вертикальной развертки регистратора. Если ввести в канал усилени  2f логарифмический усилитель , на вертикальный вход регист5 ратора будет попадать сигнал, пропорциональный logN(x). Дл  прохождени  всех возможных значений координаты X к образцу допо 1нительно прикладываетс  медленно измен ющеес  напр 0 жение смещени . При этом регистратор вычерчивает кривую l/N(x) или logN(x) как функцию х. Такие кривые иначе называютс  кривыми профил  концентрации примесей в полупроводнике ,
Данный способ имеет недостаток, заключающийс  в необходимости непосредственного электрического контакта к структурам типа р-п переходов, барьеров Шоттки и металл-диэлектрикполупроводник (МДП).
Известен способ контрол  электрофизических характеристик полупроводниковых материалов, заключающийс  в подаче на образец полупроводника напр жени  смещени , освещении его модулированным световьом потоком и регистрации переменной конденсаторной ЭДС 2. .
Известный способ позвол ет избавитьс  от непосредственного электрического контакта с полупроводниковы образцом.
Однако получение надежной информации в профиле концентрации примеси в полупроводнике с его помощью затруднительно.
Целью изобретени   вл етс  повышение точности измерений.
Поставленна  цель достигаетс  те что образец полупроводника одновременно освещают двум  потоками с частотами f, и fj и регистрируют переменное напр жение на комбинационных частотах:.
F, f, + f и - F f, - fj
Физическое обоснование описываемого способа состоит в следующем. При освещении в полупроводнике генерируютс  свободные электронно-дырочные пары. В области пространственного зар да они раздел ютс  и измен ют падающее на нем напр жение Это изменение напр жени  и называетс  фoтo-ЭДC.V В случае, когда модул ци  света идет на достаточно высокой частоте (практически - более 100 кГц), переменна  составл юща  генерируемого светом зар да Q не успевает рекомбинировать и идет ка зар дку емкости области пространственного зар да С. Между Q и V имеет место дифференциальное соотношение
dV
dQ(3) Величина С нелинейна и, в
ивою
очередь, зависит от Q. Ограничива сь двум  членами разложени  в р д, имеем
с-(()с-(а-о) . (4
Подставл   (4) и (3) и интегриру , получаем
dCcJ- l g
C5) d Q
иаи, использу  (3) ,
(6)
Если величина Q  вл етс  гармонической функцией времени
О QO sinojt, to 21tf, то из (6) следует, что перва  гармоника фото-ЭДС пропорциональна С , т.е., согласно (1), пропорциональна координате х, а втора  гармоника фото-ЭДС пропорциональнаd(с )/dN, т.е., согласно (2), пропорциональна l/N(x). Если величина Q  вл етс  суммой двух гармонических величин
Q-O sinujt, си 2Uf,
то обе первые гармоники фото-ЭДС пропорциональны х, а обе вторые гармоники фото-ЭДС, а также .сигналы фото ЭДС на комбинационных часто ,тах , + fj
1
пропорциональНЫ 1/N(x) .
В принципе дл  измерений достатоно использовать один световой поток модулируемый с частотой f/f f, /, дл  более точных измерений концентрации N(x) предпочтительнее использовать два световых потока с разными частотами модул ции f и f, и вести измерени  сигнала l/N(x) на одной из комбинационных частот. Причина этого состоит в том, что при существующих способах модул ции световые потоки, как правило, не  вл ютс промодулированными строго гармонически , а уже содержат высшие гармоники , в частности, вторую гармонику котора  будет создавать паразитный сигнал и вносить погрешность в измерени . С другой стороны, при наличии хороших (в смысле гармоничности ) модул торов света и пониженных требовани х к точности измерений частный случай предлагаемого способа , использующий только одну частоту модул ции, может оказатьс  даже предпочтительней ввиду своей простоты.
Преимуществом предлагаемого способа  вл етс  его мала  чувствительность к последовательным сопротивлени м в образце и контактах, а также к паразитным емкост м монтажа , контактов и входов усилителей поскольку в цепи источника фото-ЭДС все они включены последовательно с емкостью внешний электрод-образец. Величина последней много меньше емкости пространственного зар да и не зависит от напр жени- .
Способ может быть реализован с помощью устройства, изображенного на чертеже. Внешний полупрозрачный электрод 1 нанесен на торец стекл нного световода 2 и подведен к образцу 3. Между образцом 3 и элекродом 1 оставлен зазор в несколько микрон. Величину этого зазора можно контролировать, например, измер   емкость между электродом и образцом с помощью отдельной схемы. Через световод 2 и электрод 1 образец освещаетс  светом, испускаемым двум  светодиодами 4 и 5, питаемыми соответственно от генераторов с частотами f и fj (например, f 200 кГц f 300 кГц). Сигналы фото-ЭДС с электрода 1 поступают на усилители. Сигнал частоты f , пропорциональный координате х, после усилени  и дете тировани  поступает на х-вход регис ра(осциллографа или самописца), си1- кал частоты f + fij 500 кГц, пропорциональный обратной концентрации l/N(x), после усилени  и детектировани  поступает на у-вход регистратора . Электрод 1 по низкой частоте заземлен через входные резисторы усилителей , а на образец относительно земли подаетс  низкочастотное напр  жение (10-100 Гц, амплитудой 50500 В) от генератора смещени , которое измен ет ширину области прост ранственного зар да X в допустимых пределах (последние завис т от вели чины N(x) и могут лежать в диапазон О,1-100 мкм). Таким образом, на экране регистратора получаетс  крива  профил  концентрации примесей в полупроводниковом образце 3. Результаты измерений могут быть переданы дальше на какое-либо испол

Claims (2)

  1. Выход нительное устройство, осуществл ющее , например, разработку образцов. Использование способа позволит исключить нарушение и загр знение образцов, увеличить точность измерений , упростить процесс измерений и распространить его на отдельные стадии технологического процесса производства полупроводниковых приборов и интегральных схем. Формула изобретени  Способ определени  профил  концентрации примеси в полупроводниках, заключающийс  в подаче на образец полупроводника напр жени  смещени , освещении его модулированным световым потоком и регистрации переменного напр жени  конденсаторной ЭДС, отличающийс  тем, что, с целью повышени  точности измерений, образец полупроводника одновременно освещают двум  потоками с частотами ff и f и регистрируют переменное напр жение с комбинационными частотами Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1. Патент США № 3518545, кл. 324-158, 30.06.70,
  2. 2. Авторское свидетельство СССР №442398, кл. G 01 R 31/26, 05.09.74.
SU772530757A 1977-07-18 1977-07-18 Способ определени профил концентрациипРиМЕСи B пОлупРОВОдНиКАХ SU689423A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU772530757A SU689423A1 (ru) 1977-07-18 1977-07-18 Способ определени профил концентрациипРиМЕСи B пОлупРОВОдНиКАХ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU772530757A SU689423A1 (ru) 1977-07-18 1977-07-18 Способ определени профил концентрациипРиМЕСи B пОлупРОВОдНиКАХ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU689423A1 true SU689423A1 (ru) 1981-08-07

Family

ID=20727618

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU772530757A SU689423A1 (ru) 1977-07-18 1977-07-18 Способ определени профил концентрациипРиМЕСи B пОлупРОВОдНиКАХ

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU689423A1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Ambridge et al. An automatic carrier concentration profile plotter using an electrochemical technique
US3528749A (en) Apparatus for measuring optical density
US4973910A (en) Surface potential analyzer
US4393348A (en) Method and apparatus for determining minority carrier diffusion length in semiconductors
JPH08316276A (ja) 電荷測定装置
SU689423A1 (ru) Способ определени профил концентрациипРиМЕСи B пОлупРОВОдНиКАХ
UST102104I4 (en) Scanning optical system adapted for linewidth measurement in semiconductor devices
SU658507A1 (ru) Устройство дл определени концентрации примесей в полупроводниках
SU1425431A1 (ru) Вихретоковый толщиномер
RU2101720C1 (ru) Способ измерения падения напряжения на полупроводнике в мдпдм-структуре и устройство для его осуществления
Forward et al. An automatic CV plotter
SU362263A1 (ru) Всесоюзная '
Nakhmanson et al. Measurements on MIS structures at infrasonic frequencies
SU430338A1 (ru) Устройство для измерения электрическихпараметров полупроводниковыхматериалов
Buchheim et al. Application of the Kelvin method for oxide charge evaluation in Si SiO2 structures
SU1179232A1 (ru) Устройство дл измерени параметров МДП-структур
SU1441336A1 (ru) Устройство дл контрол качества контактов радиоэлектронной аппаратуры
SU1092417A2 (ru) Оптико-электронный трансформатор напр жени
SU922532A1 (ru) Устройство дл измерени температуры
JP3732594B2 (ja) 電圧波形測定装置
Goodman Improvements in method and apparatus for determining minority carrier diffusion length
SU147377A1 (ru) Способ измерени функции распределени и плотности веро тности случайной электрической величины и устройство по этому способу
SU674121A1 (ru) Способ исследовани распределений магнитных микрополей
SU365585A1 (ru) Установка для измерения спектрального коэффициента излучения материалов при высоких
JPH05183036A (ja) C−v特性の測定方法