SU636579A1 - Фотографический материал - Google Patents

Description

Изобретение относитс  к фотографическим материалам, про вление которых осуществл етс  в растворах физических про вителей . Такие фотографические материалы могут быть использованы, например, дл  изготовлени  фотошаблонов с высоким разрешением дл  полупроводниковой промышленности . Известен фотографический материал, про вл емый физическим про вителем, состо щий из термостойкой подложки и светочувствительного сло  из прозрачной пленки двуокиси Титана I. Активирование светочувствительного сло  известного материала к УФ-свету осуществл ют путем прогрева материала в - атмосфере, содержащей кислород, при 400- 900°С. Про вление центров скрытого изображени  (СИ), образующихс  в фотографическом материале при его экспонировании , осуществл ют в растворах серебр ных физических про вителей. К недостаткам известного фотографического материала следует отнести, во-первых, необходимость использовани  термостойких подложек, выдерживающих нагрев до 400- 900°С. что делает невозможным использование в качестве подложек прозрачных полимерных пленок, и, во-вторых, применение дл  про влени  центров СИ растворов только серебр ных физических про вителей. Наиболее близким по технической сущности к предложенному материалу  вл етс  известный фотографический материал, про вл емый бессеребр ным физическим про вителем , состо щий из подложки и светочувствительного сло  - двуокиси титана, диспергированной в полимерном св зующем (2J. В качестве подложки в известном материале могут быть использованы полимерные пленки, например лавсан, или бумага. Недостатком известного материала  вл етс  его низка  разрешающа  способность, обычно не превыщающа  100-150 лин/мм, обусловленна  использованием в качестве светочувствительного соединени  порошка двуокиси титана. Вследствие того, что такой материал  вл етс  малопрозрачным, он  вл етс  материалом однократного использовани  - он примен етс  только дл  получени  на нем конечного изображени  и

не может быть использован, например, в качестве фотошаблона в фотолитографии.

Целью изобретени   вл етс  повышение разрентющей способности матер11ала и цикличности его использовани .

Поставленна  цель достигаетс  те.м, что в фотографическом .материале, про вл емом физическим бессеребр ным про вителем, сое то щем из подложки и светочувствительного сло  на основе титансодержащего фотополупроводника , светочувствительный слой выполнен из гидроокиеи титана и материал дополнительно имеет на светочувствительном слое слой из водопроницаемого полимера , например поливинилового спирта |ПВ().

Предложенный материал имеет повышеннуюразрешающую способность ( 1000 лин/мм), высокий контраст изображени  и повьпиенное количество циклов его использовани  (например, в качестве фотоиикз .юиа).

В соответствии -с изобретением дл  получени  с,1о  гидроокиси титана на поверхности подложки используют известные способы . В частности прозрачный слой гидроокиси титана может быть иолучен путем нанесеш1  на подложку титанорганически.х соединений, мапри.мер алкоксисоединений, подвергаюш,ихс  гидролизу в контакте с влагой воздуха при незнач11тельном на1февании (до 100-150°С). Дл  усилени  процесса гидролиза слой титанорганическбго соедине1ш  можно обрабатывать в парах или в водиом растворе аммиака. Наилучшие резульгаты иолучают при нанесении на подложку с.по  из раствора полибутплтитаната в третичном бутиловом спирте с последующи.м прогревом на воздухе при 100°С в течение 20-60 мин и обработкой в парах аммиака.

Активированиесветочувствительно1о

сло  предложенного материала к УФ-свету провод т путем покрыти  сло  гидроокиси титана слоем водопроницаемого полимерного .материала, например ПВС толщиной 0,1 - 3 мкм, н прогрева фотосло  нри 100°С в течение 5-20 мин.

В качестве подложки могут быть испо.1ьзованы любые полимерные .материалы (лавсан , триацетатна  основа и др.), бумага, стекло, кварц и др., выдерживающие нагрев до 100-150°С.

Пример 1. Дл  получени  прозрачного сло  гидроокиси титана толщиной 50- 1500 .4 на стекл нную пластинку нанос т 2-3 мл 0,5-15%-ного раствора нолибутилтитаната в третичном бути.ловом спирте, избыток раствора удал ют вращением нри 2000 об/мин в течение 2-3 с и высушивают при 100°С в течение 30 мин. По аналогичной .методике на сформированный слой гидроокиси титана нанос т слой ПВС толщиной 0,15-3 мкм, использу  3-10%-ный водный раствор, и полученный материал прогревают при 100°С в течение 5- -10 мин.

Фотослой экспонируют полным ClieKT|U)M

ртутно-кварцевой лампы ПРК-2 на расгм) нии 25 см. Врем  экспонировани  через трафарет 3-20 с, через фотои аблон (стекло

К-8) 20-90 с. Лосле экспонировани  фото5 слой про вл ют в медном физическом про вителе состава, г/л:

А. CuSQ, - 5Н О 35 Сегпетова 120 NaOnГ,0

Триэтаноламин -I

Б. 30%-ный водный раствор СП; О. А и Б берут в соотношении 8:1. Температура про влени  20°С, врем  про влени  10 мин. Получают негативное изо5 бражение фотошаблона или трафарета.

Пример 2. Услови  приготовлени  и экспонировани  фотослол остаютс  без изменений . После экспонировани  фотослой обрабатывают в растворе,содержащем, г/л; PdCla 2, 8-10, NaOn 10-15, в течение мин, после чего промывают водой и про вл ют в одном из растворов, содержащем , г/л:

1. NiCl.-enaO45

СбНцОг50

5NaHoPO - ПаО 180

до рН 8,3-8,6 2.A.CuSOvJH2O 100 Глицерин100

NaOH100

ОП-70,03

Температура про влени  20-25°С,врем  про влени  15 мин

Б.30 /о-ный водный раствор СП О А:Б 20:1

Температура про влени  20°С, врем  про  влени  5

По.Пчают негативное никелевое или медное изображение с

Омакс 4, Dgy -О

.Пример 3. Дл  получени  фотографического материала используют лавсановую пленку . Слой гидроокиси титана толшиной 50-

1500 А формируют из тех же растворов, что и в примере 1, путем полива или окунани . Дл  активировани  сло  гидроокиси титана к УФ-свету на его поверхность после прогрева при 100°С в течение 30 мин нанос т слой ПВС, с желатином тол НАИНОЙ 0,5-

1,5 мкм (дл  получени  такого с.ю  используют водный раствор ПВС - же.латкн с весовым соотношением 1:20 - 100).

Про вл ют фотослой после экспонировани  УФ-светом (как в примере 1) в серебр ном физическом про вителе:

А. 5%-ный раствор AgNOj Б. Метол 5 г/л А:Б 1:5Лимонна  кис

.та 20 г/л

Температура про влени  20°С, врем  про влени  5 мин. Получают негативное изображение с , D) 0,05.

Прозрачность фотоматериала в видимоГ области спектра до и после фотогр;к|)ической обработки обычно не ниже прозрачности самой подложки. Разрешаюп1а  способность составл ет более 1000 лин/.м.м, что позвол ет испо.1ьзовать предлагае.мый фотоматериал в качестве фотошаблона 6 фотолитографии .

Claims (2)

1.Патент СШ.А ДЬ 3409429, кл. 96-27, 1968.

2.Патент СШ.Л Л 3630743, кл. 96-88. 1971.