SU582335A1

SU582335A1 - Matrix for electrolytic deposition of metals

Info

Publication number: SU582335A1
Application number: SU7602390484A
Authority: SU
Inventors: Владимир Иванович Дернейко; Римма Алексеевна Пономарева; Владимир Александрович Магель; Михаил Исаакович Городецкий; Петр Алексеевич Александров; Алексей Егорович Чечушков; Геннадий Антонович Кузнецов; Александр Николаевич Кадачигов; Эдуард Иосифович Слабы; Николай Калистратович Пивоваров; Эммануил Абрамович Симкин
Original assignee: Dernejko Vladimir; Ponomareva Rimma A; Magel Vladimir A; Gorodetskij Mikhail; Aleksandrov Petr A; Chechushkov Aleksej E; Kuznetsov Gennadij A; Kadachigov Aleksandr N; Slaby Eduard; Pivovarov Nikolaj K; Simkin Emmanuil A
Priority date: 1976-07-20
Filing date: 1976-07-20
Publication date: 1977-11-30

Description

1one

Изо бретение относитс к области цветной металлургии, IB ча-стности к устрайствам дл электролитического осаждени металлов.The invention relates to the field of non-ferrous metallurgy, IB in particular, to devices for the electrolytic deposition of metals.

Известна мапгрица дл электролитического Осаждени металлов, включающа токоподвод щую штангу и металлический ли-ст с выступами ИЗ электроизол ционного материала .The known matrix for electrolytic Deposition of metals, including a current-carrying rod and a metal sheet with protrusions FROM an electrically insulating material.

Однако така матрица не удерживает катодный осадок В€сом от 3€ до 100 жт по следующи-м причинам: так ка-к изол тор не проводит ток, электрическое поле возле него ослаблено , поэтому в окрестности изол тора отлагаетс заостренный осадок с минимальной толщиной опорной «РОМКИ, котора «е может надежно удержать т желовесный катод на сферическом изол торе, в результате при выгрузке происходит соскальзывание осадка и срез изол тора; при выгрузке матриц из электролита и посадке их в электролитические ванны, происходит резка перемена темпер атуры и среды, следствием чего вл ет1с быстрое старение и потер прочности изол тора; четырехкратное различие в объемном расширении изол торов и металлического листа матрицы приводит к образованию щелей между листом .и изол торами, в которые прорастает катодный осадок, в результате при выгрузке и съеме осадков происходит выламывание изол торов.However, such a matrix does not hold a cathode deposit in € som from € 3 to $ 100 for the following reasons: since the insulator does not conduct a current, the electric field is weakened near it, therefore a sharp deposit is deposited in the vicinity of the insulator with a minimum thickness of “FILMS, which“ e can reliably hold a human cathode on a spherical insulator, as a result of which the sediment slides off and the insulator is cut off during unloading; when unloading the matrices from the electrolyte and planting them in the electrolytic baths, the temperature and environment change sharply, resulting in rapid aging and loss of strength of the insulator; The fourfold difference in the bulk expansion of the insulators and the metal sheet of the matrix leads to the formation of gaps between the sheet and the insulators into which the cathode sediment sprouts, as a result of which the insulators break out during unloading and removal of sediments.

Цель изобретени - исключение сползани катодного осадка с листа.The purpose of the invention is to prevent the cathode sediment from slipping from the sheet.

Это достигаетс тем, что выступы выполнены из электропроводного материала и в верхней части с гранью, плоскость которой перпендикул рна плоскости листа, и параллельна оси щтанги.This is achieved by the fact that the protrusions are made of electrically conductive material and in the upper part with a face, the plane of which is perpendicular to the plane of the sheet, and parallel to the axis of the shaft.

На фиг. 1 изображена матрица, общий вид; на фиг. 2 - то же, вид 1с5оку.FIG. 1 shows a matrix, a general view; in fig. 2 - the same, 1s5oku view.

Матрица состоит из металлического листа 1, изготовленного из кислотостойкого материала , имеюшего плотную защитную окисную пленку, например из титана. Она снабл ена т око провод щей щтангой 2, изолирующей трубко/й 3, выполненной из диэлектрического материала, и выступом 4, выполненным из электропроводного материала, например из титана, толщиной от 2 до 30 мм. При этом плоскость верхней грани выступа перпендикул рна плоскости листа и лар аллельна щтанге , а основание выступа имеет уширение 5.The matrix consists of a metal sheet 1 made of an acid-resistant material that has a dense protective oxide film, such as titanium. It is equipped with a conductive pin 2, an insulating tube 3, made of a dielectric material, and a protrusion 4 made of an electrically conductive material, for example titanium, with a thickness of 2 to 30 mm. At the same time, the plane of the upper face of the protrusion is perpendicular to the plane of the sheet and the lar is the allele shtange, and the base of the protrusion has a broadening 5.

Предлагаемое выполнение выступа способствует формированию в районе выступа электрического пол , обеспечивающего отложение осадка в виде клина, опирающегос на плоскость верхней грани выступа, и создает услови дл устойчивого расположени осадка на выступе.The proposed implementation of the protrusion contributes to the formation in the area of the protrusion of the electric field, which provides sediment deposition in the form of a wedge resting on the plane of the upper face of the protrusion, and creates conditions for a stable location of the sediment on the protrusion.

Ущирение основани выступа равномерно распредел ет силовые линии электрическогоThe broadening of the protrusion base evenly distributes the electric power lines.

пол , в результате чего происходит плавный охват отлагающимс металопом боковых и нижних граней, что облегчает съем осадка без деформации выступа.the floor, resulting in a smooth coverage of the lateral and lower faces that are deposited by the metallope, which facilitates removal of the sediment without deforming the protrusion.

Диапазон разме|рО|В вы.ступа вызван тем, что при их толщине (по нормали к листу) менее 2 мм осадок ненадежно удерживаетс «а плоскости верхней грани.The spacing range | рО | В выст protrusion is caused by the fact that, with their thickness (normal to the sheet) less than 2 mm, the sediment is not reliably held in the plane of the upper face.

При толщине выступа более 30 мм поле резко мен етс , создава услови дл роста на торце выступа дендрита, замыкающего электроды.When the protrusion is thicker than 30 mm, the field changes dramatically, creating conditions for growth at the end of the protrusion of the dendrite, which closes the electrodes.

Матрицу устанавливают в абычный промышленный электролизер в качестве катода и процесс электроосаждени меди ведут до тех пор, пока вес осадков на каждой из плоскостей матрицы достигнет 30-100 кг. При этом выступы 4 преп тствуют сползанию осадков. Осадки легко снимаютс с матричного листа и получаютс плотными, монолитными. Одна из поверхностей каждого такого осадка, прилегающа -к полированной плоскости матрицы , представл ет собсуй (ровную блест щую плоскость.The matrix is installed in an ordinary industrial electrolyzer as a cathode and the copper electrodeposition process is carried out until the weight of the precipitates on each of the matrix planes reaches 30-100 kg. At the same time, protrusions 4 prevent precipitation from sliding down. The precipitates are easily removed from the matrix sheet and are dense, monolithic. One of the surfaces of each such sediment, adjacent to the polished plane of the matrix, is its own (a flat shiny plane.

Как показали промышленные опыты, применение предлагаемой конструкции матрицыAs shown by industrial experiments, the application of the proposed design of the matrix

IB качестве катода Обеспечивает: получение электролитической меди высокого качества, удовлетвор ющей требовани м электронновакуумной промышленности и производства бескислородно-й меди; отсутствие расслоени меди при прокате; приближение ее плотности к плотности литого металла; исключение из технологии электролиза меди сложноГО и трудоемкого процесса изготовлени катодных основ, упрощение отмывки катодов из-за отсутстви контактных ушей.IB as a cathode. It provides: production of high quality electrolytic copper that meets the requirements of the electron-vacuum industry and the production of oxygen-free copper; the absence of copper stratification during rolling; approximation of its density to the density of the cast metal; exclusion from copper electrolysis technology of a complex and time-consuming process for the manufacture of cathode bases, simplifying the washing of cathodes due to the lack of contact ears.

Claims

Invention Formula

A matrix for the electrolytic deposition of metals, including a current-carrying shtanga and a metal sheet with protrusions, characterized in that, in order to avoid creeping of the cathode sediment from the sheet, the projections are made of electrically conductive material and in their upper part with a facet, the plane of which is perpendicular to the sheet plane and parallel to the axis of the rod.

Sources of information taken into account in the examination

I. USSR Copyright Certificate No. 209769, cl. from 25C 7/02, 1966.

fi / e. /