SU57971A1

SU57971A1 - The method of manufacture of interference plates

Info

Publication number: SU57971A1
Application number: SU574A
Authority: SU
Inventors: В.В. Балаков
Original assignee: В.В. Балаков
Priority date: 1939-07-15
Filing date: 1939-07-15
Publication date: 1939-11-30

Description

В р де случаев встречаетс не:обходимость изготовлени прозрачных пластинок , создающих определенную разность хода между различными част ми пучка лучей, проход щего через такие пластинки: в астрономических ирубах - при измерении утл:овых рассто ний между двойными звездами, в микроскопах - при. измерении диа метров капель микроскопических размеров , Б различных ийтерфером1етрах - при работе полутеневыМ методом и т.д.In a number of cases, the following are not encountered: the manufacture of transparent plates that create a certain path difference between different parts of a beam of rays that passes through such plates: in astronomical irubes, when measuring the fragile distances between double stars, in microscopes — at. measurements of droplet diameters of microscopic sizes, B of various Iferfer 1 systems - with the use of the penumbra method, etc.

Известные методы изготовлени таких пластинок довольно сложны н требуют большого труда дл дос гижени нужной толщины и однортдности . К 3TMiM методам относитс нанесение на стекл нную плоскую полированную поверхность сло какого-либо прозрачного вещества распылением его в вакууме или серебрение с последующим переводом металлического серебра х,имическим гопособом в хлористое серебро, НЛи же протравливание желатинового сло , различные части которого предва)рительно в различной степени задублкваютс .The known methods of making such records are rather complicated and require great effort to achieve the required thickness and single-sidedness. 3TMiM methods include applying a transparent glass onto a flat polished surface of a layer by spraying it in vacuum or silvering, followed by transferring metallic silver x, by an impesive method to silver chloride, or by etching the gelatin layer, various parts of which are preliminary in different grades zadublkuyuts.

Такие пленки обладают весьма существенным недостатком: они недостаточно устойчивы как в отношенииSuch films have a very significant drawback: they are not sufficiently stable as regards

механических, так 1и в отношении химических воздействий и быстро могут портитьс .both mechanical and chemical effects can quickly deteriorate.

Предлагаемый метод позвол ет быстро и легко .изготовл ть интерференционные пластинки непосредственно вытравливанием полированной плоскости поверхности стекла слабым раствором плавиковой кислоты на заранее заданную глубину с точностью до сотых долей длины световой волны. Пластинки при этом получаютс совершенно прозрачными, и не требуют обращени с ними более осторожного, чем с обычными плоскопараллельными стекл нными пластинками. Глубина вытравливани хорошо контролируетс длительностью обработки поверхности кислотой и линейно от нее зависит .The proposed method makes it possible to quickly and easily manufacture interference plates by directly etching the polished plane of the glass surface with a weak solution of hydrofluoric acid to a predetermined depth with an accuracy of hundredths of a light wavelength. The plates are thus completely transparent, and do not require handling them more carefully than with conventional plane-parallel glass plates. The depth of etching is well controlled by the duration of acid treatment of the surface and depends linearly on it.

Предмет изобретени .The subject matter of the invention.

Способ изготовлени интерференционных пластинок, отличающийс тем,, что интерференционные прО1межутки получают на поверхности стекл нных пластинок в местах, не защищенных покрытием, путем вытравливани их слабым раствором плавиковой кислоты , причем глубину промежутка контролируют временем травлени .A method of manufacturing interference plates, characterized in that interference interference is obtained on the surface of glass plates in places not protected by the coating by etching them with a weak solution of hydrofluoric acid, the depth of the gap being controlled by the time of etching.