SU579241A1 - Glass - Google Patents
GlassInfo
- Publication number
- SU579241A1 SU579241A1 SU7602370141A SU2370141A SU579241A1 SU 579241 A1 SU579241 A1 SU 579241A1 SU 7602370141 A SU7602370141 A SU 7602370141A SU 2370141 A SU2370141 A SU 2370141A SU 579241 A1 SU579241 A1 SU 579241A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- glass
- glasses
- vacuum
- thermal expansion
- silicon
- Prior art date
Links
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Description
Изобретение относитс к стеклам с низким коэффициентом термического расширени , способным образовывать тонкие пленки на кремнии и других полупроводниковых материалах, испол зуемых в радиоэлектронной и радиотехнической промышленности.. Известно стекло, включающее SiOj 49-51; АЕ, 23-25; Ма-0-3,54 ,5; ZnO-$-lO,; СаО 7-8; В, О. 55 ,5; Со0; ,2,5-3, 5,; l . Указанное стекло не обладает достаточно низким коэффициентом тер мического расширени и не способно образовывать тонких пленок при распылении в вакууме. Цель изобретени - понижение коэф циента термического расьчирени стекл и получение из него тонких пленок н кремнии при термическом распылении в вакууме. Это достигаетс тем, что стекло имеет следующий состав (по синтезу), Бес.%: SiO - 35-60; - 5-25; Mg-0 - 5-l1; Zli О - 1526; СаО - 0,5-6; SrO- 0,5-6; ВсхО 0 ,5-6. Стекло вар т в электрической печи в корундовых тигл х при ьиксимальных температурах - 1340-1450 0. Стекла размалывают в шаровой мельнице и полученные после рассева фракции порошка стекла 200-300 мкм и ниже 63 мкм используют дл нанесени на деталь методом вакуумного термического распылени и методом плазменного напылени . Пример iqpcTaBOB стекол приведен в табл. 1. Таблица 1The invention relates to glasses with a low thermal expansion coefficient capable of forming thin films on silicon and other semiconductor materials used in the electronic and radio engineering industries. Glass including SiOj 49-51; AE, 23-25; Ma-0-3,54, 5; ZnO - $ - lO ;; CaO 7-8; B, O. 55, 5; Co0; 2.5-3, 5 ,; l. This glass does not have a sufficiently low thermal expansion coefficient and is not capable of forming thin films when sprayed in vacuum. The purpose of the invention is to reduce the coefficient of thermal degradation of glass and to obtain from it thin films of n silicon during thermal spraying in a vacuum. This is achieved by the fact that glass has the following composition (according to synthesis), Bes.%: SiO - 35-60; - 5-25; Mg-0 - 5-l1; Zli O - 1526; CaO - 0.5-6; SrO - 0.5-6; All 0, 5-6. The glass is cooked in an electric furnace in corundum crucibles at maximum temperatures of 1340-1450 0. The glasses are ground in a ball mill and the fraction of glass powder 200-300 µm obtained after sieving and below 63 µm is used for vacuum coating on the part using the method of vacuum thermal spraying and plasma spraying. An example of iqpcTaBOB glasses is given in Table. 1. Table 1
Физико-химические свойства составов стекол приведены в таблице 2, Таблица 2Physico-chemical properties of the compositions of the glasses are shown in table 2, table 2
Полученные стекла имеют р д преимуществ по сргшнению с известньми. Они обладают малыми коэффициентами термического расширени . Благодар отсутствию окиси бора и щелочных окислов они способны сохран ть свой при те1 1ИЧесксм распылении в вакууме и даже- 11ри плазменном напылении и давать также пленочные покры ти на кремнии и других полупроводниковых материалах. Стекла вл ютс бес1целочньа«и и имеют высокие диэлектрические свойства и хорошую химическую устойчивость к воде.The resulting glass has a number of advantages in terms of limestone. They have low thermal expansion coefficients. Due to the absence of boron oxide and alkaline oxides, they are able to retain their spontaneous sputtering in vacuum and even plasma spraying and also produce film coatings on silicon and other semiconductor materials. Glasses are integerless and have high dielectric properties and good chemical resistance to water.
изобретени the invention
....
Стекло включающее SiO Mg-Q ,ZnO , Со О, отличающееGlass comprising SiO Mg-Q, ZnO, Co O, distinguishing
с тем/ что, с целью понижени коэффициента термического расширени и получени пленочного покрыти на полупроводниковых материалах, преимущественно на кремнии, оно дополнительно содержит 5рО и ВаО при следующем соотношении между компонентами, вес.%:so that, in order to reduce the thermal expansion coefficient and obtain a film coating on semiconductor materials, mainly silicon, it additionally contains 5pO and BaO in the following ratio between components, wt.%:
35-60 35-60
SiO,SiO,
Ае,о, 5-25 Ae, oh, 5-25
Mg-O 5-17 2пО 15-26 Со О 0,5-6 SfO 0,5-6 ЬаО 0,5-6Mg-O 5-17 2pO 15-26 Co O 0.5-6 SfO 0.5-6 Lao 0.5-6
Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе:Sources of information taken into account in the examination:
1. Авторское свидетельство СССР 380599, кл. С 03 С 3/04, 1973.1. USSR author's certificate 380599, cl. From 03 On 3/04, 1973.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU7602370141A SU579241A1 (en) | 1976-06-07 | 1976-06-07 | Glass |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU7602370141A SU579241A1 (en) | 1976-06-07 | 1976-06-07 | Glass |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU579241A1 true SU579241A1 (en) | 1977-11-05 |
Family
ID=20664804
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU7602370141A SU579241A1 (en) | 1976-06-07 | 1976-06-07 | Glass |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU579241A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002030840A2 (en) | 2000-10-13 | 2002-04-18 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Glass member resistant to plasma corrosion |
-
1976
- 1976-06-07 SU SU7602370141A patent/SU579241A1/en active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002030840A2 (en) | 2000-10-13 | 2002-04-18 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Glass member resistant to plasma corrosion |
US7015163B2 (en) * | 2000-10-13 | 2006-03-21 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Glass member resistant to plasma corrosion |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0049041B1 (en) | Porcelain enamel frit | |
US4746578A (en) | Glaze compositions for ceramic substrates | |
US3540895A (en) | Process for the manufacture of a devitrified glass | |
JPS56145132A (en) | Glass composition | |
GB671785A (en) | Improvements in or relating to glass compositions | |
SU579241A1 (en) | Glass | |
JPS6049144B2 (en) | colored frit glass mixed glaze | |
US3307958A (en) | Ceramic material | |
JPWO2001090012A1 (en) | Glass composition and glass-forming material containing the composition | |
US3745032A (en) | Low expansion,multiband transmitting glass | |
JPS6236040A (en) | Low-melting point sealing glass | |
US3841883A (en) | Bi{11 O{11 {11 CONTAINING Pbo-Zno-B{11 O{11 {11 LOW TEMPERATURE SEALING GLASS | |
JPS6042246A (en) | Glass for substrate | |
JPS60118648A (en) | Glaze composition for ceramic base | |
JPS6055453B2 (en) | Glaze composition for alumina substrates | |
US3519446A (en) | Ceramic material | |
US3264122A (en) | Insulating coating compositions for electrical conductors | |
WO1999021803A3 (en) | Dielectric glasses for low dielectric loss, low temperature cofired ceramics with medium dielectric constants | |
US3005722A (en) | Glass composition | |
JP2002160937A (en) | Low temperature-meltable glass | |
JPS5614449A (en) | Binder glass composition for coating phosphor | |
JPS61186248A (en) | Glass ceramic | |
KR101431001B1 (en) | Eco-friendly dielectric glass containing Ta2O5 and its synthetic method | |
JPH01188443A (en) | Glaze composition for ceramic substrate | |
JPS6150890B2 (en) |