SU559127A1 - Dual beam photometer - Google Patents
Dual beam photometerInfo
- Publication number
- SU559127A1 SU559127A1 SU2178261A SU2178261A SU559127A1 SU 559127 A1 SU559127 A1 SU 559127A1 SU 2178261 A SU2178261 A SU 2178261A SU 2178261 A SU2178261 A SU 2178261A SU 559127 A1 SU559127 A1 SU 559127A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- reflector
- plane
- angle
- plate
- divider
- Prior art date
Links
Description
1one
Изобретение относитс к области оптических измерений, а более конкретно дл измерени коэффициентов пропускани раз- личных объектов посредством двух лучевых фотометров.The invention relates to the field of optical measurements, and more specifically for measuring the transmittance of various objects by means of two ray photometers.
Известны двухлучевые фотометры дл измерени коэффициентов пропускани различных объектов содержащие источник света , делитель светового пучка, отражающие зеркала, фотоприемник фотометрическийкЛи регистрирующее устройство.Two-beam photometers are known for measuring the transmittance of various objects containing a light source, a light beam divider, reflecting mirrors, a photodetector, a photometric device or a recording device.
Недостатком известного устройства вл етс низка точность.A disadvantage of the known device is low accuracy.
Известен двухлучевой фотометр, содержащий источник пол ризованного света, делитель светового пучка, отражатель, оптический клин диафрагмы, объектив, фотоприемник , индикатор нул .A two-beam photometer is known, which contains a source of polarized light, a light beam divider, a reflector, an optical aperture wedge, a lens, a photodetector, a zero indicator.
Недостатком известного фотометра вл етс его сложность и низка точность измерени малых коэффициентов пропускани .A disadvantage of the known photometer is its complexity and the low accuracy of measuring small transmittances.
Целью изобретени вл етс упрощение конструкции и повышение точности двухлучевого фотометра.The aim of the invention is to simplify the design and improve the accuracy of the two-beam photometer.
Это достигаетс тем, что делитель св&тового пучка выполнен в виде ппоскопараллельной пластины и образует с отражателем двугранный угол, ребро которого со&- падает с осью вращени основани , на котором жестко установлены делитель в от ра ттель, причем одна вз диа4чрагм жестко св зана с отражателем.This is achieved by the fact that the divider of the beam of a beam is made in the form of a parallel-sided plate and forms a dihedral angle with the reflector, the edge of which with & falls to the axis of rotation of the base on which the divider is rigidly mounted on the body, and one of them is rigidly connected to the reflector .
На чертеже изображена схема /двухлу- чевого фотометра.The drawing shows a diagram / two-beam photometer.
Фотометр состоит из источника пол ризационного излучени , например оптического квантового генератора 1, помещенных последовательно по ходу луча пол ризатора 2 плоскопараллельной пластины 3 с отражателем 4, закрепленных на основании 5, причем отражатель установлен на пути отраженного от пластины луча, диаф рагм 6, измерительного устройства 7, состо щего из собирающей просветленной линзы 8, фотоприемника 9, механического прерывател 1О, установленного перед фотоприемником, и индикатора нул 11. Измер емый образец 12 помещен после ппоскопараллельной пластины 3 соосно с лучом, гфошедшим лпоскопа шлельную пластину. Одна из диафрагм в -жестко св зана с плоскопараллельной пластиной 3. Фотометр работает следующим обрааом ,; Излучение источника 1 после прохождени пол ризатора 2 падает на плоскопараллельную пластину 3, котора выполн ет рол калиброванного расщепител луча. Прошедшвй луч, пройд измер емый образец, попадает через линзу на фотоприемник. Отражен на от плоскрпаралдельной пластины часть луча падает на от жатель 4. Пластина и отражатель жестко укреплены на основании 5. Прошедший луч вл етс измеритель ным, а отраженный - эталонным. Эталонный и измерительные лучи, пройд диафрагмы 6 попадают на измерительное устройство 7. Измер емый образец помещаетс на пути измерительного луча. Основание 5 выполнено с возмоа остью ловорота в плоскости падени эталонного и измерительного лучей . При повороте основани 5 мен етс угол падени лучей на плоскопараллельную Пластову н отражатель, что в соответствии с формулами 4 енкел измен ет интенсивности прошедаиего и отраженного лучей. Измерение пропускани на фотометре пр изводитс следующим образом. В измерительном луче устанавливаетс измер емый образец 12 и, враща основание 5, которое снабжено механизмом отсчета угла, добиваютс равенства интенсивностей обоих лучей. При этом выполн етс следующееThe photometer consists of a source of polarization radiation, for example, an optical quantum generator 1, placed successively along the beam of a polarizer 2 of a plane-parallel plate 3 with a reflector 4 mounted on a base 5, the reflector installed in the path of the beam reflected from the plate, diaphragm 6, a measuring device 7, consisting of a collecting bright lens 8, a photodetector 9, a mechanical chopper 1O installed in front of the photoreceiver, and a zero indicator 11. Measurement sample 12 is placed after the phoscope llelnoy plate 3 coaxially with the beam gfoshedshim lposkopa shlelnuyu plate. One of the diaphragms is rigidly connected to the plane-parallel plate 3. The photometer works as follows; The radiation from source 1 after passing through polarizer 2 is incident on a plane-parallel plate 3, which serves as a calibrated beam splitter. The passing beam, the measured sample, passes through the lens to the photodetector. The part of the beam that is reflected on the flat-plate is incident on the reflector 4. The plate and the reflector are rigidly fixed on the base 5. The transmitted beam is the measuring beam and the reflected beam is the reference one. The reference and measuring beams passing through the diaphragm 6 fall onto the measuring device 7. The measuring sample is placed in the path of the measuring beam. Base 5 is made with the possibility of a turning point in the plane of incidence of the reference and measuring rays. When the base 5 is rotated, the angle of incidence of the rays on the plane-parallel layer and the reflector changes, which, in accordance with Formula 4, Enkel changes the intensities of the transmitted and reflected rays. The measurement of the transmittance on the photometer is as follows. In the measuring beam, a measurable sample 12 is installed and, by rotating the base 5, which is equipped with an angle reading mechanism, the equal intensities of the two beams are achieved. The following is done.
,./-«п.. ,./-"P..
отр- о ,denied
где 3 -интенсивность падающего света, .- коэффициенты отражени по интенсивности от пластин и отражател соответственно .where 3 is the intensity of the incident light, the intensity coefficients of reflection from the plates and the reflector, respectively.
Из формулы I определ ют коэффициент From formula I, the coefficient is determined
пл отрпропускани .otpropuskan pl.
тt
II .)Ii.)
При измерении малых коэффициентов пропускани выгоднее использовать диэлектрический отражатель, например, из кристаллического кварца. Тогда коэффициент пропускани , в соответствии с формулой II слабо зависит от угла поворота основани 5, при этом снижаютс требовани к точности поворота основани и расходимостиWhen measuring low transmittances, it is more advantageous to use a dielectric reflector, for example, of crystalline quartz. Then the transmittance, in accordance with formula II, is only slightly dependent on the angle of rotation of the base 5, while the requirements on the accuracy of base rotation and the divergence decrease.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU2178261A SU559127A1 (en) | 1975-10-03 | 1975-10-03 | Dual beam photometer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU2178261A SU559127A1 (en) | 1975-10-03 | 1975-10-03 | Dual beam photometer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU559127A1 true SU559127A1 (en) | 1977-05-25 |
Family
ID=20633613
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU2178261A SU559127A1 (en) | 1975-10-03 | 1975-10-03 | Dual beam photometer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU559127A1 (en) |
-
1975
- 1975-10-03 SU SU2178261A patent/SU559127A1/en active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109115690A (en) | Real-time polarization sensitive terahertz time-domain ellipsometer and optical constant measuring method | |
CN108548658A (en) | A kind of method of monofilm optical element stress and optical loss measurement simultaneously | |
US4329055A (en) | Interferometer apparatus for measuring the wavelengths of optical radiation | |
US3449051A (en) | Differential optical system and optical elements therefor | |
Newman et al. | An Efficient, Convenient Polarizer for Infra‐Red Radiation | |
US2189270A (en) | Photometer construction | |
CN208847653U (en) | Real-time polarization sensitive terahertz time-domain ellipsometer | |
SU559127A1 (en) | Dual beam photometer | |
CN106404695B (en) | Spectrophotometer | |
US2471249A (en) | Photometric apparatus and spectrophotometer using polarized light and a multiple retardation plate | |
JPS5483853A (en) | Measuring device | |
SU1695145A1 (en) | Ellipsometer | |
SU1727105A1 (en) | Autocollimation device | |
SU1383108A1 (en) | Spectrophotometer | |
JPH11101739A (en) | Ellipsometry apparatus | |
US2413660A (en) | Flickering beam spectrophotometer | |
SU789686A1 (en) | Density meter | |
US2471248A (en) | Photometric apparatus and spectrophotometer using polarized light and an optically active plate | |
SU872973A1 (en) | Photometer for measuring optical surface reflection factor | |
RU2109256C1 (en) | Method of determination of coefficient of light linear polarization in reflection and device intended for its realization | |
SU823989A1 (en) | Device for measuring absolute reflection and transmission factors | |
SU836764A1 (en) | Device for quality control of crystalline lenses | |
SU1268948A1 (en) | Device for checking angular parameters of plane-parallel plates | |
SU1668922A1 (en) | Determining transmission coefficient of objective | |
SU807166A1 (en) | Method of determining reflective index |