SU468084A1 - X-ray coating thickness measurement method - Google Patents
X-ray coating thickness measurement methodInfo
- Publication number
- SU468084A1 SU468084A1 SU1645960A SU1645960A SU468084A1 SU 468084 A1 SU468084 A1 SU 468084A1 SU 1645960 A SU1645960 A SU 1645960A SU 1645960 A SU1645960 A SU 1645960A SU 468084 A1 SU468084 A1 SU 468084A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- measurement method
- coating thickness
- thickness measurement
- substrate
- thickness
- Prior art date
Links
Description
1one
Изобретение относитс к контрольно-из- мерительной технике и может быть использовано при измерении толщины покрытий.The invention relates to a control and measurement technique and can be used when measuring the thickness of coatings.
Известны способы измерени толщины покрытий за счет регистрации ослаблени Methods are known for measuring the thickness of coatings by detecting the attenuation
одной спектральной линии характеристичес- кого рентгеновского излучени .one spectral line of characteristic x-ray radiation.
Однако известные способы требуют высокой стабилизации ускор ющего электроны напр жени , необходимости проведени не- скольких измерений при определении толщины покрыти в одной точке.However, the known methods require a high stabilization of the accelerating voltage electrons, the need for several measurements when determining the thickness of the coating at one point.
Цель изобретени - повысить точность измерени .The purpose of the invention is to improve the measurement accuracy.
Это достигаетс тем, что дополнительно измер ют величину интенсивности другой спектральной линии характеристического излучени элемента и по отношению измеренных величин суд т о толшиие покрыти . I Этот способ позвол ет получить больщую точность определени толщины тонких пок4 рытий, пригоден дл любых сочетаний материалов покрыти и подложки, дает возможность производить непрерывное измерение толщины покрытий.This is achieved by additionally measuring the intensity value of another spectral line of the characteristic radiation of the element and judging the measured thickness against the measured values. I This method allows us to obtain greater accuracy in determining the thickness of thin coatings, is suitable for any combination of coating materials and substrate, and makes it possible to perform continuous measurement of the thickness of coatings.
На чертеже изображена схема устройства , осуществл ющего предлагаемый способ.The drawing shows a diagram of the device implementing the proposed method.
Устройство содержит источник 1 электронов , возбуждающих характеристическое излучение подложки, покрытие 2, подложку 3 детектор 4 рентгеновского излучени .The device contains a source of electrons 1, exciting the characteristic radiation of the substrate, the coating 2, the substrate 3 of the detector 4 x-rays.
Способ осуществл етс следующим образом .The method is carried out as follows.
Возбуждение характеристического излучени подложки осуществл етс рентгеновским излучением или пучком электронов. Вторичное излучение, прощедщее покрытие, попадает на детектор рентгеновского излучеии , который регистрирует отношение иитенсивностей двух спектральных линийхарактеристического излучени подложки, возбуждаемых одновременно и в одном и том же месте подложки.The excitation of the characteristic radiation of the substrate is carried out by X-ray radiation or by an electron beam. The secondary radiation, the blanket coating, falls on an X-ray detector, which records the ratio of the intensities of the two spectral lines of the characteristic radiation of the substrate, excited simultaneously and at the same location of the substrate.
Отнощение интенсивностей двух спеклрал ных линий характеристического излучени подложки пропорционально толщине покрыти . Выбранные спектральные линии могут принадлежать одному или различР1ым элементам , вход щим в состав подложки.The ratio of the intensities of two speckle lines of the characteristic radiation of the substrate is proportional to the thickness of the coating. Selected spectral lines may belong to one or different P1 elements included in the substrate.
Предмет изобретени Subject invention
Рент1веновский способ измерени толишны покрытий на подложке путем измерени величины интенсивности одной спектральной линии характеристического излучени эле- ,Rent-Vena method of measuring the thickness of coatings on a substrate by measuring the intensity value of one spectral line of the characteristic radiation of electrons,
мента, отличающийс тем, что, с целью повышени точности измерени у дополнительно измер ют величину интенсивности другой спектральной линии характеристического излучени элемента и по отношению измеренных величин суд т о толщине покрыти .This method is characterized in that, in order to increase the measurement accuracy, the intensity of another spectral line of the characteristic radiation of the element is additionally measured and the thickness of the coating is judged by the ratio of the measured values.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU1645960A SU468084A1 (en) | 1971-04-12 | 1971-04-12 | X-ray coating thickness measurement method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU1645960A SU468084A1 (en) | 1971-04-12 | 1971-04-12 | X-ray coating thickness measurement method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU468084A1 true SU468084A1 (en) | 1975-04-25 |
Family
ID=20472181
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU1645960A SU468084A1 (en) | 1971-04-12 | 1971-04-12 | X-ray coating thickness measurement method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU468084A1 (en) |
-
1971
- 1971-04-12 SU SU1645960A patent/SU468084A1/en active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Steinmann | Experimental verification of radiation of plasma oscillations in thin silver films | |
US2503165A (en) | Photometric apparatus for quantitative spectroanalysis | |
US2897371A (en) | Spectroscopy | |
Williams | Relative intensities and transition probabilities of the K-series lines of the elements 24 to 52 by the ionization chamber method | |
US2469206A (en) | X-ray absorption photometer | |
US2642537A (en) | Apparatus for determining coating thickness | |
US4377869A (en) | Procedure for measuring coating rates | |
US3562525A (en) | X-ray fludrescence gauging employing a single x-ray source and a reference sample for comparative measurements | |
JP3079389B2 (en) | Equipment for measuring the iron content of zinc layers | |
US2521772A (en) | Method of determining the thickness of a metal coating on a metal base | |
SU468084A1 (en) | X-ray coating thickness measurement method | |
DuMond et al. | A Determination of h e from the Short Wave-Length Limit of the Continuous X-Ray Spectrum | |
JP3333940B2 (en) | Apparatus and method for calibrating apparatus for measuring layer thickness using X-rays | |
US2846589A (en) | Apparatus for determining the thickness of zinc coating on a ferrous metal base | |
SE7711809L (en) | PROCEDURE FOR META WEIGHTS | |
SU1375953A1 (en) | Method of checking surface of roughness | |
SU1265475A1 (en) | Method of measuring thickness of coatings | |
SU968712A1 (en) | Method of measuring mechanic stress | |
SU446005A1 (en) | Device for measuring focal spot coordinates | |
RU555811C (en) | Digital roentgeneluoroscent device | |
SU1485327A1 (en) | Method of determining electron diffusion length in semiconductor | |
SU450099A1 (en) | The method of x-ray fluorescence analysis | |
SU552544A1 (en) | Method for fluorescence x-ray analysis | |
SU1732189A1 (en) | Temperature determining method | |
SU1532810A1 (en) | Method of determining surface roughness |