SU425979A1

SU425979A1 - METHOD OF ELECTROCHEMICAL DEPOSITION OF TUNGSTEN

Info

Publication number: SU425979A1
Application number: SU1438644A
Authority: SU
Original assignee: А. Т. Васько, В. П. Шатурска В. В. Тоболич , И. Е. Семенченко Институт общей , неорганической химии Украинской ССР
Priority date: 1970-05-25
Filing date: 1970-05-25
Publication date: 1974-04-30

Description

1one

Изобретение относитс к области гальванических покрытий, в частности к электрохимическому осаждению вольфрама.The invention relates to the field of electroplating, in particular to the electrochemical deposition of tungsten.

Известен способ электрохимического осаждени вольфрама из электролита, содержащего вольфрамовокислый натрий и борную кислоту .The known method of electrochemical deposition of tungsten from an electrolyte containing sodium tungstate and boric acid.

Предлагаемый способ отличаетс от известного тем, что с целью улучшени качества покрыти в электролит ввод т перекись водорода и сульфат аммони при следующем соотношении компонентов, г/л: ВольфрамовокислыйThe proposed method differs from the well-known one in order to improve the quality of the coating, hydrogen peroxide and ammonium sulfate are introduced into the electrolyte in the following ratio of components, g / l:

5-305-30

натрийsodium

Перекись водорода (30%) Hydrogen peroxide (30%)

3-10 (мл/л) Сернокислый аммоний 100-150 Борна кислота 20-50 и процесс ведут при рН 0,5-10, температуре 20-70°С, катодной плотности тока 0,1- 1000 а/дм2.3-10 (ml / l) Ammonium sulphate 100-150 Boric acid 20-50 and the process is carried out at a pH of 0.5-10, a temperature of 20-70 ° C, a cathode current density of 0.1-1000 a / dm2.

Пример. На предварительно обезжиренный и промытый стальной, медный, латунный или никелевый образец наноситс осадок из электролита следующего состава, г/л: Вольфрамовокислый натрий 10 Перекись водорода (30%)5 (мл/л)Example. A pre-degreased and washed steel, copper, brass or nickel sample is deposited from an electrolyte of the following composition, g / l: Sodium tungstic acid 10 Hydrogen peroxide (30%) 5 (ml / l)

Сульфат аммони 150Ammonium sulfate 150

Борна кислота50Borna acid50

Температура 70°С, катодна плотность тока 800 а/дм, рН 1,5. Анод платиновый.Temperature 70 ° С, cathode current density 800 a / dm, pH 1.5. Platinum anode.

Получен плотный, хорошо сцепленный с подложкой окисел толщиной 1,5 мк. Образец отожжен в атмосфере водорода при 950°С в течение 2 час.A dense oxide of 1.5 microns thick, well adhered to the substrate, was obtained. The sample is annealed in a hydrogen atmosphere at 950 ° C for 2 hours.

Предмет изобретени Subject invention

Способ электрохимического осаждени вольфрама из электролита, содержащего вольфрамовокислый натрий и борную кислоту, отличающийс тем, что, с целью улучшени качества покрыти , в электролит ввод т сернокислый аммоний и перекись водорода при следующем соотношении компонентов , г/л:The method of electrochemical deposition of tungsten from an electrolyte containing sodium tungstate and boric acid, characterized in that, in order to improve the quality of the coating, ammonium sulphate and hydrogen peroxide are introduced into the electrolyte in the following ratio of components, g / l:

ВольфрамовокислыйTungsten

натрий5-30sodium 5-30

Перекись водорода (30%) 3-10 (мл/л) Сернокислый аммоний 100-150 Борна кислота20-50Hydrogen peroxide (30%) 3-10 (ml / l) Ammonium sulphate 100-150 Borna acid 20-50

и процесс ведут при рН 0,5-10, 20-70С, катодной плотности тока 0,1-1000 а/дмand the process is carried out at a pH of 0.5-10, 20-70С, cathode current density of 0.1-1000 a / dm