SU417961A3 - - Google Patents

Info

Publication number
SU417961A3
SU417961A3 SU1491108A SU1491108A SU417961A3 SU 417961 A3 SU417961 A3 SU 417961A3 SU 1491108 A SU1491108 A SU 1491108A SU 1491108 A SU1491108 A SU 1491108A SU 417961 A3 SU417961 A3 SU 417961A3
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
tellurium
layer
mol
selenium
photosensitive
Prior art date
Application number
SU1491108A
Other languages
Russian (ru)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Application granted granted Critical
Publication of SU417961A3 publication Critical patent/SU417961A3/ru

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/14Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
    • G03G5/147Cover layers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/005Materials for treating the recording members, e.g. for cleaning, reactivating, polishing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/024Photoelectret layers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/043Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure
    • G03G5/0433Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure all layers being inorganic
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/08Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
    • G03G5/082Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
    • G03G5/08207Selenium-based

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Description

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНОГО МАТЕРИАЛАMETHOD OF OBTAINING A PHOTO-SENSITIVE MATERIAL

1one

Изобретение относитс  к способу изготовлени  фоточувствительиого электрографического материала.This invention relates to a method for making photosensitive electrographic material.

Известен способ изготовлени  фоточувс1вительного электрофотографического материала, заключающий в образовании на подложке фотопроводникового сло  (иапример, из аморфного селена), фоточувствительного, задерживающего зар ды сло , обладающего свойством устойчивой внутренней пол ризации, и изол ционного сло  на одной стороне фоточувствительного .A known method of making a photosensitive electrophotographic material involves forming a photoconductor layer (eg, from amorphous selenium), a photosensitive, charge-retarding layer with a stable internal polarization, and an insulating layer on one side of the photosensitive material on the substrate.

Однако таким способом трудно изготовл ть материал, способный к эффективной задержке зар дов и улучщенной фоточувствительностью , так как материалы с большим числом уровней задержки зар дов, примен емые дл  образовани  фотопроводникового сло , имеют низкую фоточувствительность.However, in this way, it is difficult to manufacture a material capable of effective charge retention and improved photosensitivity, since materials with a large number of charge retention levels used to form the photoconductor layer have low photosensitivity.

Целью предлагаемого изобретени   вл етс  изготовление фоточувствительного материала дл  электрофотографии, обладающего высокой степенью задержки зар дов и высокой фоточувствительностью.The aim of the present invention is to produce a photosensitive electrophotographic material having a high degree of charge retention and high photosensitivity.

Согласно изобретению, фоточувствительный материал, имеющий высокую чувствительность , изготовл ют образованием на подложке фотопроводникового сло  осаждением паров сплава селен - теллур, содержащего 40 мол.% теллура, образованием фоточувствительного задерживающего зар ды сло , обладающего свойством устойчивой внутренней 1юл рпзации между фотопроводниковым и изол ционным сло ми одновременным осаждением паров сплава селен - теллур, содержащего 16 мол.% теллура, и сплава селеп - теллур , содержащего 40 мол.% теллура, и последующим образованием сло  с высокими изол ционны .ми сво11ствамп на одной стороне фоточувствительпого сло .According to the invention, a photosensitive material having a high sensitivity is made by forming a photoconductor layer on the substrate by vapor deposition of a selenium-tellurium alloy containing 40 mol.% Tellurium, forming a photosensitive charge inhibiting layer having a stable internal disposition property between the photoconductor and insulating layer. by simultaneous deposition of vapors of the selenium – tellurium alloy containing 16 mol.% tellurium and the selep – tellurium alloy containing 40 mol.% tellurium, and the subsequent formation aniem layer with high insulating .mi svo11stvamp on one side fotochuvstvitelpogo layer.

На фиг. 1 показано строение фоточувствительпого материала насто щего изобретени ; на фиг. 2 дан график зависимости интенсивиости скрытого изображени  от величины экснозиции .FIG. Figure 1 shows the structure of the photosensitive material of the present invention; in fig. Figure 2 shows a graph of the intensity of the latent image as a function of the magnitude.

Как показано на фиг. 1, фоточувствительный материал содержит нодложку 1, котора  может быть металлической или из диэлектрика , фоточувствительный слой 2, который может быть получен нз известных высокочувствительных фотопроводниковых материалов, слой 3, полученный осаждением смеси паров материала с высокой степенью задержки зар дов, и изол ционный слой 4, которые расположены в указанном на рисунке пор дке и св заны в единую структуру.As shown in FIG. 1, the photosensitive material contains a substrate 1, which can be metallic or dielectric, a photosensitive layer 2, which can be obtained from known highly sensitive photoconductor materials, layer 3, obtained by depositing a mixture of material vapors with a high degree of charge retention, and an insulating layer 4 which are arranged in the order indicated in the figure and are connected in a single structure.

Пример i. Дл  осаждени  паров используют резервуар со множеством раздельпых и нагреваемых лодочек. Сплав селена п теллура (порошок), содержащий 40 мол.% теллура и используемый в качестве высокочувствительного материала, помещают в многие одинаковые лодочки, и сплав селепа и теллура, содержащий 16 мол.% теллура и используемый в качестве материала с высокой степенью задержки зар да, помещают в одну лодочку. Б испарителе располагают подложку из алюминиевого листа, после удалени  воздуха все лодочки, содержащие сплав селен - теллур с 40 мол.% теллура, за исключением одной, используют последовательно с определеппым интервалом времени дл  образовани  однородного сло , содержащего некоторое количество теллура независимо от разности давлений паров селена и теллура. Получают слой пз сплава селей - теллур толщиной 30 мк с содержанием теллура 40 мол.%. После этого оставщиес  две лодочки (лодочку со сплавом, содержащим 16 мол.% теллура, и лодочку со сплавом, содерл.ащим 40 мол.% теллура), используют одновременно дл  образовани  сло  3 толщиной 1 мк, содержащего материал с высокой фоточувствительпостью и материал с высокой степенью задержки зар дов, на осажденном слое из сплава селен - теллур. Зате.ч подложку вынпмают из аппарата и на поверхности сло  3 образуют изол ционный слой из поликарбоната толщиной 10 мк. Осаждение паров сплавов селен - теллур осуществл ют при величине вакуума выше мм рт. ст. При этом температуру в лодочках тн.ательно регулируют таким образом, чтобы осалсденне проходило со скоростью менее 0,1 мк/мин. С увеличением содержани  теллура в сплаве необходимо увеличить температуру лодочки.Example i. For vapor deposition, a tank with many split and heated boats is used. An alloy of selenium p tellurium (powder) containing 40 mol.% Tellurium and used as a highly sensitive material is placed in many identical boats, and an alloy of selep and tellurium containing 16 mol.% Tellurium and used as a material with a high degree of charge retention. placed in the same boat. In the evaporator, an aluminum sheet substrate is placed; after removing air, all boats containing an selenium-tellurium alloy with 40 mol.% Tellurium, except for one, are used successively with a defined time interval to form a uniform layer containing some tellurium regardless of the vapor pressure difference selenium and tellurium. Get a layer pz alloy mudflow - tellurium with a thickness of 30 microns with a tellurium content of 40 mol.%. After that, the remaining two boats (a boat with an alloy containing 16 mol.% Tellurium and a boat with an alloy containing 40 mol.% Tellurium) are used simultaneously to form a 1 micron layer 3 containing a material with high photosensitivity and a high degree of charge delay, on the deposited selenium – tellurium alloy layer. Then the substrate is taken out of the apparatus and an insulating layer of polycarbonate 10 microns thick is formed on the surface of layer 3. Deposition of the vapors of the selenium-tellurium alloys is carried out at a vacuum value above mm Hg. Art. At the same time, the temperature in the boats is regulated in such a way that the sediment does not pass at a speed of less than 0.1 micron / min. With an increase in the tellurium content in the alloy, it is necessary to increase the temperature of the boat.

Дл  зар дки поверхности изол ционного сло  4 (величина зар да - 2000 в) используют коронный разр д. Зар дку поверхнос1и изол ционного сло  зар дом противоположной пол рности осуществл ют одновременно с экспонированием изображени  в течение 0,2 сек (освещенность 2 люкс на освещенных участках) с целью образовани  скрытого изображени  на поверхности изол ционного сло , соответствующего экспонированному изображению и имеющего потенциал -100 в па участках, соответствующих темпым участкам экспонированного изображени , и потепциал + 200 в на участках, соответствующих освещенным участкам экспонированного изображени . Скрытое изображение про вл ют зар женным нро вл ющим порошком и затем печатают путем переноса. После переноса поверхность фоточувствительного материала очищают, оставшеес  скрытое изображение удал ют известным способом.To charge the surface of the insulating layer 4 (the charge is 2000 c), a corona discharge is used. The charging of the surface of the insulating layer by charging the opposite polarity is carried out simultaneously with the exposure of the image for 0.2 sec (illumination 2 lux on illuminated areas) in order to form a latent image on the surface of the insulating layer corresponding to the exposed image and having a potential of -100 in pa of areas corresponding to the tempo areas of the exposed image, and corresponding to the illuminated areas of the exposed image. The latent image is developed as a charged nucleus powder and then printed by transfer. After the transfer, the surface of the photosensitive material is cleaned, the remaining latent image is removed in a known manner.

На фиг. 2 показана зависимость между величиной экспозиции фоточувствительпого материала и интепсивностью скрытого изобрач ени . Крива  а показывает, что интепси15 (юсть скрытого изображени  достигает максимум при величине освещенности экспонируемого изобрал ;ени  примерно 3 люкс, и что дальнейшее увеличение освещенностп не приводит , к возрастанию интенсивностн скрытогоFIG. Figure 2 shows the relationship between the magnitude of the exposure of a photosensitive material and the inspiration of a latent image. The curve a shows that interpresi15 (the image of the latent image reaches a maximum when the illuminance of the exposed image is displayed; about 3 lux, and that a further increase in illumination does not lead to an increase in the intensity of the hidden

изображени .images.

Если слой 3 содержит только 16 мол.% теллура , то невозмолиш получить скрытое изображение сравнимой интенсивности без увеличении освещенности экспонируемого изображени  в несколько раз. С другой стороны, когда фоточувствительпый материал содержит фоточувствительный слой, сосю щий только из сплава селеп - теллур с содержанием теллура 40 мол.%, по не содержит фоточувствительного сло  из сплава с содержанием теллура 16 мол.%, разность в нанр жени х  рких и темных участков экспонированного изображени  мала и не может быть иснользована практически. Фоточувствительный слойIf layer 3 contains only 16 mol.% Tellurium, then it is impossible to get a latent image of comparable intensity without increasing the illuminance of the exposed image several times. On the other hand, when a photosensitive material contains a photosensitive layer, sucking only from a selep-tellurium alloy with a tellurium content of 40 mol.%, It does not contain a photosensitive layer from an alloy with a tellurium content of 16 mol.%, The difference in soft and dark The areas of the exposed image are small and cannot be practically used. Photosensitive layer

толщиной 1 мк, содерл ащий первый слой из сплава селен - теллур с содержанием 16 мол.% теллура и второй слой с содержанием 40 мол. % теллура, получеппый осаждением паров на новерхность нервого сло , и1 micron thick, containing the first layer of selenium-tellurium alloy containing 16 mol.% tellurium and the second layer containing 40 mol. % tellurium, obtained by vapor deposition on the surface of the nerve layer, and

фоточувствительный слой, содержащий первый слой из снлава селен - теллур с содержанием 40 .мол.% теллура и второй слой с содержанием 16 мол.% теллура, осажденный на одну новерхность нервого сло  до толщиныphotosensitive layer containing the first layer from the snlav selenium - tellurium containing 40. mol.% tellurium and the second layer containing 16 mol.% tellurium deposited on one surface of the nerve layer to the thickness

сло  1 мк, образуют скрытые изображени  с более низкой и 1тенсивностью, чем описанные выше слои. Более того, чувствительность последпего фоточувствителыюго материала низка и такой материал не может быть использова практически. Топкий осажденный слой смеси, имеющий толщину около 1 мк, показывает хорошие характеристики, потому что такой фоточувствительный материал, как сплав селен - теллур, обладает очень высокой способностью к поглощению света. Почти все световые лучи поглощаютс  в поверхностном слое, так что свободные носители зар дов , возбужденные поглощещп ьм светом, легко перемещаютс  па более далекое рассто ние . В св зи с этим толщину сло  3 смеси необходимо устанавливать в зависимости от степени поглощени  света.a layer of 1 micron forms latent images with a lower and 1 intensity than the layers described above. Moreover, the sensitivity of the photosensitive material is low and such material cannot be used practically. A blunt precipitated layer of the mixture, having a thickness of about 1 micron, shows good characteristics, because such a photosensitive material, such as selenium-tellurium, has a very high ability to absorb light. Almost all the light rays are absorbed in the surface layer, so that free charge carriers excited by the absorbed light move easily over a longer distance. Therefore, the thickness of the mixture layer 3 needs to be set depending on the degree of absorption of light.

Кроме того, увеличение интенсивности полученного скрытого изображени  можно достичьIn addition, an increase in the intensity of the resulting latent image can be achieved

облегчением перепоса носителей зар дов между частицами двух различных фоточувствительных материалов в смеси. Это может быть достигнуто термической обработкой.facilitating transfer of charge carriers between particles of two different photosensitive materials in a mixture. This can be achieved by heat treatment.

Пример 2. Фоточувствительный материал,Example 2. Photosensitive material

изготовленный по примеру 1, подвергают термической обработке на воздухе при 65°С в течение 3 час. Скрытое изображение получают как в примере 1. Как показывает крива  б (см. фиг. 2), чувствительность скрытого изобралсени  увеличиваетс  в 1,7 раза и по вл етс  возможность улучнтени  репродукции промелсуточных тонов.manufactured according to example 1, is subjected to heat treatment in air at 65 ° C for 3 hours. The latent image is obtained as in Example 1. As curve B (see FIG. 2) shows, the sensitivity of the latent image increases 1.7 times and it becomes possible to improve the reproduction of day tones.

Термическа  обработка понижает барьерный эффект, существующий между частицамиThermal treatment lowers the barrier effect that exists between particles.

различных фоточувствптельных материалов.various photosensitive materials.

таким образом, способству  более легкомупереносу носителей зар дов. Следовательно, характеристики частиц двух различных материалов про вл ютс  эффективно. Установлено , что воздействие термической обработки более эффективно с увеличением различи  характеристик двух фоточувствительных материалов .thus contributing to more light carrier transfer. Therefore, the particle characteristics of two different materials are effective. It is established that the effect of heat treatment is more effective with increasing differences in the characteristics of the two photosensitive materials.

П f) с д .м с т н зебре т е и и  P f) with d. M with t n zebra and e and

1. Способ получени  фоточувствительпого материала путем нанесени  на подложку фотопроводникового сло , фоточувствительного, задерживающего зар ды сло , обладающего1. A method for producing a photosensitive material by depositing a photoconductor layer on the substrate, a photosensitive, charge-retarding layer having

,г Л Mr. L

.- Г- r«.f-П-.. ,. ,3te:c; .- Г- r «.f-П- ..,. , 3te: c;

. ,. ,

риг./rig /

II

1Ш )1Sh)

,,§, Ш/7.,, §, Ш / 7.

II

Claims (2)

II IJIj дd Ш5 j tiШ5 j ti 4four иand 2U о о,г 1 л i 5 ,//-о о, g 1 l i 5, // - внутренне пол ризацией, и изол ционного сло  с высокими изол ционными свойствами, отличающийс  тем, что, с целью повышени  фоточувствительности материала, нанесение на подлол.ку фотопроводникового сло  ведут осаждением паров сплава селен - теллур , содержаи1,его 40 мол.% последнего, а задерживающего зар ды - путем одповременного осаждени  на полученный материал паров сплава селен--теллур, содержащего 16 мол.% последнего, и наров сплава селен - теллур, содержащего 40 ,;ол.% теллура.internally polarized, and an insulating layer with high insulating properties, characterized in that, in order to increase the photosensitivity of the material, deposition of a photoconductor layer on the substrate is deposited from the selenium-tellurium alloy vapor, 1 its 40 mol% of the latter, and delayed charges - by simultaneous deposition of selenium – tellurium alloy vapor vapors on the material obtained, containing 16 mol.% of the latter, and selenium – tellurium alloy vapor containing 40,; ol.% tellurium. 2. Способ по п. 1, отличаю щ и и с   тем, что полученный в нрон,ессе материал нагревают нри темнературе 65°С не ,3 час.2. The method according to p. 1, I distinguish it with the fact that the material obtained in the nron, ese, the material is heated at a temperature of 65 ° C, 3 hours ,, а.but.
SU1491108A 1969-10-29 1970-10-28 SU417961A3 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8716469A JPS496231B1 (en) 1969-10-29 1969-10-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU417961A3 true SU417961A3 (en) 1974-02-28

Family

ID=13907331

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU1491108A SU417961A3 (en) 1969-10-29 1970-10-28

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPS496231B1 (en)
FR (1) FR2066654A5 (en)
GB (1) GB1290427A (en)
NL (1) NL162217C (en)
SU (1) SU417961A3 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
NL162217C (en) 1980-04-15
DE2052849B2 (en) 1975-01-09
FR2066654A5 (en) 1971-08-06
JPS496231B1 (en) 1974-02-13
NL7015833A (en) 1971-05-04
GB1290427A (en) 1972-09-27
NL162217B (en) 1979-11-15
DE2052849A1 (en) 1971-05-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6340311B2 (en)
CA1057998A (en) Dual-layered photoreceptor used in electrophotography
US3647427A (en) Germanium and silicon additives to dual-layer electrophotographic plates
CA1075068A (en) Imaging system
US3903107A (en) Direct alpha to X phase conversion of metal containing phthalocyanine
SU417961A3 (en)
US3775109A (en) Electrophotographic photosensitive plate
JPH0330853B2 (en)
US3709683A (en) Infrared sensitive image retention photoreceptor
GB1578960A (en) Electrophotographic imaging member and process
US3990894A (en) Method of preparing photosensitive element for use in electrophotography
JPS6064357A (en) Electrophotographic sensitive body made of selenium
US3849129A (en) ELECTROPHOTOGRAPHIC ELEMENT CONTAINING Se-Te ALLOY LAYERS
US3816116A (en) N-type photosensitive member for electrophotography
JPS61273550A (en) Recording material for xerography
SU1730608A1 (en) Method of producing xerographic material
JP2599950B2 (en) Photoconductor structure
JPH0217019B2 (en)
SU935865A1 (en) Electrophotographic material
SU957158A1 (en) Electrophotographic material production method
IL32250A (en) Electrophotography
JPS5870235A (en) Production for photoreceptor
US3684500A (en) Method of forming permanent electrostatic image with two-layered photoreceptor
SU510688A1 (en) The method of obtaining images on a thermoplastic carrier
SU1223191A1 (en) Electrophotographic material