SU415117A1 - Solder for soldering silicon - Google Patents

Solder for soldering silicon

Info

Publication number
SU415117A1
SU415117A1 SU1800041A SU1800041A SU415117A1 SU 415117 A1 SU415117 A1 SU 415117A1 SU 1800041 A SU1800041 A SU 1800041A SU 1800041 A SU1800041 A SU 1800041A SU 415117 A1 SU415117 A1 SU 415117A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
solder
copper
compound
silver
germanium
Prior art date
Application number
SU1800041A
Other languages
Russian (ru)
Original Assignee
О. П. Ксенофонгов
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by О. П. Ксенофонгов filed Critical О. П. Ксенофонгов
Priority to SU1800041A priority Critical patent/SU415117A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU415117A1 publication Critical patent/SU415117A1/en

Links

Description

1one

Изобретение относитс  к области пайки, в частности к составу припо  дл  пайки кремни .The invention relates to the field of soldering, in particular to the composition of silicon solder.

Известен припой дл  найки кремни  на основе серебра, содержащий 0,93-1,25% меди и 0,7-0,94% никел .Known solder for nike silicon-based silver containing 0.93-1.25% copper and 0.7-0.94% nickel.

Дл  повышени  качества па ного соединени  и снижени  температуры пайки, в состав припо  введен германий в количестве 0,1-5,0%, а остальные компоненты вз ты в следующем соотношеннн, %:To improve the quality of the solder joint and lower the brazing temperature, germanium was added to the solder in an amount of 0.1–5.0%, and the remaining components were taken in the following ratio,%:

никель0,1-2,0nickel 0.1-2.0

медь10,0-40,0copper 10,0-40,0

сереброостальное.silver ostal

Дл  придани  припою акцепторных или донорских свойств, в его состав может быть введен бор, галлнй или сурьма в количестве 0,1-3,0%.To give solder acceptor or donor properties, boron, gallium or antimony can be added to it in an amount of 0.1–3.0%.

Предлагаемый серебр но-медный припой способствует образованию контакта с кремнием (в вакууме 10 мм рт. ст., водороде или инертной атмосфере) при 600-750°С. В случае соединени  с вольфрамовой опорной пластиной достаточна толщина ирипо  30-40 мкм (независимо от толщины пластинки кремни ). Припой может быть иснользован и дл  металлизации кремни  путем вакуумного напылени  и последующего вплавлени  напыленного сло .The proposed silver-copper solder promotes the formation of contact with silicon (in a vacuum of 10 mmHg, hydrogen or an inert atmosphere) at 600–750 ° C. In the case of a joint with a tungsten base plate, a thickness of 30–40 microns is sufficient (regardless of the thickness of the silicon wafer). Solder can also be used to metallize silicon by vacuum sputtering and subsequent melting of the sprayed layer.

Примеры исполнени  припоев (%):Solder execution examples (%):

Claims (5)

1.иикел  0,5, германи  2,5, сурьмы 1,0, меди 2/.О, серебра 69,0; температура образовани  соединени  650°С;1. Si 0.5, germanium 2.5, antimony 1.0, copper 2 / .O, silver 69.0; compound formation temperature 650 ° C; 2.никел  0,9, германи  0,1, сурьмы 1,0, меди 28,0, серебра 70,0; температура образовани  соединени  700°С;2. nickel 0.9, germanium 0.1, antimony 1.0, copper 28.0, silver 70.0; compound formation temperature 700 ° C; 3.никел  1,0, германи  4,5, меди 29,5, серебра 65,0; температура образовани  соединени  600°С;3.Nickel 1.0, germanium 4.5, copper 29.5, silver 65.0; compound formation temperature 600 ° C; 4.никел  0,2, германи  0,8, меди 15,0, серебра 84,0, температура образовани  соединени  750°С;4.Nickel 0.2, germanium 0.8, copper 15.0, silver 84.0, compound formation temperature 750 ° C; 5.никел  0,5, германн  2,5, галли  1,0, меди 27,0, температура образоваии  соединени  700°С.5.Nice 0.5, Germann 2.5, Gallium 1.0, Copper 27.0, the formation temperature of the compound is 700 ° C. Если кремний соедин етс  с вольфрамовой опорной пластиной, требуетс  выдержка 20-30 мин и превышение температуры на 50°С.If silicon combines with a tungsten base plate, a holding time of 20-30 minutes and a temperature rise of 50 ° C is required. Структура па ного соединени  кремни  с вольфрамом у вышеперечисленных припоев (кроме № 3) однородна , без разрывов на соедии емой поверхности. Это пронсход1гг от того, что температура плавлени  у отмеченных припоев выше, чем температура эвтектики цриной-кремннй. Припой, остава сь в твердом состо нии, образует соединение с кремнием в точках касани .The structure of the solder compound of silicon with tungsten in the above-mentioned solders (except for number 3) is uniform, with no gaps on the surface of the compound. This is a triangle due to the fact that the melting temperature of the marked solders is higher than the temperature of the tsrina-silicon eutectic. Solder, remaining solid, forms a compound with silicon at the points of contact. Предмет изобретени Subject invention 1. Приной дл  пайки кремни , содержа3 шйй-йикелъ, медь, серебро, отличающийс  тем, что, с целью повышени  качества па ного соединени  и снижени  температуры пайки, в его состав введен германий, а компоненты вз ты в следующем соотношении, вес. %.Б никель 0,1-2,0 медь 10,0-40,0 4 германий 0,1-5-,0 серебро остальное, 2. Приггой по п. I, отличающийс  тем, что, с целью придани  припою акцептарлых или донорских: свойств, в его, состак может быть введем эггемент выбранный на грушш бор, галлий, сурьма в количестве ОД-3,0%.1. A solder pan for silicon, containing copper, copper, silver, characterized in that, in order to improve the quality of the solder joint and lower the solder temperature, germanium was introduced into its composition, and the components were taken in the following ratio, wt. % .B nickel 0.1-2.0 copper 10.0-40.0 4 germanium 0.1-5-, 0 silver the rest, 2. Weld according to claim I, characterized in that, in order to impart solder to the solder or donor: properties, in it, the stock can be entered by eggement selected for pear boron, gallium, antimony in the amount of OD-3.0%.
SU1800041A 1972-06-23 1972-06-23 Solder for soldering silicon SU415117A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU1800041A SU415117A1 (en) 1972-06-23 1972-06-23 Solder for soldering silicon

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU1800041A SU415117A1 (en) 1972-06-23 1972-06-23 Solder for soldering silicon

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU415117A1 true SU415117A1 (en) 1974-02-15

Family

ID=20518795

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU1800041A SU415117A1 (en) 1972-06-23 1972-06-23 Solder for soldering silicon

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU415117A1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4242134A (en) * 1979-06-25 1980-12-30 Gte Products Corporation Cadmium-free silver based brazing alloy
RU2564685C1 (en) * 2014-08-25 2015-10-10 Олег Петрович Ксенофонтов Heat fusion method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4242134A (en) * 1979-06-25 1980-12-30 Gte Products Corporation Cadmium-free silver based brazing alloy
RU2564685C1 (en) * 2014-08-25 2015-10-10 Олег Петрович Ксенофонтов Heat fusion method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2971251A (en) Semi-conductive device
US3050667A (en) Method for producing an electric semiconductor device of silicon
GB1159979A (en) Improvements in and relating to Methods of Electrically Connecting Objects
JPS57130441A (en) Integrated circuit device
US3316628A (en) Bonding of semiconductor devices to substrates
SU415117A1 (en) Solder for soldering silicon
US3273979A (en) Semiconductive devices
US3159462A (en) Semiconductor and secured metal base and method of making the same
CA2000838A1 (en) Method of soldering semiconductor substrate on supporting plate
US3000085A (en) Plating of sintered tungsten contacts
US3522087A (en) Semiconductor device contact layers
JP2002368293A (en) Thermoelectric module and method of manufacturing the same, thermoelectric device, and fiber projector
US3620692A (en) Mounting structure for high-power semiconductor devices
US3291578A (en) Metallized semiconductor support and mounting structure
US3391446A (en) Aluminum brazing
SU450673A1 (en) Solder for the soldering of knots of electrovacuum devices
US3166449A (en) Method of manufacturing semiconductor devices
SU484954A1 (en) Silicon Solder
US4110783A (en) Solder layer for a semi-conductor device consisting of at least one group V element, at least one rare element and aluminum
US3261725A (en) Device comprising a iii-v compound semiconductor body and at least one contact to said body
FR1457203A (en) Semiconductor manufacturing process
US3115694A (en) Method of producing a silicon semiconductor device
JP3670432B2 (en) Solder for thermoelectric cooling device
JP2668569B2 (en) Brazing material
KR930002525B1 (en) Solder