SU376826A1 - C P AND WITH A N AND E YOUR INVENTIONS - Google Patents

C P AND WITH A N AND E YOUR INVENTIONS

Info

Publication number
SU376826A1
SU376826A1 SU1634261A SU1634261A SU376826A1 SU 376826 A1 SU376826 A1 SU 376826A1 SU 1634261 A SU1634261 A SU 1634261A SU 1634261 A SU1634261 A SU 1634261A SU 376826 A1 SU376826 A1 SU 376826A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
cathode
film
conductive
edge
dielectric
Prior art date
Application number
SU1634261A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
В. Чесноков В.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to SU1634261A priority Critical patent/SU376826A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU376826A1 publication Critical patent/SU376826A1/en

Links

Landscapes

  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)

Description

1one

Изобретение относитс  к электронной технике .The invention relates to electronic engineering.

Известны автоэлектронньге катоды, эмиттирующей поверхностью которых служит удаленный от диэлектрической подложки торец провод щей пленки.Autoelectronic cathodes are known whose emitting surface is an end of a conducting film that is remote from a dielectric substrate.

Дл  снижени  рабочего напр жени  предлагаетс  под диэлектрической подложкой вблизи эмиттирующего торца катода располагать провод щую пленку.In order to reduce the operating voltage, a conductive film is placed under the dielectric substrate near the emitting end of the cathode.

Предлагаемый автоэлектронный катод изображен на чертеже, где: )-подложка, 2 - изолирующа  пленка, 3 - слой держател  катода , 4 - катодна  пленка, 5 - эмиттирующа  кромка катодной пленки, 6 - коллектор электронов , 7 - стартовый провод щий электрод. Стрелками показано направление движени  электронов.The proposed autoelectronic cathode is shown in the drawing, where: a) is a substrate, 2 is an insulating film, 3 is a cathode holder layer, 4 is a cathode film, 5 is an emitting edge of the cathode film, 6 is an electron collector, 7 is a starting conductive electrode. The arrows indicate the direction of movement of the electrons.

Подложка 1 катода может быть выполнена из провод щего или непровод щего материала , например стекла. Катодна  пленка имеет толщину, равную дес тым или сотым дол м микрона, и изготовл етс  из механически прочных провод щих материалов, например вольфрама , молибдена и т. д. Слой 3 держател  катода может быть выполнен из провод щего или диэлектрического материала, его толщина определ ет рассто ние от катодной пленки до пленки 2, материалом дл  которой  вл етс  диэлектрик, обладающий высокой электрической прочностью. Стартовый провод щий электрод 7 представл ет собой тонкую пленку из любого провод щего материала. Перед началом работы на стартовый электрод подают плюсом потенциал Uc относительно катодной пленки. В момент включени  потенциала Uc конденсатор, образованный пленками стартового и катодного электродов в качестве обкладок и изолирующей пленкой 2 вThe cathode substrate 1 may be made of a conductive or non-conductive material, for example glass. The cathode film has a thickness equal to tenths or hundredths of a micron, and is made of mechanically strong conductive materials, such as tungsten, molybdenum, etc. The layer 3 of the cathode holder can be made of conductive or dielectric material, its thickness is determined The distance from the cathode film to film 2, the material for which is a dielectric with high electrical strength. The starting conductive electrode 7 is a thin film of any conductive material. Before starting work, the potential Uc relative to the cathode film is fed to the starting electrode. At the moment when the potential Uc is turned on, a capacitor formed by films of the starting and cathode electrodes as plates and an insulating film 2 in

качестве диэлектрика, начнет зар жатьс . Напр женность пол  в изолирующей пленке 2 и 1вакуумном зазоре между этой пленкой и кромкой 5 катодной пленки распределитс  обратно пропорционально их диэлектрическим проницаемост м , т. е. напр лсенность пол  в зазоре между катодной пленкой и изолирующей пленкой 2 будет в 8 раз больше, чем в изолирующей пленке (е-относительна  диэлектрическа  проницаемость пленки 2).dielectric will begin to charge. The intensity of the field in the insulating film 2 and the 1 vacuum gap between this film and the edge 5 of the cathode film is distributed inversely proportional to their dielectric constant, i.e., the strength of the field in the gap between the cathode film and the insulating film 2 is 8 times greater than an insulating film (e is the relative dielectric constant of film 2).

При достаточной величине стартового напр жени  Uc -возникнет автоэлектронна  эмисси  электронов из кромки 5 катода. Эмиттированные электроны попадут на поверхность изолирующей пленки 2 с энергией, определ емой падением потенциала на вакуумном зазоре . Если коэффициент вторичной эмиссии поверхности пленки 2 больще 1, то число выбитых электронов превысит число попавших на эту поверхность,   поверхность получит дополнительный положительный зар д. ВыбитыеWith a sufficient starting voltage Uc, autoelectronic emission of electrons from the edge 5 of the cathode will arise. The emitted electrons fall on the surface of the insulating film 2 with the energy determined by the drop in potential at the vacuum gap. If the coefficient of secondary emission of the surface of the film 2 is greater than 1, then the number of electrons knocked out will exceed the number caught on this surface, the surface will receive an additional positive charge.

вторичные электроны попадут на коллектор 6. Дополнительный полонсительный зар д па поверхности пленки 2 вызовет увеличение напр женности пол  у кромки катода, что увеличит автоэлектронный ток и т. д. Процесс идет лавинообразно и прекратитс  тогда, когда потенциал поверхности изолирующей пленки 2 станет равным потенциалу коллектора L/K. Напр женность пол  у кромки катода (без учета усилени  пол  за счет краевого эффекта) окажетс  равной , где d - рассто ние между эмиттирующей кромкой и пленкой 2. Краевой эффект усилит поле соответственно «остроте кра  пленки. В момент, когда процесс лавинообразного нарастани  эмиттируемого тока прекратитс , эффективный, коэффициент вторичной эмиссии пленки 2 станет равным 1, т. е. количество электронов, эмиттированных катодом, уравн етс  с их числом, попадающим на коллектор. Материал диэлектрической пленки 2 должен иметь коэффициент вторичной эмиссии больше 1 при малых рабочих напр жени х, например окись магни  и другие окислы. Так как рассто ние d (равное толщине сло  держател  катода) может быть сделано очень малым, вплоть до сотни и меньше ангстрем, без опасности замыкани  «атода со стартовым электродом, напр женность у кромки катода может быть доведена до необходнмой величины пор дка -We/CM при рабочем напр жении 50 б и меньше.secondary electrons will reach the collector 6. An additional positive charge on the surface of the film 2 will increase the field intensity at the cathode edge, which will increase the autoelectronic current, etc. The process goes avalanche and stops when the surface potential of the insulating film 2 becomes equal to the collector potential L / K. The field strength at the cathode edge (without taking into account the field gain due to the edge effect) will be equal, where d is the distance between the emitting edge and the film 2. The edge effect will enhance the field corresponding to the sharpness of the film edge. At the moment when the process of the avalanche-like buildup of the emitted current stops, the effective secondary emission factor of film 2 becomes equal to 1, i.e. the number of electrons emitted by the cathode is equalized with their number falling on the collector. The material of the dielectric film 2 must have a secondary emission coefficient greater than 1 at low operating voltages, such as magnesium oxide and other oxides. Since the distance d (equal to the thickness of the cathode holder) can be made very small, up to a hundred or less angstroms, without the danger of closing the cathode with the starting electrode, the intensity at the edge of the cathode can be increased to the necessary order value CM with a working voltage of 50 b and less.

Способ изготовлени  нрибора тонкопленочный . Например, при одном варианте на всюThe method of manufacturing thin film nribor. For example, with one option for the whole

поверхность диэлектрической подложки 1 последовательно напыл ют в вакууме слои 7, 2, 3, 4, затем нанос т слой фоторезиста и с помощью фотолитографии вырезают окна или щели в верхнем слое 4, образу  эмиттирующие кромки 5.The surface of the dielectric substrate 1 is successively sprayed in layers of vacuum 7, 2, 3, 4, then a layer of photoresist is applied and using photolithography, windows or slits are cut in the upper layer 4 to form the emitting edges 5.

Следующа  операци  - вытравливание окон IB слое 3, причем в качестве резиста .используетс  катодна  пленка. ВытравливаниеThe next step is to etch the windows with IB layer 3, and a cathode film is used as the resist. Etching

продолжаетс  до небольшого подтравливани  под кромки катодной пленки. Материал сло  3 может быть любой, диэлектрический или провод щий; его целесообразно выбирать таким, чтобы при его вытравливании не происходилоlasts until a slight undercutting under the edges of the cathode film. The material of layer 3 can be either dielectric or conductive; it is advisable to choose it so that when it is etched does not occur

коррозии катода. Например, если материал катода- вольфрам, то в качестве материала сло  5 можно выбрать молибден.corrosion of the cathode. For example, if the cathode material is tungsten, then molybdenum can be chosen as the material of layer 5.

Катод может быть применен как источник электронов вместо оксидного катода в электронных приборах типа ПУЛ, кинескопах, осциллографах и т. д.The cathode can be used as a source of electrons instead of an oxide cathode in electronic devices such as PUL, kinescopes, oscilloscopes, etc.

Предмет изобретени Subject invention

Автоэлектронный катод, эмиттирующий поверхностью которого служит удаленный от диэлектрической подложки торец провод щей пленки, отличающийс  тем, что, с целью уменьшени  рабочего напр жени  и повыщени  стабильности работы, под диэлектрической подложкой вблизи эмйттирующего торца катода расположена провод ща  пленка, подсоедин ема  к положительному полюсу источника напр жени .The autoelectronic cathode, the emitting surface of which is an end-to-end conductive film remote from the dielectric substrate, is characterized in that, in order to reduce the operating voltage and increase the stability of operation, a conductive film is placed under the dielectric substrate near the output end of the cathode tension

SU1634261A 1971-03-09 1971-03-09 C P AND WITH A N AND E YOUR INVENTIONS SU376826A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU1634261A SU376826A1 (en) 1971-03-09 1971-03-09 C P AND WITH A N AND E YOUR INVENTIONS

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU1634261A SU376826A1 (en) 1971-03-09 1971-03-09 C P AND WITH A N AND E YOUR INVENTIONS

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU376826A1 true SU376826A1 (en) 1973-04-05

Family

ID=20469014

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU1634261A SU376826A1 (en) 1971-03-09 1971-03-09 C P AND WITH A N AND E YOUR INVENTIONS

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU376826A1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4163172A (en) * 1977-07-08 1979-07-31 Systems, Science And Software Sliding spark source cold cathode electron gun and method
WO1998025287A1 (en) * 1996-02-29 1998-06-11 R-Amtech International, Inc. Electron source and method for making the same
US5818166A (en) * 1996-07-03 1998-10-06 Si Diamond Technology, Inc. Field emission device with edge emitter and method for making

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4163172A (en) * 1977-07-08 1979-07-31 Systems, Science And Software Sliding spark source cold cathode electron gun and method
WO1998025287A1 (en) * 1996-02-29 1998-06-11 R-Amtech International, Inc. Electron source and method for making the same
US5818166A (en) * 1996-07-03 1998-10-06 Si Diamond Technology, Inc. Field emission device with edge emitter and method for making

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3235172B2 (en) Field electron emission device
EP0150885B1 (en) Semiconductor device for producing an electron beam
US4370797A (en) Method of semiconductor device for generating electron beams
US4827177A (en) Field emission vacuum devices
US6441559B1 (en) Field emission display having an invisible spacer and method
JPH08111166A (en) Electron pulse emitting device and display device
US3840955A (en) Method for producing a field effect control device
US2411601A (en) Electronic discharge device
SU376826A1 (en) C P AND WITH A N AND E YOUR INVENTIONS
US3184659A (en) Tunnel cathode having a metal grid structure
US3986065A (en) Insulating nitride compounds as electron emitters
US3246200A (en) Cathode including photoconductive and tunneling layers
US2620287A (en) Secondary-electron-emitting surface
US4549194A (en) Light sensitive detector
US3036234A (en) Electron discharge devices employing secondary electron emission
US5680011A (en) Cold cathode density-modulated type electron gun and microwave tube using the same
US2213551A (en) Electron discharge device
US2147669A (en) Secondary electron emitting electrode
US4853754A (en) Semiconductor device having cold cathode
US2556864A (en) Coated grid for electron discharge tubes
US3902095A (en) Electron beam semiconductor amplifier with shielded diode junctions
JP3407289B2 (en) Electron emission device and driving method thereof
US2205055A (en) Electric discharge device
SU482827A1 (en) Electron emitter
US3580749A (en) Method and apparatus for selective etching of insulating layers