SU376826A1 - C P AND WITH A N AND E YOUR INVENTIONS - Google Patents
C P AND WITH A N AND E YOUR INVENTIONSInfo
- Publication number
- SU376826A1 SU376826A1 SU1634261A SU1634261A SU376826A1 SU 376826 A1 SU376826 A1 SU 376826A1 SU 1634261 A SU1634261 A SU 1634261A SU 1634261 A SU1634261 A SU 1634261A SU 376826 A1 SU376826 A1 SU 376826A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- cathode
- film
- conductive
- edge
- dielectric
- Prior art date
Links
Landscapes
- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
Description
1one
Изобретение относитс к электронной технике .The invention relates to electronic engineering.
Известны автоэлектронньге катоды, эмиттирующей поверхностью которых служит удаленный от диэлектрической подложки торец провод щей пленки.Autoelectronic cathodes are known whose emitting surface is an end of a conducting film that is remote from a dielectric substrate.
Дл снижени рабочего напр жени предлагаетс под диэлектрической подложкой вблизи эмиттирующего торца катода располагать провод щую пленку.In order to reduce the operating voltage, a conductive film is placed under the dielectric substrate near the emitting end of the cathode.
Предлагаемый автоэлектронный катод изображен на чертеже, где: )-подложка, 2 - изолирующа пленка, 3 - слой держател катода , 4 - катодна пленка, 5 - эмиттирующа кромка катодной пленки, 6 - коллектор электронов , 7 - стартовый провод щий электрод. Стрелками показано направление движени электронов.The proposed autoelectronic cathode is shown in the drawing, where: a) is a substrate, 2 is an insulating film, 3 is a cathode holder layer, 4 is a cathode film, 5 is an emitting edge of the cathode film, 6 is an electron collector, 7 is a starting conductive electrode. The arrows indicate the direction of movement of the electrons.
Подложка 1 катода может быть выполнена из провод щего или непровод щего материала , например стекла. Катодна пленка имеет толщину, равную дес тым или сотым дол м микрона, и изготовл етс из механически прочных провод щих материалов, например вольфрама , молибдена и т. д. Слой 3 держател катода может быть выполнен из провод щего или диэлектрического материала, его толщина определ ет рассто ние от катодной пленки до пленки 2, материалом дл которой вл етс диэлектрик, обладающий высокой электрической прочностью. Стартовый провод щий электрод 7 представл ет собой тонкую пленку из любого провод щего материала. Перед началом работы на стартовый электрод подают плюсом потенциал Uc относительно катодной пленки. В момент включени потенциала Uc конденсатор, образованный пленками стартового и катодного электродов в качестве обкладок и изолирующей пленкой 2 вThe cathode substrate 1 may be made of a conductive or non-conductive material, for example glass. The cathode film has a thickness equal to tenths or hundredths of a micron, and is made of mechanically strong conductive materials, such as tungsten, molybdenum, etc. The layer 3 of the cathode holder can be made of conductive or dielectric material, its thickness is determined The distance from the cathode film to film 2, the material for which is a dielectric with high electrical strength. The starting conductive electrode 7 is a thin film of any conductive material. Before starting work, the potential Uc relative to the cathode film is fed to the starting electrode. At the moment when the potential Uc is turned on, a capacitor formed by films of the starting and cathode electrodes as plates and an insulating film 2 in
качестве диэлектрика, начнет зар жатьс . Напр женность пол в изолирующей пленке 2 и 1вакуумном зазоре между этой пленкой и кромкой 5 катодной пленки распределитс обратно пропорционально их диэлектрическим проницаемост м , т. е. напр лсенность пол в зазоре между катодной пленкой и изолирующей пленкой 2 будет в 8 раз больше, чем в изолирующей пленке (е-относительна диэлектрическа проницаемость пленки 2).dielectric will begin to charge. The intensity of the field in the insulating film 2 and the 1 vacuum gap between this film and the edge 5 of the cathode film is distributed inversely proportional to their dielectric constant, i.e., the strength of the field in the gap between the cathode film and the insulating film 2 is 8 times greater than an insulating film (e is the relative dielectric constant of film 2).
При достаточной величине стартового напр жени Uc -возникнет автоэлектронна эмисси электронов из кромки 5 катода. Эмиттированные электроны попадут на поверхность изолирующей пленки 2 с энергией, определ емой падением потенциала на вакуумном зазоре . Если коэффициент вторичной эмиссии поверхности пленки 2 больще 1, то число выбитых электронов превысит число попавших на эту поверхность, поверхность получит дополнительный положительный зар д. ВыбитыеWith a sufficient starting voltage Uc, autoelectronic emission of electrons from the edge 5 of the cathode will arise. The emitted electrons fall on the surface of the insulating film 2 with the energy determined by the drop in potential at the vacuum gap. If the coefficient of secondary emission of the surface of the film 2 is greater than 1, then the number of electrons knocked out will exceed the number caught on this surface, the surface will receive an additional positive charge.
вторичные электроны попадут на коллектор 6. Дополнительный полонсительный зар д па поверхности пленки 2 вызовет увеличение напр женности пол у кромки катода, что увеличит автоэлектронный ток и т. д. Процесс идет лавинообразно и прекратитс тогда, когда потенциал поверхности изолирующей пленки 2 станет равным потенциалу коллектора L/K. Напр женность пол у кромки катода (без учета усилени пол за счет краевого эффекта) окажетс равной , где d - рассто ние между эмиттирующей кромкой и пленкой 2. Краевой эффект усилит поле соответственно «остроте кра пленки. В момент, когда процесс лавинообразного нарастани эмиттируемого тока прекратитс , эффективный, коэффициент вторичной эмиссии пленки 2 станет равным 1, т. е. количество электронов, эмиттированных катодом, уравн етс с их числом, попадающим на коллектор. Материал диэлектрической пленки 2 должен иметь коэффициент вторичной эмиссии больше 1 при малых рабочих напр жени х, например окись магни и другие окислы. Так как рассто ние d (равное толщине сло держател катода) может быть сделано очень малым, вплоть до сотни и меньше ангстрем, без опасности замыкани «атода со стартовым электродом, напр женность у кромки катода может быть доведена до необходнмой величины пор дка -We/CM при рабочем напр жении 50 б и меньше.secondary electrons will reach the collector 6. An additional positive charge on the surface of the film 2 will increase the field intensity at the cathode edge, which will increase the autoelectronic current, etc. The process goes avalanche and stops when the surface potential of the insulating film 2 becomes equal to the collector potential L / K. The field strength at the cathode edge (without taking into account the field gain due to the edge effect) will be equal, where d is the distance between the emitting edge and the film 2. The edge effect will enhance the field corresponding to the sharpness of the film edge. At the moment when the process of the avalanche-like buildup of the emitted current stops, the effective secondary emission factor of film 2 becomes equal to 1, i.e. the number of electrons emitted by the cathode is equalized with their number falling on the collector. The material of the dielectric film 2 must have a secondary emission coefficient greater than 1 at low operating voltages, such as magnesium oxide and other oxides. Since the distance d (equal to the thickness of the cathode holder) can be made very small, up to a hundred or less angstroms, without the danger of closing the cathode with the starting electrode, the intensity at the edge of the cathode can be increased to the necessary order value CM with a working voltage of 50 b and less.
Способ изготовлени нрибора тонкопленочный . Например, при одном варианте на всюThe method of manufacturing thin film nribor. For example, with one option for the whole
поверхность диэлектрической подложки 1 последовательно напыл ют в вакууме слои 7, 2, 3, 4, затем нанос т слой фоторезиста и с помощью фотолитографии вырезают окна или щели в верхнем слое 4, образу эмиттирующие кромки 5.The surface of the dielectric substrate 1 is successively sprayed in layers of vacuum 7, 2, 3, 4, then a layer of photoresist is applied and using photolithography, windows or slits are cut in the upper layer 4 to form the emitting edges 5.
Следующа операци - вытравливание окон IB слое 3, причем в качестве резиста .используетс катодна пленка. ВытравливаниеThe next step is to etch the windows with IB layer 3, and a cathode film is used as the resist. Etching
продолжаетс до небольшого подтравливани под кромки катодной пленки. Материал сло 3 может быть любой, диэлектрический или провод щий; его целесообразно выбирать таким, чтобы при его вытравливании не происходилоlasts until a slight undercutting under the edges of the cathode film. The material of layer 3 can be either dielectric or conductive; it is advisable to choose it so that when it is etched does not occur
коррозии катода. Например, если материал катода- вольфрам, то в качестве материала сло 5 можно выбрать молибден.corrosion of the cathode. For example, if the cathode material is tungsten, then molybdenum can be chosen as the material of layer 5.
Катод может быть применен как источник электронов вместо оксидного катода в электронных приборах типа ПУЛ, кинескопах, осциллографах и т. д.The cathode can be used as a source of electrons instead of an oxide cathode in electronic devices such as PUL, kinescopes, oscilloscopes, etc.
Предмет изобретени Subject invention
Автоэлектронный катод, эмиттирующий поверхностью которого служит удаленный от диэлектрической подложки торец провод щей пленки, отличающийс тем, что, с целью уменьшени рабочего напр жени и повыщени стабильности работы, под диэлектрической подложкой вблизи эмйттирующего торца катода расположена провод ща пленка, подсоедин ема к положительному полюсу источника напр жени .The autoelectronic cathode, the emitting surface of which is an end-to-end conductive film remote from the dielectric substrate, is characterized in that, in order to reduce the operating voltage and increase the stability of operation, a conductive film is placed under the dielectric substrate near the output end of the cathode tension
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU1634261A SU376826A1 (en) | 1971-03-09 | 1971-03-09 | C P AND WITH A N AND E YOUR INVENTIONS |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU1634261A SU376826A1 (en) | 1971-03-09 | 1971-03-09 | C P AND WITH A N AND E YOUR INVENTIONS |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU376826A1 true SU376826A1 (en) | 1973-04-05 |
Family
ID=20469014
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU1634261A SU376826A1 (en) | 1971-03-09 | 1971-03-09 | C P AND WITH A N AND E YOUR INVENTIONS |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU376826A1 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4163172A (en) * | 1977-07-08 | 1979-07-31 | Systems, Science And Software | Sliding spark source cold cathode electron gun and method |
WO1998025287A1 (en) * | 1996-02-29 | 1998-06-11 | R-Amtech International, Inc. | Electron source and method for making the same |
US5818166A (en) * | 1996-07-03 | 1998-10-06 | Si Diamond Technology, Inc. | Field emission device with edge emitter and method for making |
-
1971
- 1971-03-09 SU SU1634261A patent/SU376826A1/en active
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4163172A (en) * | 1977-07-08 | 1979-07-31 | Systems, Science And Software | Sliding spark source cold cathode electron gun and method |
WO1998025287A1 (en) * | 1996-02-29 | 1998-06-11 | R-Amtech International, Inc. | Electron source and method for making the same |
US5818166A (en) * | 1996-07-03 | 1998-10-06 | Si Diamond Technology, Inc. | Field emission device with edge emitter and method for making |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3235172B2 (en) | Field electron emission device | |
EP0150885B1 (en) | Semiconductor device for producing an electron beam | |
US4370797A (en) | Method of semiconductor device for generating electron beams | |
US4827177A (en) | Field emission vacuum devices | |
US6441559B1 (en) | Field emission display having an invisible spacer and method | |
JPH08111166A (en) | Electron pulse emitting device and display device | |
US3840955A (en) | Method for producing a field effect control device | |
US2411601A (en) | Electronic discharge device | |
SU376826A1 (en) | C P AND WITH A N AND E YOUR INVENTIONS | |
US3184659A (en) | Tunnel cathode having a metal grid structure | |
US3986065A (en) | Insulating nitride compounds as electron emitters | |
US3246200A (en) | Cathode including photoconductive and tunneling layers | |
US2620287A (en) | Secondary-electron-emitting surface | |
US4549194A (en) | Light sensitive detector | |
US3036234A (en) | Electron discharge devices employing secondary electron emission | |
US5680011A (en) | Cold cathode density-modulated type electron gun and microwave tube using the same | |
US2213551A (en) | Electron discharge device | |
US2147669A (en) | Secondary electron emitting electrode | |
US4853754A (en) | Semiconductor device having cold cathode | |
US2556864A (en) | Coated grid for electron discharge tubes | |
US3902095A (en) | Electron beam semiconductor amplifier with shielded diode junctions | |
JP3407289B2 (en) | Electron emission device and driving method thereof | |
US2205055A (en) | Electric discharge device | |
SU482827A1 (en) | Electron emitter | |
US3580749A (en) | Method and apparatus for selective etching of insulating layers |