SU339134A1 - Способ наращивани граней алмаза - Google Patents

Способ наращивани граней алмаза Download PDF

Info

Publication number
SU339134A1
SU339134A1 SU964957A SU964957A SU339134A1 SU 339134 A1 SU339134 A1 SU 339134A1 SU 964957 A SU964957 A SU 964957A SU 964957 A SU964957 A SU 964957A SU 339134 A1 SU339134 A1 SU 339134A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
diamond
building
conditions
diamond facets
face
Prior art date
Application number
SU964957A
Other languages
English (en)
Inventor
Б.В. Спицын
Б.В. Дерягин
Original Assignee
Институт Физической Химии
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт Физической Химии filed Critical Институт Физической Химии
Priority to SU964957A priority Critical patent/SU339134A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU339134A1 publication Critical patent/SU339134A1/ru

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

Изобретение относитс  к искусственному наращиванию граней алмаза. Известно, что наращивание кристаллов в метаотаб ильной форме возможно при исключении посторонних центров кристаллизации , в результате чего идет только наращивание затравки нестабильного крис талла, в то врем  как процесс образовани  устойчивых зародышей стабильной в данных услови х кристаллической модифи кации практически неразвиваетс . jBro; позвол ет наращивать с большой скорост нестабильные кристаллы весом около килограмма. Сущность предлагаемого способа состоит в том, что соединени  углерода 11О-120С СЗл, СВГл возгон ютс  при проход  через термостатииз ампулы и рованную (продуванием воздуха 125 С) трубку, попадает в виде потока молекул на грань кристалла алмаза, помещенного на нагреватель из танталовой ленты. Кристаллы представл ют собой плоскопараллельную пла-стину с размером 2, 2х1,5 мм, обращенную одной из наибольг-, ших граней к молекул рному потоку СЗ СВГл, в то врем  как противопапожна  грань находитс  в контеисте с танталовым нагревателем. Всю систетулу откачивают до вакуума мм рт. ст. В таких услови х при температуре алмазной затравки около 8ОО-10ОО С идет разложение СОд или CBf на элементы , протекающее преимущественно на грани кристалла алмаза, обращенной к ; молекул рному потоку СЗц. и . Продукты разложени  и неразложившиес  молекулы вымерзают на стенках реакционного сосуда, поскольку все части прибора наход тс  в сосуде с жидким азотом. Скорость поступлени  паров СДд или СВК-4 около 1 г/ч, продолжительность опыта 3ч. алмаза, обращенна  к потоку СЛ4 и СВГф, наблюдаема  при увеличении под микроскопом «.1ООО, обнаруживает кристаллическое строение попученного нароста. Величина образовавшихс  полупрозрачных кристалликов в отдельных случа х 5-7 мкм.
Твердость определ ют непосредственно на кристалле путем движени  по его поверхности конца оплавленной кварцевой палочки, при этом на последней образуетс  матова  фаска. При аналогичных, пробах на гран х без нароста образуютс  гладкие, а не матовые фаски.
Наблюдают катодолюминесценцию образовавшегос  осадка, возбуждаемую в высоком вакууме электронами с энергией 3000 эВ.
Электроны такой энергии, имеющие глубину проникновени  в дес тые доли микрона, направл ют под малым углом к наросшей грани.
При этом с помощью микроскопа по всей грани наблюдают одинаковую голубоватую катодолюминесценцию, характерную дл  алмаза. Графит в подобных УСЛОВИЯХ не люминесцирует.

Claims (1)

  1. Формула изобретени 
    Способ наращивани  граней алмаза в услови х его нестабильного состо ни  отличающийс  тем, что, с целью осуществлени  процесса роста, производ т подогрев грани до 80ОЮОО С и в услови х вакуума пор дка 3-4-10 мм рт. ст. к поверхности грааи направл ют пары легко разлагающегос  углеродсодержащего соединени , нап ример или С34
SU964957A 1956-07-10 1956-07-10 Способ наращивани граней алмаза SU339134A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU964957A SU339134A1 (ru) 1956-07-10 1956-07-10 Способ наращивани граней алмаза

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU964957A SU339134A1 (ru) 1956-07-10 1956-07-10 Способ наращивани граней алмаза

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU339134A1 true SU339134A1 (ru) 1980-05-12

Family

ID=20438339

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU964957A SU339134A1 (ru) 1956-07-10 1956-07-10 Способ наращивани граней алмаза

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU339134A1 (ru)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5071677A (en) * 1990-05-24 1991-12-10 Houston Advanced Research Center Halogen-assisted chemical vapor deposition of diamond
US5316795A (en) * 1990-05-24 1994-05-31 Houston Advanced Research Center Halogen-assisted chemical vapor deposition of diamond
US5387443A (en) * 1992-07-09 1995-02-07 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Laser CVD method for synthesizing diamond

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5071677A (en) * 1990-05-24 1991-12-10 Houston Advanced Research Center Halogen-assisted chemical vapor deposition of diamond
EP0557281A1 (en) * 1990-05-24 1993-09-01 Houston Area Research Center Halogen-assisted chemical vapor deposition of diamond
US5316795A (en) * 1990-05-24 1994-05-31 Houston Advanced Research Center Halogen-assisted chemical vapor deposition of diamond
US5387443A (en) * 1992-07-09 1995-02-07 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Laser CVD method for synthesizing diamond

Similar Documents

Publication Publication Date Title
GB1213867A (en) Method of manufacturing silicon carbide single crystal filaments
SU339134A1 (ru) Способ наращивани граней алмаза
US4594264A (en) Method for forming gallium arsenide from thin solid films of gallium-arsenic complexes
Wajda et al. Epitaxial growth of silicon
GB991560A (en) Production of single crystal compounds
GB1598051A (en) Molecular-beam epitaxy
JPS5272399A (en) Method and apparatus for growth of single crystals of al2o3 from gas p hase
US4239584A (en) Molecular-beam epitaxy system and method including hydrogen treatment
Frigo et al. A method for dosing solid sources for MOVPE: excellent reproducibility of dosimetry from a saturated solution of trimethylindium
Armington Vapor transport of boron, boron phosphide and boron arsenide
Clarke et al. The rate of deposition and the morphology of zinc oxide deposited from Zn (v)/CO/CO 2/Ar gas mixtures
Kinoshita et al. Large homogeneous Pb1-xSnxTe single crystal growth by vapor-melt-solid mechanism
Sugiura et al. Low temperature phase diagram of In-Ga-P ternary system
GB1065728A (en) Improvements in or relating to the preparation of group b and vb compound crystals
JPS589796B2 (ja) 分子線結晶成長方法
US3597171A (en) Method of crystallization using solvent removal by reaction
GB1229900A (ru)
Faust Jr et al. Influence of solvent and impurities on habit and morphology of semiconductor crystals
Henning Condensation coefficients of gold on NaCl single crystals
MX169875B (es) Procedimiento mejorado para la preparacion de peliculas epitaxiales de metales de los grupos ii-vi
JPH02199095A (ja) 分子線エピタキシャル成長装置
JPH01103991A (ja) 人工ダイヤモンド膜の形成方法
US3677717A (en) Apparatus and method for producing ii-vi crystals
JPS5841655B2 (ja) ブンシセンケツシヨウセイチヨウホウホウ
SU136328A1 (ru) Способ выращивани монокристаллов карбида кремни