SU315723A1 - DEVICE FOR CATHODE SPRAYING - Google Patents
DEVICE FOR CATHODE SPRAYINGInfo
- Publication number
- SU315723A1 SU315723A1 SU1387826A SU1387826A SU315723A1 SU 315723 A1 SU315723 A1 SU 315723A1 SU 1387826 A SU1387826 A SU 1387826A SU 1387826 A SU1387826 A SU 1387826A SU 315723 A1 SU315723 A1 SU 315723A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- cathode
- anode
- located opposite
- cylinders
- spraying
- Prior art date
Links
- 238000005507 spraying Methods 0.000 title description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching Effects 0.000 description 1
Description
Изобретение относитс к области микроэлектроники и может быть использовано дл получени катодным распылением многослойных пленок и пленок из смеси компонентов разных материалов.The invention relates to the field of microelectronics and can be used to obtain multilayer films and films from a mixture of components of different materials by cathode sputtering.
Известно устройство дл катодного распылени с применением нескольких катодов. В известном устройстве катоды выполнены в виде отдельных плоских секторов, изготовленных из разных материалов. Напр жение на каждый катод подаетс отдельно.A device for cathode sputtering using several cathodes is known. In the known device, the cathodes are made in the form of separate flat sectors made of different materials. The voltage on each cathode is supplied separately.
Цель изобретени - избирательное распыление и упрощение процесса распылени многослойных пленок и смесей компонентов разных материалов в течение одного цикла вакуумировани . Дл достижени цели катод выполнен в виде последовательно расположенных в соответствии с заданной последовательностью напылени цилиндров из различных материалов, цилиндры соединены между собой торцами, что обеспечивает надежный электрический контакт, а напротив части рабочей поверхности катода с возмол ностью перемещени вдоль оси катода расположен экран.The purpose of the invention is to selectively spray and simplify the process of spraying multilayer films and mixtures of components from different materials during one vacuum cycle. To achieve the goal, the cathode is made in the form of successively arranged cylinders made of various materials in accordance with a given sequence, the cylinders are interconnected with each other, which ensures reliable electrical contact, and a screen is located opposite the cathode working surface with possible movement along the cathode axis.
На чертеже схематически изображено устройство .The drawing schematically shows the device.
разр д напротив части рабочей поверхности катода, изготовлены в виде цилиндров, расположенных напротив рабочей поверхности катода на рассто нии, меньшем глубины темного катодного пространства, и заземлены. Анод (анод-подложкодержатель) 4 расположен напротив катода в том месте, где нет экранов 2 II 3. Анод заземлен. Экран 5 расположен напротив нерабочей поверхности катода / на рассто нии, меньшем глубины темлого катодного пространства. Катод /, анод 4 и экраны 2, 3 и о размещены в вакуумной камере 6. Газ из камеры откачивают через отверстие 7. Высокое напр жение на катод подают через высоковольтный ввод 8. Камеру наполн ют рабочим газом через отверсгие 9. Подлол ки JO, на которые напыл ют распыл емый материал, располол ены напротив центра отверсти между экранами 2 и 3.The discharge opposite the part of the cathode working surface is made in the form of cylinders located opposite the working surface of the cathode at a distance less than the depth of the dark cathode space, and grounded. The anode (anode-substrate holder) 4 is located opposite the cathode in the place where there are no screens 2 II 3. The anode is grounded. The screen 5 is located opposite the non-working surface of the cathode / at a distance smaller than the depth of the dark cathode space. The cathode /, anode 4 and shields 2, 3 and o are placed in the vacuum chamber 6. Gas is pumped out of the chamber through the opening 7. High voltage is supplied to the cathode through the high-voltage bushing 8. The chamber is filled with working gas through the holes 9. on which the sprayed material is sprayed, is located opposite the center of the hole between shields 2 and 3.
Устройство дл катодного распылени работает следующим образом. После откачки рабочего объема камеры до вакуума IQ мм рт. ст. в нее через отверстие 9 нагнетают рабочий газ, например аргон, до давлени The cathode sputtering apparatus operates as follows. After pumping out the working volume of the chamber to vacuum IQ mm Hg. Art. a working gas, for example argon, is injected through the opening 9 into it to a pressure
мм рт. ст. При подаче на катод напр жени пор дка 1-10 кв возникает тлеющий разр д, следствием которого вл етс распыление материала катода и осаждение его на подложках 10, причем разр д возними 2 и 5. Роль экранов 2 и 5 состоит в подавлении тлеющего разр да напротив тех участков катода, в распылении которых в данный момент нет необходимости. При вертикальном леремещепии экранов 2 и 5 и анода 4 с подложками 10 вдоль катода производитс последовательное напыление на,подложки слоев различных материалов, из которых сделаны цилиндры катода. В случае необходимости , возможно одновременное распыление нескольких материалов. mm Hg Art. When a voltage of the order of 1-10 kv is applied to the cathode, a glow discharge occurs, resulting in sputtering of the cathode material and its deposition on the substrates 10, and the discharge will be 2 and 5. The role of screens 2 and 5 is to suppress the glow discharge opposite those areas of the cathode, the dispersion of which is currently not necessary. When the vertical displacement of the shields 2 and 5 and the anode 4 with the substrates 10 along the cathode is carried out, the substrates are coated on different layers of various materials from which the cathode cylinders are made. If necessary, it is possible to simultaneously spray several materials.
Предмет изобретени Subject invention
Устройство дл катодного распылени , состо щее из вакуумной камеры с расположенной внутри нее электродной системой, соединенной с источником высокого напр лсени , анода, цилиндрического катода и экранов дл гашени тлеющего разр да, отличающеес тем, что, с целью избирательного распылени и уирощени процесса распылени многослойных пленок и смесей компонентов разных материалов в течение одного цикла вакуумировапи , катод выполнен в виде последовательно расположенных в соответствии с заданной пос педовательностью напылени электрически соединенных между собой торцовыми поверхност ми цилиндров из различных материалов, а экран расположен напротив части рабочей поверхности катода г. возможностью перемещени вдоль оси катода .A cathode sputtering device consisting of a vacuum chamber with an electrode system located inside it, connected to a high voltage source, an anode, a cylindrical cathode, and a glow discharge quenching screen, characterized in that, in order to selectively spray and dilute the process of spraying multilayer films and mixtures of components of different materials during one vacuum cycle, the cathode is made in the form of successively arranged in accordance with a given order of spraying an insulating interconnected by end faces of cylinders of various materials, and the screen is located opposite the portion of the cathode working surface is movable along the axis of the cathode.
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU315723A1 true SU315723A1 (en) |
Family
ID=
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4392931A (en) * | 1981-03-30 | 1983-07-12 | Northern Telecom Limited | Reactive deposition method and apparatus |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4392931A (en) * | 1981-03-30 | 1983-07-12 | Northern Telecom Limited | Reactive deposition method and apparatus |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5103766A (en) | Vacuum arc vapor deposition device having electrode switching means | |
US3839182A (en) | Triode device for sputtering material by means of a low voltage discharge | |
SU315723A1 (en) | DEVICE FOR CATHODE SPRAYING | |
KR100318022B1 (en) | Discharge cell and its manufacturing method | |
US4802968A (en) | RF plasma processing apparatus | |
KR100220292B1 (en) | Device and method for cleaning a shield in a physical vapor deposition chamber | |
RU197338U1 (en) | SMALL LOW VOLTAGE CONTROLLED VACUUM DISCHARGE | |
RU210126U1 (en) | CONTROLLED VACUUM SPARGER WITH FILM ELECTRODES | |
SU241196A1 (en) | DEVICE FOR ION CLEANING AND APPLICATION | |
US4419380A (en) | Method for ion-aided coating on electrically insulating substrates | |
RU198751U1 (en) | CONTROLLED VACUUM PROTECTION ARRESTER | |
SU181200A1 (en) | METHOD OF TRAINING ELECTROCUMENT DEVICES FOR GLUE DISCHARGE | |
RU1573896C (en) | Device for plasmochemical etching materials | |
SU326659A1 (en) | PULSE source BEAM ELECTRONICALLY ALLOCATED INK-TEXCH; BHSjIHOTSMA | |
JPH06275562A (en) | Plasma treating device | |
RU2026417C1 (en) | Device for vacuum-plasma working gas application of nonconducting coatings on the articles | |
SU855784A1 (en) | Method of cleaning electric-discharge device electrodes | |
Dubinov et al. | Plasma gun based on the discharge along a dielectric surface | |
RU1834912C (en) | Apparatus for spray on coating | |
HU202021B (en) | Vacuum-erosion plasma accelerator | |
SU1177719A1 (en) | Method of preparing solid samples for mass-spectrometric analysis and device for accomplishment of same | |
SU1102408A1 (en) | Ion-getter pump | |
JPH06145973A (en) | Sputtering device | |
SU1108534A1 (en) | Gaseous-discharge spectroscopic lamp and process for manufacturing it | |
SU1504683A1 (en) | Method of producing vacuum arc-extinguishing chamber |