SU179160A1

SU179160A1 - METHOD OF ELECTROLYTIC DEPOSITION OF COPPER

Info

Publication number: SU179160A1
Application number: SU933310A
Authority: SU

Description

Изобретение относитс к электролитическому осаждению меди из полифосфатного электролита на железо и сталь.This invention relates to the electrolytic deposition of copper from a polyphosphate electrolyte on iron and steel.

Известны различные способы осаждени меди из не довитых пирофосфатных, щавелевокислых и других электролитов. Однако их нельз широко использовать, так как эти электролиты неустойчивы в работе, отличаютс сравнительно невысокой рассеивающей способностью и допускают при электролизе небольшие плотности тока. Цель предлагаемого - получить мелкокристаллические осадки меди, хорошо сцепленные с основным л1еталлом , из безвредного вполне доступного и устойчивого электролита. Дл этого в состав электролита в качестве комплексообразовател ввод т один из полифосфатов, например гексаметафосфат натри . Предложенный электролит содержит (в г/л): меди сериокислой 50, гексаметафосфата натрн 370 н трилона Б 0,5-1,5. Процесс меднени ведут при комнатной температуре и плотности тока от 0,5 до 2,0 а/дм. При повышеиин температуры до 60°С и перемешивании электролита плотность тока можно повысить от 3,5 до 4,0 а/дм-. Various methods are known for the deposition of copper from unsaturated pyrophosphate, oxalate, and other electrolytes. However, they cannot be widely used, since these electrolytes are unstable in operation, differ in their relatively low scattering ability, and allow small current densities during electrolysis. The goal of the proposed project is to obtain fine crystalline copper deposits, which are well coupled with the main metal, from a harmless, quite affordable and stable electrolyte. For this purpose, one of polyphosphates, for example sodium hexametaphosphate, is introduced into the electrolyte as a complexing agent. The proposed electrolyte contains (in g / l): copper seriocarbon 50, hexametaphosphate natrn 370 n Trilon B 0.5-1.5. The copper plating process is carried out at room temperature and a current density of from 0.5 to 2.0 a / dm. With elevated temperatures up to 60 ° C and stirring of the electrolyte, the current density can be increased from 3.5 to 4.0 A / dm-.

Методика приготовлени электролита очеиь проста. В раствор гексаметафосфата натри ввод т сернокислую медь либо раствор ее и рЫ электролита довод т до 7,0 добавлениемThe electrolyte preparation method is very simple. Copper sulfate is introduced into the solution of sodium hexametaphosphate or its solution, and the PX electrolyte is adjusted to 7.0 by adding

едкого натра. Затем в раствор ввод т трилон Б (двунатриева соль этилендиаминтетрауксусной кислоты) и фильтруют.caustic soda. Then, Trilon B (ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt) is introduced into the solution and filtered.

Проведенные исследовани показали, что покрыти , полученные по предложенному способу, отличаютс однородной мелкозернистой структурой и, начина с 7-10 мк, беспористы . Рассеивающа способность электролита равна 28-30% по Херингу и Блюму. Катодный выход по току составл ет 96-98%. При плотности тока 1,5 а/дм в течение 30 лшн толщина покрыти достигает 16-22 мк.Studies have shown that the coatings obtained by the proposed method have a homogeneous fine-grained structure and, starting with 7-10 microns, are non-porous. The scattering power of the electrolyte is 28–30% according to Hering and Blume. Cathode current efficiency is 96-98%. At a current density of 1.5 a / dm for 30 hours, the coating thickness reaches 16-22 microns.

Предмет изобретени Subject invention

Claims

1. A method of electrolytic deposition of copper on iron and steel from an electrolyte containing copper sulphate and trilon B, characterized in that polyphosphate, for example, imatri hexametaphosphate is added to electrolyte to produce fine-grained dense sediments.

2. A method according to claim 1, characterized in that the deposition of copper is carried out from an electrolyte containing (in g / l): copper sulfate 50, hexametaphosphate and sodium 370 n trilo: p B 0.5-1.5 at a temperature of n and cathode current density from 0.5 to 2.0 a- / dm-.