SU179160A1 - METHOD OF ELECTROLYTIC DEPOSITION OF COPPER - Google Patents

METHOD OF ELECTROLYTIC DEPOSITION OF COPPER

Info

Publication number
SU179160A1
SU179160A1 SU933310A SU933310A SU179160A1 SU 179160 A1 SU179160 A1 SU 179160A1 SU 933310 A SU933310 A SU 933310A SU 933310 A SU933310 A SU 933310A SU 179160 A1 SU179160 A1 SU 179160A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
copper
electrolyte
electrolytic deposition
hexametaphosphate
deposition
Prior art date
Application number
SU933310A
Other languages
Russian (ru)
Publication of SU179160A1 publication Critical patent/SU179160A1/en

Links

Description

Изобретение относитс  к электролитическому осаждению меди из полифосфатного электролита на железо и сталь.This invention relates to the electrolytic deposition of copper from a polyphosphate electrolyte on iron and steel.

Известны различные способы осаждени  меди из не довитых пирофосфатных, щавелевокислых и других электролитов. Однако их нельз  широко использовать, так как эти электролиты неустойчивы в работе, отличаютс  сравнительно невысокой рассеивающей способностью и допускают при электролизе небольшие плотности тока. Цель предлагаемого - получить мелкокристаллические осадки меди, хорошо сцепленные с основным л1еталлом , из безвредного вполне доступного и устойчивого электролита. Дл  этого в состав электролита в качестве комплексообразовател  ввод т один из полифосфатов, например гексаметафосфат натри . Предложенный электролит содержит (в г/л): меди сериокислой 50, гексаметафосфата натрн  370 н трилона Б 0,5-1,5. Процесс меднени  ведут при комнатной температуре и плотности тока от 0,5 до 2,0 а/дм. При повышеиин температуры до 60°С и перемешивании электролита плотность тока можно повысить от 3,5 до 4,0 а/дм-. Various methods are known for the deposition of copper from unsaturated pyrophosphate, oxalate, and other electrolytes. However, they cannot be widely used, since these electrolytes are unstable in operation, differ in their relatively low scattering ability, and allow small current densities during electrolysis. The goal of the proposed project is to obtain fine crystalline copper deposits, which are well coupled with the main metal, from a harmless, quite affordable and stable electrolyte. For this purpose, one of polyphosphates, for example sodium hexametaphosphate, is introduced into the electrolyte as a complexing agent. The proposed electrolyte contains (in g / l): copper seriocarbon 50, hexametaphosphate natrn 370 n Trilon B 0.5-1.5. The copper plating process is carried out at room temperature and a current density of from 0.5 to 2.0 a / dm. With elevated temperatures up to 60 ° C and stirring of the electrolyte, the current density can be increased from 3.5 to 4.0 A / dm-.

Методика приготовлени  электролита очеиь проста. В раствор гексаметафосфата натри  ввод т сернокислую медь либо раствор ее и рЫ электролита довод т до 7,0 добавлениемThe electrolyte preparation method is very simple. Copper sulfate is introduced into the solution of sodium hexametaphosphate or its solution, and the PX electrolyte is adjusted to 7.0 by adding

едкого натра. Затем в раствор ввод т трилон Б (двунатриева  соль этилендиаминтетрауксусной кислоты) и фильтруют.caustic soda. Then, Trilon B (ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt) is introduced into the solution and filtered.

Проведенные исследовани  показали, что покрыти , полученные по предложенному способу, отличаютс  однородной мелкозернистой структурой и, начина  с 7-10 мк, беспористы . Рассеивающа  способность электролита равна 28-30% по Херингу и Блюму. Катодный выход по току составл ет 96-98%. При плотности тока 1,5 а/дм в течение 30 лшн толщина покрыти  достигает 16-22 мк.Studies have shown that the coatings obtained by the proposed method have a homogeneous fine-grained structure and, starting with 7-10 microns, are non-porous. The scattering power of the electrolyte is 28–30% according to Hering and Blume. Cathode current efficiency is 96-98%. At a current density of 1.5 a / dm for 30 hours, the coating thickness reaches 16-22 microns.

Предмет изобретени Subject invention

Claims (2)

1.Способ электролитического осаждени  меди на железо и сталь из электролита, содержащего сернокислую медь и трилон Б, отличающийс  тем, что, с целью получени  мелкозернистых плотных осадков, хорошо сцепленных с основой, в состав электролита ввод т полифосфат, например гексаметафосфат иатри .1. A method of electrolytic deposition of copper on iron and steel from an electrolyte containing copper sulphate and trilon B, characterized in that polyphosphate, for example, imatri hexametaphosphate is added to electrolyte to produce fine-grained dense sediments. 2.Способ по п. 1, отличающийс  тем, что осаждение меди ведут из электролита, содержащего (в г/л): меди сернокислой 50, гексаметафосфата иатри  370 н трило1:п Б 0,5-1,5 при комиатиой температуре н катодной плотности тока от 0,5 до 2,0 а-/дм-.2. A method according to claim 1, characterized in that the deposition of copper is carried out from an electrolyte containing (in g / l): copper sulfate 50, hexametaphosphate and sodium 370 n trilo: p B 0.5-1.5 at a temperature of n and cathode current density from 0.5 to 2.0 a- / dm-.
SU933310A METHOD OF ELECTROLYTIC DEPOSITION OF COPPER SU179160A1 (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU179160A1 true SU179160A1 (en)

Family

ID=

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2509832C2 (en) * 2012-05-15 2014-03-20 Сергей Сергеевич Моисеев Method of electrolytic application of metal coatings

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2509832C2 (en) * 2012-05-15 2014-03-20 Сергей Сергеевич Моисеев Method of electrolytic application of metal coatings

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4482744B2 (en) Electroless copper plating solution, electroless copper plating method, wiring board manufacturing method
US3576724A (en) Electrodeposition of rutenium
RU2334831C2 (en) Electrolyte of copper coating
SU179160A1 (en) METHOD OF ELECTROLYTIC DEPOSITION OF COPPER
US3793162A (en) Electrodeposition of ruthenium
CN1024569C (en) Solution and its process for chemical plating of corrosion resisting amorphous phosphorus-nickel alloy
US4212708A (en) Gold-plating electrolyte
Radovici et al. Some aspects of copper electrodeposition from pyrophosphate electrolytes
US2489523A (en) Electrodeposition of tin or lead-tin alloys
CN111850629A (en) Cyanide-free alkali copper electroplating solution and electroplating method
US2131427A (en) Process of electrolytically depositing iron and nickel alloy
SU699037A1 (en) Electrolyte for depositing nickel-phosphorus alloy coatings
RU2132889C1 (en) Process of preparation of electrolyte for deposition of metal nickel ( versions )
SU255725A1 (en) METHOD OF PREPARING STEEL SURFACES
SU160067A1 (en)
RU2219293C1 (en) Copper plating electrolyte
SU311903A1 (en) METHOD OF OBTAINING 3,5-DIAMIPOBENZOIC ACID
RU2779419C1 (en) Copper electroplating method
SU357267A1 (en) METHOD OF ELECTROLYTIC DEPOSITION OF THE ALLOYS
US3293161A (en) Method for starting up mercury cathode electrolytic cells
RU2334830C2 (en) Method of preparation of phosphonic electrolytes and solutions
SU1761820A1 (en) Electrolyte for copper plating
SU377429A1 (en) PIENTNO'TEHGST
US3692642A (en) Electrodeposition of osmium and baths therefor
SU1357463A1 (en) Electrolyte for applying nickel coatings