SU1488338A1 - Электродный материал на основе карбида вольфрама для получения покрытия электроискровым легированием 2 - Google Patents

Электродный материал на основе карбида вольфрама для получения покрытия электроискровым легированием 2 Download PDF

Info

Publication number
SU1488338A1
SU1488338A1 SU874320898A SU4320898A SU1488338A1 SU 1488338 A1 SU1488338 A1 SU 1488338A1 SU 874320898 A SU874320898 A SU 874320898A SU 4320898 A SU4320898 A SU 4320898A SU 1488338 A1 SU1488338 A1 SU 1488338A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
tungsten carbide
thickness
layer
coating
tmp
Prior art date
Application number
SU874320898A
Other languages
English (en)
Inventor
Anatolij D Verkhoturov
Irina A Podchernyaeva
Valentina A Gordienko
Viktor V Vinogradov
Nina S Stolyarova
Original Assignee
Inst Gornogo Dela Dalnevostoch
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inst Gornogo Dela Dalnevostoch filed Critical Inst Gornogo Dela Dalnevostoch
Priority to SU874320898A priority Critical patent/SU1488338A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1488338A1 publication Critical patent/SU1488338A1/ru

Links

Description

Изобретение относится к порошковой металлургии, в частности к электродным материалам на основе карбида вольфрама для получения покрытия электроискропым легированием. Целью изобретения является улучшение массопереноса, увеличение толщины, сплошности, твердости покрытия. Предложен материал следующего состава, мае, %: карбид титана 4,5-29,4, кобальт 3,8-9,6, титаномагнетит 2-4, карбид вольфрама - остальное, который позволяет увеличить эффективность процесса упрочнения в 5,0 раз, толщину легированного слоя катода (сталь Ст. 3) в 1,7 раза, микротвердость покрытия в 1,5 раза, а сплошность покрытия на 10-30%. 2 табл.
Изобретение относится к порошковой; металлургии, в частности,к материалам на основе карбида вольфрама для получения покрытия электроискровым легированием.
Цель· изобретения - повышение массопереноса, увеличение толщины, сплошности, твердости покрытия.
Предложен электродный материал следующего состава, мае. %:
Карбид титана 4,5-29,4
Кобальт 3,8-9,6
Титаномагнетит 2-4
Карбид вольфрама Остальное
П р и м е р. Для получения концентрата титаномагнетитовой россыпи исходную пробу месторождения подвергали магнитной сепарации с целью удаления немагнитных компонентов и затем
восстановлению в токе водорода в течение 1 ч при 1100 С с целью улучшения прессуемости шихты. После магнитной сепарации получали многокомпонентную смесь оксидных фаз (табл. 1), в которой присутствовали также, по данным атомно-абсорбционного анализа, хром и никель.
Химанализ пробы титаномагнетитовой ^россыпи после магнитной сепарации представлен в табл. 1.
Продукты магнитной сепарации после отжига в атмосфере водорода размалывали в алундовой ступке до пылеобразного состояния с целью увеличения дисперсности отдельных компонентов шихты для получения однородной смеси.
По данным 'рентгенофазового анализа
основной фазовой составляющей коицено©
сю
05
05
СЮ
з 1488338
4
трата титаномагнетитовой россыпи является магнетит Ге204, присутствует также ильменит ΡεΤίΟ^ и пироксены: ЫаРе81706 (этрин); (Са^Ме^Ке^,
о,2о^21.46 А1о,5+) 2.0(, (фассаит) , выявлены следы </-Ре.
Для получения материалов электродов были приготовлены 6 составов, отличающихся содержанием добавки к сплаву Т30К4 концентрата титаномагнетитовой россыпи. Режим прессования и спекания приготовленных· смесей соответствовал режиму получения 100% ^стандартной твердосплавной смеси Т30К4 согласно ГОСТ 3882-74.
Покрытия наносили на установке
”Элитрон-21" в режиме 111: 1«у=
= 1А, £ = 1000 Гц.В качестве катода 20
использовали сталь Ст. 3. Параметры
массопереноса (удельные й суммарные •ь
эрозии анода Δ а, а и привес катода А К, 21Δ К (соответственно) исследовали гравиметрически с точностью 25
4
не хуже 10 г. Эффективность процесса электроискрового легирования (^) определяли по Формуле
у = (см3/мин). 30
где.Сх - порог хрупкого разрушения
легированного слоя, определяемый временем, при котором впервые фиксируется отрицательный удельный привес катода;
К| - коэффициент переноса матери· * ала, равный отношению АК/йа за одну минуту ЭИЛ и усредненный за время Сх. Металлографический и дюрометрический анализы легированного слоя проводили на приборах ПМТ-3, ММР-2Р.
Результаты испытаний представлены в табл. 2.
Как следует из данных, представленных в табл. 2, предложенный материал обеспечивает повышение массло— переноса, увеличение толщины, сплошности и твердости покрытия по Сравнению с известным материалом.

Claims (1)

  1. Формула изобретения
    Электродный материал на основе карбида вольфрама для получения покрытия электроискровым легированием, содержащий карбид титана и кобальт, отличающийся тем, что, с целью повышения массопереноса, увеличения толщины, сплошности, твердости покрытия, он дополнительно содержит титаномагнетит при следующем соотношении ингредиентов, мае. %:
    Карбид титана Кобальт
    Титаномагнетит Карбид вольфрама
    4,5-29,4
    3,8-9,6
    2-4
    Остальное,
    Таблица 1
    Соединение
    Ге2О3 ГеО τίο2 Λ1203. 8ΐ02 МпО М§0 СаО 80 з Ыа20 Кг0
    Содер
    жание,
    мас.% 46,73 35,02 8,40 3,20 3,20 0,05
    0,58 0,32 0,01 0,54
    0,11 0,71 0,5
    Т а б ли ц а 2
    Состав материала Микротвер- Толщина Сплош- Эффектив-.:. . электрода, мае. % дость слоя, слоя, . ность, ность, ГПа мкм % у·10'*см3/мин
    29,40Τΐ0 + 3,92Со +
    + 64,68МС + 2ТМР 17,00 25 75 2,08
    29,10 ΤΪ0 + 3,90 Со +
    ..+64,00 ИС + 3 ТМР 19,80 17 75 2,32
    Продолжение табл.2
    1488338
    Состав материала электрода, мае» Ζ Микротвердость слоя, ГПа Толщина слоя, мкм Сплошность , X Эффектив? ность, у·10“*см1/мин 28,8 ТгС + 3,80 Со + +63,40 ИС + 4 ТИР 25,5 25 95 5,9 4,80 ΤίΟ + 9,60 Со + +81,60 НС + 4 ТМР 17,50 15 95 8,52 4,5 ’ТхС + 9,5 Со + +82 НС + 4 ТМР 18,60 15 90 7,83 Т30К4 (известный) 16,80 14 65 1,70
SU874320898A 1987-08-21 1987-08-21 Электродный материал на основе карбида вольфрама для получения покрытия электроискровым легированием 2 SU1488338A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU874320898A SU1488338A1 (ru) 1987-08-21 1987-08-21 Электродный материал на основе карбида вольфрама для получения покрытия электроискровым легированием 2

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU874320898A SU1488338A1 (ru) 1987-08-21 1987-08-21 Электродный материал на основе карбида вольфрама для получения покрытия электроискровым легированием 2

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1488338A1 true SU1488338A1 (ru) 1989-06-23

Family

ID=21333448

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU874320898A SU1488338A1 (ru) 1987-08-21 1987-08-21 Электродный материал на основе карбида вольфрама для получения покрытия электроискровым легированием 2

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1488338A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102732766A (zh) * 2012-07-06 2012-10-17 四川大学 一种粗晶粒硬质合金材料及其制备方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102732766A (zh) * 2012-07-06 2012-10-17 四川大学 一种粗晶粒硬质合金材料及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Funkenbusch et al. Reactive element-sulfur interaction and oxide scale adherence
Stroosnijder et al. The effect of niobium ion implantation on the oxidation behavior of a γ-TiAl-based intermetallic
Smeggil Some comments on the role of yttrium in protective oxide scale adherence
Shida et al. The influence of ternary element addition on the oxidation behaviour of TiAl intermetallic compound in high temperature air
Meier et al. The effects of reactive element additions and sulfur removal on the adherence of alumina to Ni‐and Fe‐base alloys
DE4112218A1 (de) Ueberzugssysteme zum oxidationsschutz von titan
Asami et al. A photoelectrochemical and ESCA study of passivity of amorphous nickel-valve metal alloys
SU1488338A1 (ru) Электродный материал на основе карбида вольфрама для получения покрытия электроискровым легированием 2
Sarkar et al. In vitro chloride corrosion behaviour of Dispersalloy
Amano Rare earth application for heat-resisting alloys
Stroosnijder Ion implantation for high temperature corrosion protection
Seri et al. The dissolution of FeAl3 intermetallic compound and deposition on aluminum in AlCl3 solution
Jirásková et al. Characterization of iron nitrides prepared by spark erosion, plasma nitriding, and plasma immersion ion implantation
US3486885A (en) Stainless steel alloy with low phosphorus content
US3342628A (en) Alloy diffusion process
Bornstein et al. The influence of sulfur on the oxidation of coatings
SU353494A1 (ru) Катод дл электродуговых процессов в активных средах
Stroosnijder et al. Effect of cerium implantation on the corrosion of alloy 800H in an SOC environment
SU1735418A1 (ru) Лигатура
Srinivasan et al. Oxidation and sulfidation of implanted and unimplanted AISI 446 steel
SU1098740A1 (ru) Материал дл электроискрового легировани
SU1507859A1 (ru) Состав дл химико-термической обработки алюмини и его сплавов
JP2006265634A (ja) 耐高温腐食Ni基合金
Yaniv et al. Absorption of Hydrogen by Very Strong Steels During Cadmium Plating: Part II—Hydrogen Absorption during Electrodeposition from Cd-TiO3 Baths
SU1731872A1 (ru) Состав дл диффузионного цинковани металлических изделий