SU1480883A2 - Устройство дл распылени жидкости - Google Patents

Abstract

Изобретение относитс  к технике распылени  жидкости и может быть использовано в полупроводниковом производстве дл  распылени  про вл ющего раствора при фотолитографической обработке полупроводниковых пластин и фотошаблонов. Цель - повышение качества распыла за счет исключени  образовани  капель раствора на выходных отверсти х. Дл  этого устройство дл  распылени  жидкости снабжено установленной в полости цилиндра заслонкой, выполненной в виде поплавка по длине полого цилиндра. Удельный вес материала поплавка меньше удельного веса распыл емой жидкости. Наличие заслонки обусловлено необходимостью перекрыти  выходных отверстий в момент окончани  технологического процесса, что исключает подсос жидкости из полости цилиндра и заполнение части объема цилиндра остатками жидкости. 2 ил.

Description

1

Изобретение относитс  к технике распылени  жидкости, может быть использовано , в частности в полупроводниковом производстве дл  распылени  про вл ющего раствора при фотолитографической обработке полупроводниковых пластин и фотошаблонов, и  вл етс  усовершенствованием устройства по авт. св. № 835501.

Цель изобретени  - повышение качества распыла за счет исключени  образовани  капель раствора на выходных отверсти х.

На фиг.1 изображена установка дл  нанесени  про вл ющего раствора на обрабатываемое изделие; на фиг.2 - устройство дл  распылени .

Установка дл  нанесени  про вл ющего раствора содержит сборник 1 обработанного растнора с патрубком 2.

В сборнике 1 установлена вакуумна  оправка 3 дл  закреплени  на ней обрабатываемого издели  4, например полупроводниковой подложки, соединенна  с приводом вращени  (не показан). Дл  подачи моющего про вл ющего раствора в устройство дл  распылени  служит трубопровод 5.

Устройство дл  распылени  жидкости содержит полый цилиндр 6 с отверсти ми 7, равномерно расположенными в его стенке. На наружной поверхности цилиндра 6 по его образующей выполнен паз 8, сообщающийс  с отверсти ми 7. Ширина паза 8 равна диаметру отверстий 7, а глубина - двум диаметрам отверстий 7.

Устройство также снабжено установленной в полости 9 цилиндра 6 заслойкой 10, выполненной в виде поп4

оо

о

00 00 00

N)

лавка по длине цилиндра 6, при этом удельный вес материала поплавка выбран меньшим удельного веса распыл емой жидкости. Дл  ограничени  перемещени  заслонки 10 в осевом направлении предусмотрена втулка 11,

Предпочтительно, заслонку 10 вы- полнить из фторопласта, так как этот материал инертен ко всем видам жидкости , не вносит загр знени  в нее.

Установка дл  нанесени  работает следующим образом.

Изделие 4 закрепл ют на вакуумной оправке 3, включают привод (не показан ). Изделие 4, закрепленное на вакуумной оправке 3, получает вращательное движение. Через трубопровод 5 под определенным давлением 0,2- 0,5 кгс/см в полость цилиндров 6 подают жидкость (деионизованную воду или про витель), котора  приводит заслонку 10 в движение - всплывает, открыва  отверсти  7, через которые жидкость в виде струй распыл етс  наружу и попадает на обрабатываемое изделие 4.

После окончани  технологического процесса обработки включаетс  систе

ма обратной подачи жидкости из полости 9 цилиндра 4 6. При этом заслонка 10 опускаетс  и перекрывает отверсти  7, т.е. жидкость удал етс  как с поверхности, так и из отверстий 7. По мере удалени  жидкости из устройства отверсти  7 перекрываютс , чем исключаетс  подсос воздуха в форсунку , т.е. весь объем жидкости удал етс  из полости 9, исключаетс  образование капель на выходе из отверстий и попадание их на обрабатываемую поверхность.

Claims (1)

1. Формула изобретени 

   Устройство дл  распылени  жидкости по авт.св. № 835501, отличающеес  тем, что, с целью повышени  качества распыла за счет ° исключени  образовани  капель раствора на выходных отверсти х, оно снабжено установленной в полости ци- 5 линдра заслонкой, выполненной в виде поплавка по длине цилиндра, при этом удельный вес материала поплавка выбран меньшим удельного веса распыл емой жидкости.

   5

   0

   фие.1

   в V

   Фие.2