SU1368655A1 - Рефлектометр дл вакуумного ультрафиолета - Google Patents

Abstract

Изобретение относитс  к оптическому приборостроению. Цель изобретени  - повышение точности измерени  коэффициента отражени  и сокращение времени измерений. Рефлектометр содержит источник монохроматического излучени  1, фотометрическую головку 2, в которой на внутренней поверхности вокруг выходного отверсти  4 нанесено флуоресцирующее вещество. Фотометрическа  головка 2 установлена на фотоприемнике 6. Дл  одновременного измерени  падающего и отра- женного лучей по ходу отраженного луча введен второй фотоприемник 7 с фотометрической головкой 8, в которой на внутренней зеркальной поверхности в месте приема отраженного -луча нанесено флуоресцирующее под воздействием вакуумного ультрафиолета вещество. Оба фотоприемника 6 и 7 подключены к обрабатывающей электронной схеме 13 с возможностью одновременного запуска. 1 ил. (Л

Description

//

00 О)

сх

О)

ел ел

cm If

| i / Внеи

залуск Sanff мнерггги 

. Изобретение относитс  к оптическому приборостроению и может быть использовано дл  автоматического измерени  спектрального распределени  абсолютного коэффициента зеркального отр ажени .

Цель изобретени  - повьшение точности определени  коэффициента отражени , сокращение времени измерений, упрощение конструкции рефлектометра и расширение спектрального диапазона

На чертеже приведена схема устройства в его обрабатывающей электронной схеме.

Рефлектометр содержит перестраиваемый по энергии фотонов источник 1 монохроматического излучени , зеркальную фотрметрическую головку 2 с отверсти ми 3 и 4 с блендами на них, причем внутренн   поверхность фотометрической головки вокруг отверсти  покрыта флуоресцирующим веществом 5 (салицилатом натри ). Выходное отверстие 4 вьтолнено таким, что периферическа  часть вход щего луча отсекаетс  кра ми отверсти  4 и задерживаетс  на флуоресцирующем покрытии 5.

Фотометрическа  головка 2,  вл юща с  дополнительной, второй,установлена на фотоприемнике (ФЭУ) 6. На фотоприемнике 7 установлена перва  фотометрическа  головка 8 с отверстием 9, имеющим бленду, и флуоресцирующим покрытием 10, наход щимс  напротив входного отверсти  9 на внутренней ее поверхности. Устройство содержит также держатель образца 11 и эталона 12 с механизмом их перемещени . Фотоприемники 6 и 7 подключены к электронной обрабатывающей схеме 13 с возможностью одновременной обработки электрических сигналов фотоприемников.

Обрабатывающа  электронна , схема включает два аналого-цифровых преобразовател  (АЦП) 14 и 15, к которым через усилители 16 и 17 соответственно подключены фотоприемники 6 и 7, АЦП подключены к входам специализированного управл ющего вычислительного устройства (СУВУ) 18, информаци  с которого выводитс  на графопостроитель 19 и печатающее устройство 20. СУВУ управл ет источником 1 монохроматического излучени .

Рефлектометр работает следующим образом.

СУВУ устанавливает, требуемое значение энергии излучени  источника I. Монохроматический луч от источника 1

проходит через отверсти  3 и 4 фотометрической головки 2. Часть луча, попада  на флуоресцирующее покрытие 5, вызывает его свечение, которое непосредственно или отража сь от зер- калькой внутренней поверхности фотометрической головки 2, попадает на фотоприемник. Луч отраженный от образца (или эталона), попадает в фотометрическую головку 8 через отверстие 9 на флуоресцирующее покрытие 10, вызыва  его свечение. Это свечение, непосредственно или отража сь от зеркальной внутренней поверхности фотометрической головки 8, попадает .на

фотоприемник 7. Электрические сигналы от фотоприемников 6 и 7 поступают каждый на свой АЦП через усилители 16 и 17. С подачей от СУВУ 18 импульса Запуск измерений на вход ВнешНИИ запуск .АЦП 14 и 15 происходит одновременное преобразование сигналов , поступающих на АЦП в цифровой код. После завершени  преобразовани  СУВУ принимает двоичнзто информацию

с выходов АЦП 14 и 15. Информаци  запоминаетс  в пам ти СУВУ. После этого устанавливает новое значение энергии излучени , источника 1 . После завершени  накоплени  информации в пам ти СУВУ при различных значени х энергии источника излучени  такие же измерени  провод т с эталоном. Информаци  от АЦП заноситс  в другую область пам ти СУВУ. После завершени  сканировани  информаци  обрабатываетс  и выводитс  с помощью графопостроител  19 и печатающего устройства 20.

Таким образом, рефлектометр- позвол ет повысить точность определени  коэффициента отражени  и сократить врем  измерений за счет одновременного измерени  падающего и отраженного лучей и трансформации ВУФ излучени 

в излучение, наход щеес  в диапазоне максимальной чувствительности фотоприемников; упростить конструкцию рефлектометров за счет замены сложного по исполнению зеркального коммутатора второй однотипной по конструкции с первой зеркальной фотометрической головкой с фотоприемниками и флуоресцирующим покрытием в местах падени  излучени .

)

Claims (1)

1. Формула изобретени 

   Рефлектометр дл  вакуумного ультрафиолета , содержащий источник излучени  и расположенные последовательно по ходу излучени  держатель образ ца и эталона, а также фотометрическую головку с входным отверстием и зеркальной внутренней поверхностью и соединенный с фотометрической головкой и оптически св занный с ней фотоприемник с обрабатывающей электронной схемой, соединенной с источником излучени , отличающий с   тем, что, с целью расщирени  спектрального диапазона, повышени  точности, сокращени  времени изме ре- ний и упрощени  конструкции, рефлектометр дополнительно содержит вторую фотометрическую головку с входным и

   68655

   выходным отверсти ми и зеркальной внутренней поверхностью, второй фотоприемник , соединенный с второй фото- g метрической головкой и оптически св занный с ней, причем втора  фотометрическа  головка установлена между источником излучени  и держателем образца и эталона, а второй фотопри- 10 емник соединен с обрабатывающей электронной схемой, при этом диаметр выходного отверсти  второй фотометрической головки меньше диаметра ее входного отверсти , на внутренней по15 верхности второй фотометрической головки вокруг выходного отверсти  нанесено флуоресцирующее покрытие, причем идентичное покрытие нанесено на внутреннюю поверхность первой фото- 20 метрической головки напротив входного отверсти  по ходу излучени .