SU1302138A1 - Устройство контрол отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов - Google Patents
Устройство контрол отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов Download PDFInfo
- Publication number
- SU1302138A1 SU1302138A1 SU853910527A SU3910527A SU1302138A1 SU 1302138 A1 SU1302138 A1 SU 1302138A1 SU 853910527 A SU853910527 A SU 853910527A SU 3910527 A SU3910527 A SU 3910527A SU 1302138 A1 SU1302138 A1 SU 1302138A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- test structure
- deviations
- linear dimensions
- electrodes
- elements
- Prior art date
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к измерительной технике и может быть использовано дл контрол отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов в процессе их изготовлени . Целью изобретени вл етс повышение точности контрол отклонений размеров. Устройство дл контрол отклонений размеров фотошаблонов содержит емкостную тестовую структуру, вьшол-, ненную в виде конденсатора с компланарными электродами гребенчатой формы , обращенными один к другому свои- ми зубцами. Ширина зубцов электродов не менее чем в 10 раз меньше рассто ни между ними. Контроль отклонений линейных размеров фотошаблонов осуществл ют в процессе их изготовлени по величине емкости тестовой структуры , одновременно формируемой на заготовках с той же диэлектрической проницаемостью , путем сравнени ее с емкостью эталонной тестовой структуры с заданными размерами ее электро- i дов. 2 ил. В (Л
Description
1 13
Изобретение относитс к контрольно-измерительной технике и может быть использовано дл контрол отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов в процессе юс изготовлени , что позвол ет оценить стабильность технологических процессов.
Цель изобретени - повышение точности контрол отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов пу- тем повышени чувствительности емкостной тестовой структуры к отклонению размеров фотошаблонов.
На фиг,1 показана тестова структура в виде конденсатора с компланар ными электродами; на фиг.2 - зависимость относительной чувствительности емкостной тестовой структуры от соотношени между шириной зубцов ее гребенчатык электродов и рассто нием между ними.
Устройство дл контрол отклонени линейных размеров элементов фотошаблонов содержит емкостную тестовую структуру, вьшолненную в виде конденсатора с компланарными электродами 1 и 2, имеющими форму гребенокj обращенных одна к другой зубцами 3. Рассто ние d между зубцами не менее чем в 10 раз превьппает ширину b зуб- цов. Тестовую структуру выполн ют на поле фотошаблонов, заготовки которьк имеют одинаковую диэлектрическую проницаемость , лежащую в определенных пределах. Формирование тестовой стру ктуры осуществл ют в процессе изготовлени фотошаблонов. Электроды 1 и 2 тестовой структуры подключают в процессе измерени к какому-либо измерителю емкости.
Устройство дл контрол отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов работает следующим образом
5 0
0 5 0
5
38 . 2
В процессе изготовлени фотошаблонов измер ют каким-либо известным методом емкость между электродами 1 и 2 тестовой структуры, формируемой на заготовках одновременно с элементами фотошаблонов.
Сравнива полученную величину емкости с величиной емкости другой тестовой структуры, прин той за эталон, размеры элементов которой заранее известны благодар их измерению, например , с помощью фотоэлектрического координатометра,суд т об отклонении размеров элементов фотошаблонов от номинальных значений.
Благодар тому, что относительное изменение емкости, т.е. чувствитель- тестовой структуры к отклонению размеров ее зубцов от их номинальных значений повышаетс с уменьшением отношени b/d при практически неизменной длине f взаимного перекрыти зубцов 3 электродов 1 и 2 (фиг.2), обеспечиваетс повышение точности контрол отклонени линейных размеров фотошаблонов в процессе их изготовлени .
Claims (1)
- Формула изобретениУстройство контрол отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов , содержащее тестовую структуру, выполненную в виде конденсатора с компланарными электродами гребенчатой формы, обращенными один к другому зубцами, и выполненную на поле фотошаблонов, заготовки которых имеют одинаковую диэлектрическую проницаемость , отличающеес тем, что, с целью повышени точности контрол , ширина зубцов электродов тестовой структуры не менее чем в 10 раз меньше рассто ни между ними.Фие.15 г.8гг.о t.f1.2i0.8 во o.t 0,1 «tf o,t 1.9 г /.« %аг.ГСоставитель С.Скрьшник Редактор С.Патрушева Техред Н.Глущенко Корректор М.СамборскаЗаказ 1207/41 Тираж 678ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушска наб., д. 4/5Производственно-полиграфическое предпри тие, г.Ужгород, ул.Проектна , 4.« %
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU853910527A SU1302138A1 (ru) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | Устройство контрол отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU853910527A SU1302138A1 (ru) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | Устройство контрол отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SU1302138A1 true SU1302138A1 (ru) | 1987-04-07 |
Family
ID=21182614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU853910527A SU1302138A1 (ru) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | Устройство контрол отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| SU (1) | SU1302138A1 (ru) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7491476B1 (en) | 2008-04-16 | 2009-02-17 | International Business Machines Corporation | Photomask electrical monitor for production photomasks |
-
1985
- 1985-06-17 SU SU853910527A patent/SU1302138A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Патент GB № 2133890, кл. G 01 В 7/00, 1984. Захаров Н.П. и др. Контроль линейных размеров элементов металлизированных фотошаблонов с помощью емкостных тестовых структур. Сб. трудов МИЭТ Физические основы создани и совершенствовани технологического оборудовани в микроэлектронике, М., 1981, с.103-110. * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7491476B1 (en) | 2008-04-16 | 2009-02-17 | International Business Machines Corporation | Photomask electrical monitor for production photomasks |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE602005000684T2 (de) | Photoelektrischer Positionsgeber und Verfahren zur Herstellung von Gittern | |
| DE102009026462B4 (de) | Beschleunigungssensor | |
| DE3921756C1 (ru) | ||
| EP2908098B1 (de) | Lineargeber mit Kalibrierfunktionalität | |
| JPH0321901B2 (ru) | ||
| KR100242503B1 (ko) | 반도체 기판에 형성된 패턴의 오정렬 검출 마크 | |
| DE3644458C2 (de) | Verfahren zum Auswerten der Prozeßparameter bei der Herstellung von Halbleiteranordnungen sowie Anordnungen dafür | |
| EP1995566A2 (de) | Maßstab für eine Positionsmesseinrichtung und Positionsmesseinrichtung | |
| SU1302138A1 (ru) | Устройство контрол отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов | |
| DE2728361C2 (de) | Verfahren zum Feststellen eines vorgebbaren Endzustands eines Entwicklungs- oder Ätzvorgangs | |
| DE4233331C2 (de) | Anordnung zur Bestimmung von Positionen | |
| Page | Cumulative sum schemes using gauging | |
| DE10118366C2 (de) | Sensor zum Messen einer Ionenkonzentration oder Gaskonzentration | |
| EP1249699B1 (de) | Sensor zum Messen einer Gaskonzentration oder Ionenkonzentration | |
| EP1332374B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum elektrischen nullpunktabgleich für ein mikromechanisches bauelement | |
| DE3713131A1 (de) | Anschlagvorrichtung zum einrichten der werkstuecke in einer mit draht arbeitenden, numerisch gesteuerten funkenerosionsmaschine | |
| ATE73552T1 (de) | Linienbreitenverlustmessung. | |
| CH654915A5 (de) | Anordnung zur gerad- und ebenheitsmessung. | |
| DE2704524A1 (de) | Mikrometer mit digitaler ablesung | |
| DE10115850A1 (de) | Verbundschichtenbauart einer Sensorvorrichtung für Mehrfachmessungen | |
| EP0191899B1 (de) | Sensor zur Messung elektrischer Eigenschaften im elektrischen Feld | |
| KR880002624Y1 (ko) | 치수측정이 가능한 한계게이지 | |
| JPS6010740A (ja) | 半導体装置 | |
| SU1504493A1 (ru) | Емкостный дифференциальный датчик перемещений | |
| DE102004010499A1 (de) | Mikrostrukturierter Sensor |